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石墨烯納米硅復(fù)合研磨分散機(jī),，石墨烯復(fù)合材料研磨分散機(jī),，納米硅研磨分散機(jī),，石墨烯復(fù)合漿料研磨分散機(jī),，德國(guó)進(jìn)口高剪切研磨分散機(jī)，高轉(zhuǎn)速研磨分散機(jī),，膠體磨升級(jí)款研磨機(jī)

IKN研磨分散機(jī)設(shè)計(jì)獨(dú)特,，能夠延長(zhǎng)易損件的使用時(shí)間，因此尤其適合高硬度和高純度物料的粉碎,?？梢砸粰C(jī)多用，也可以單獨(dú)使用,，且粉碎粒度范圍廣,，成品粒徑可以進(jìn)行調(diào)整。

石墨烯自身的間內(nèi)躍遷及等離子體振蕩帶來的獨(dú)特光學(xué)特性,，用于紅外光探測(cè)有著突出的優(yōu)勢(shì),。但也存在著明顯的劣勢(shì)：本征石墨烯自身由于光吸收率低、缺乏光增益機(jī)制,，導(dǎo)致石墨烯探測(cè)器的光響應(yīng)率較低,；石墨烯自身的光生載流子壽命短,，僅皮秒左右，導(dǎo)致光生載流子難以有效收集,，也嚴(yán)重影響探測(cè)器的光響應(yīng)率,，石墨烯探測(cè)器的低響應(yīng)率無法滿足實(shí)際應(yīng)用的需要。目前,，通過對(duì)石墨烯進(jìn)行量子點(diǎn)修飾、構(gòu)筑 PN 結(jié),、分子或金屬摻雜及尺寸量子化等方式打開石墨烯帶隙,、石墨烯與等離子體納米結(jié)構(gòu)結(jié)合、石墨烯與微腔或硅波導(dǎo)集成等多種方法,，可以不同程度地提高石墨烯探測(cè)器的光響應(yīng)率,，以達(dá)到或接近實(shí)際應(yīng)用的需要,。

由于鋰離子電池具有高容量,、無記憶效應(yīng)、快速可逆充放電,、高庫(kù)倫效率等優(yōu)點(diǎn),，其已在便攜式電子產(chǎn)品如手機(jī)、筆記本電腦,、數(shù)碼相機(jī)等中得到廣泛應(yīng)用,。然而再近二十年來，人們?cè)俅笕萘夸囯x子二次電池的研究商進(jìn)展緩慢,。為滿足對(duì)高容量鋰離子二次電池的需求,，開發(fā)高容量,、低成本的新型電極材料具有很高的研究?jī)r(jià)值,。

   硅石一種理想的鋰離子電池負(fù)極材料,，其具有很高的理論儲(chǔ)鋰容量以及較低的儲(chǔ)理點(diǎn)位,。而在充放電過程中，硅極材料的體積效應(yīng)使得該材料容易粉化,，進(jìn)入從集流體上剝落,，從而導(dǎo)致容量迅速衰減,。而且，硅基材料的較差的循環(huán)穩(wěn)定性大大限制了其應(yīng)用

  石墨烯石油SP2雜化碳原子再二維平面以六角網(wǎng)格形式排列形成的準(zhǔn)二維材料,。因其柔性結(jié)構(gòu)、高的縱橫比,、優(yōu)異的導(dǎo)電性和化學(xué)穩(wěn)定性,。

