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   硫酸鋇研磨分散機(jī),，硫酸鋇膠體磨，硫酸鋇研磨機(jī)，硫酸鋇溶液研磨分散機(jī)，研磨分散機(jī)是將膠體磨和分散機(jī)一體化的設(shè)備,，效果遠(yuǎn)遠(yuǎn)好于單臺膠體磨處理的效果，研磨分散機(jī)是一臺目前**型的研磨分散設(shè)備

   硫酸鋇,，適用于上,、下消化道造影。無臭,、無味粉末,，密度4.25-4.5，分解溫度＞1600℃。溶于熱濃硫酸,，幾乎不溶于水,、稀酸、醇,。水懸浮溶液對石蕊試紙呈中性。

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CMD2000研磨分散機(jī)為立式分體結(jié)構(gòu),有一定輸送能力,，可以處理高固含量有一定粘稠度物料，CM2000設(shè)計了符合漿液流體特性的特殊轉(zhuǎn)子,，進(jìn)行物料的推動輸送,；所有與物料接觸部位均為316L不銹鋼，機(jī)座采用304不銹鋼,；特殊要求如：硬度較大物料,，對鐵雜質(zhì)要求嚴(yán)苛的物料，管道有一定壓力并且需不間斷運轉(zhuǎn)的工況,，可選磨頭噴涂碳化物或陶瓷,；CMD2000改良型膠體磨腔體外有夾套設(shè)計，可通冷卻或者升溫介質(zhì),。

   硫酸鋇研磨分散機(jī)的特點：

①   線速度很高,，剪切間隙非常小，當(dāng)物料經(jīng)過的時候,，形成的摩擦力就比較劇烈,，結(jié)果就是通常所說的濕磨

②   定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形，具有精細(xì)度遞升的三級鋸齒突起和凹槽,。

③   定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離

④   在增強(qiáng)的流體湍流下,，凹槽在每級都可以改變方向。

⑤   高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料,，可以滿足不同行業(yè)的多種要求,。
 
  硫酸鋇研磨分散機(jī)，硫酸鋇膠體磨,，硫酸鋇研磨機(jī),，上海依肯研磨分散機(jī)是處理藥物混懸液的**設(shè)備！

從設(shè)備角度來分析,，影響研磨分散機(jī)效果因素有以下幾點：

1.研磨頭的形式（批次式和連續(xù)式）（連續(xù)式比批次式要好）

2.研磨頭的剪切速率,，（越大效果越好）

3.研磨的齒形結(jié)構(gòu)（分為初齒、中齒、細(xì)齒,、超細(xì)齒,、越細(xì)齒效果越好）

4.物料在分散墻體的停留時間、研磨分散時間（可以看作同等電機(jī),，流量越小效果越好）

5.循環(huán)次數(shù)（越多效果越好,，到設(shè)備的期限就不能再好了。）

線速度的計算：

剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對速率,。

剪切速率 (s-1) =      v  速率 (m/s)   
               g 定-轉(zhuǎn)子 間距 (m)

由上可知,，剪切速率取決于以下因素：

轉(zhuǎn)子的線速率

在這種請況下兩表面間的距離為轉(zhuǎn)子-定子 間距。 
IKN 定-轉(zhuǎn)子的間距范圍為 0.2 ~ 0.4 mm  

速率V=  3.14 X  D（轉(zhuǎn)子直徑）X 轉(zhuǎn)速 RPM  /   60

 所以轉(zhuǎn)速和分散頭結(jié)構(gòu)是影響分散的一個zui重要因素,，超高速分散均質(zhì)分散機(jī)的高轉(zhuǎn)速和剪切率對于獲得超細(xì)微懸浮液是zui重要的

CMD2000系列研磨分散機(jī)設(shè)備選型表
 

流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性,，可以被調(diào)節(jié)到zui大允許量的10%