上海依肯的研磨分散機(jī)特別適合于需要研磨分散均質(zhì)一步到位的物料。研磨分散機(jī)為立式分體結(jié)構(gòu),，精密的零部件配合運(yùn)轉(zhuǎn)平穩(wěn),，運(yùn)行噪音在73DB以下。同時(shí)采用德國(guó)博格曼雙端面機(jī)械密封,，并通冷媒對(duì)密封部分進(jìn)行冷卻,，把泄露概率降到低，保證機(jī)器連續(xù)24小時(shí)不停機(jī)運(yùn)行,。簡(jiǎn)單的說就是將IKN/依肯膠體磨進(jìn)行進(jìn)一步的改良，將單一的膠體磨磨頭模塊,，改良成兩級(jí)模塊,，加入了一級(jí)分散盤?？筛鶕?jù)物料要求進(jìn)行更換（我們提供了2P,，2G，4M,，6F,，8SF等五種乳化頭供客戶選擇） IKN研磨分散機(jī)可以高速研磨，分散,，乳化,，均質(zhì)等功能，設(shè)備轉(zhuǎn)速可達(dá)14000rpm,，是目前普通設(shè)備轉(zhuǎn)速的4-5倍,。

CMD2000系列研磨分散機(jī)的結(jié)構(gòu)：研磨式分散機(jī)是由錐體磨,分散機(jī)組合而成的高科技產(chǎn)品。

第yi級(jí)由具有精細(xì)度遞升的三級(jí)鋸齒突起和凹槽,。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離,。在增強(qiáng)的流體湍流下，凹槽在每級(jí)都可以改變方向,。

第二級(jí)由轉(zhuǎn)定子組成,。分散頭的設(shè)計(jì)也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子（乳化頭）和批次式機(jī)器的工作頭設(shè)計(jì)的不同主要是因?yàn)?/span> 在對(duì)輸送性的要求方面,，特別要引起注意的是：在粗精度,、中等精度、細(xì)精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是指定轉(zhuǎn)子齒的排列,，還有一個(gè)很重要的區(qū)別是 不同工作頭的幾何學(xué)特征不一樣,。狹槽數(shù),、狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例,，依據(jù)以前的經(jīng)驗(yàn)指定工作頭來滿 足一個(gè)具體的應(yīng)用,。在大多數(shù)情況下，機(jī)器的構(gòu)造是和具體應(yīng)用相匹配的,，因而它對(duì)制造出zui終產(chǎn)品是很重要,。當(dāng)不確定一種工作頭的構(gòu)造是否滿足預(yù)期的應(yīng)用。

CMD2000研磨分散機(jī)為立式分體結(jié)構(gòu),有一定輸送能力,，可以處理高固含量有一定粘稠度物料,，CM2000設(shè)計(jì)了符合漿液流體特性的特殊轉(zhuǎn)子，進(jìn)行物料的推動(dòng)輸送,；所有與物料接觸部位均為316L不銹鋼，機(jī)座采用304不銹鋼,；特殊要求如：硬度較大物料,，對(duì)鐵雜質(zhì)要求嚴(yán)苛的物料，管道有一定壓力并且需不間斷運(yùn)轉(zhuǎn)的工況,，可選磨頭噴涂碳化物或陶瓷,；CMD2000改良型膠體磨腔體外有夾套設(shè)計(jì)，可通冷卻或者升溫介質(zhì),。

研磨分散機(jī)的特點(diǎn)：

1,、 線速度很高，剪切間隙非常小,，當(dāng)物料經(jīng)過的時(shí)候,，形成的摩擦力就比較劇烈，結(jié)果就是通常所說的濕磨

2,、 定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形,，具有精細(xì)度遞升的三級(jí)鋸齒突起和凹槽。

3,、 定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離

4,、 在增強(qiáng)的流體湍流下，凹槽在每級(jí)都可以改變方向,。

5,、 高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料，可以滿足不同行業(yè)的多種要求,。

設(shè)備其它參數(shù):

設(shè)備等級(jí)：化工級(jí),、衛(wèi)生I級(jí)、衛(wèi)生II級(jí),、無菌級(jí)
電機(jī)形式：普通馬達(dá),、變頻調(diào)速馬達(dá),、防爆馬達(dá)、變頻防爆馬達(dá),、
電源選擇： 380V/50HZ,、220V/60HZ、440V/50HZ
電機(jī)選配件： PTC 熱保護(hù),、降噪型
研磨分散機(jī)材質(zhì)：SUS304 ,、SUS316L 、SUS316Ti,氧化鋯陶瓷
研磨分散機(jī)選配：儲(chǔ)液罐,、排污閥,、變頻器、電控箱,、移動(dòng)小車
研磨分散機(jī)表面處理：拋光,、耐磨處理
進(jìn)出口聯(lián)結(jié)形式：法蘭、螺口,、夾箍
研磨分散機(jī)選配容器：本設(shè)備適合于各種不同大小的容器

從設(shè)備角度來分析,，影響研磨分散機(jī)效果因素有以下幾點(diǎn)：

1.研磨頭的形式（批次式和連續(xù)式）（連續(xù)式比批次式要好）

2.研磨頭的剪切速率，（越大效果越好）

3.研磨的齒形結(jié)構(gòu)（分為初齒,、中齒,、細(xì)齒、超細(xì)齒,、越細(xì)齒效果越好）

4.物料在分散墻體的停留時(shí)間,、研磨分散時(shí)間（可以看作同等電機(jī)，流量越小效果越好）

5.循環(huán)次數(shù)（越多效果越好,，到設(shè)備的期限就不能再好了,。）

線速度的計(jì)算：

剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對(duì)速率。

剪切速率 (s-1) =      v  速率 (m/s)   
               g 定-轉(zhuǎn)子 間距 (m)

由上可知,，剪切速率取決于以下因素：

轉(zhuǎn)子的線速率

在這種請(qǐng)況下兩表面間的距離為轉(zhuǎn)子-定子 間距,。 
IKN 定-轉(zhuǎn)子的間距范圍為 0.2 ~ 0.4 mm  

速率V=  3.14 X  D（轉(zhuǎn)子直徑）X 轉(zhuǎn)速 RPM  /   60

 所以轉(zhuǎn)速和分散頭結(jié)構(gòu)是影響分散的一個(gè)zui重要因素，超高速分散均質(zhì)分散機(jī)的高轉(zhuǎn)速和剪切率對(duì)于獲得超細(xì)微懸浮液是zui重要的

CMD2000系列研磨分散機(jī)設(shè)備選型表
 

流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性,，可以被調(diào)節(jié)到zui大允許量的10%

工藝應(yīng)用:

食品纖維類物料的濕法超細(xì)破碎與均質(zhì)      可溶物(或互溶物)固體和液體加速溶解

動(dòng)物和植物組織的超細(xì)破碎及漿化加工      不相溶的固-液相懸浮物超細(xì)混合分散

不相溶的固-液相懸浮物超細(xì)混合分散       納米材料團(tuán)聚物的強(qiáng)力解聚與超細(xì)分散

IKN研磨分散機(jī)的應(yīng)用領(lǐng)域：

1,、  精細(xì)化工、顏料,、染料,、涂料、油漆,、塑料,、樹脂、熱熔膠、阻燃劑,、膠黏劑,、整理劑、表面活性劑,、均染劑防粘劑,、消泡劑、光亮劑,、橡膠助劑,、塑料輔劑、染料助劑,、絮凝劑,、混凝劑、表面活性劑溶劑,、硅油乳化,、樹脂乳化、炭墨分散

2,、  石油化工,、潤(rùn)滑油、重油混合,、油包水、包油水,、柴油乳化,、改性瀝青、乳化瀝青,、催化劑,、蠟乳化

3、  農(nóng)藥化肥 ,、化肥,、農(nóng)藥乳化、農(nóng)藥助劑,、農(nóng)藥中間體,、藥乳油、殺蟲劑,、除草劑,、種衣劑、殺菌劑,、植物激素,、尿素、復(fù)合肥、乳油濕性粉劑

4,、  生物醫(yī)藥,、細(xì)胞漿化、血清疫苗,、蛋白質(zhì)分散劑,、藥乳膏、抗生素,、糖衣

5,、  日用化工、護(hù)膚霜,、護(hù)膚膏,、洗滌劑、防腐劑,、美發(fā)用品,、牙膏、日用香精

6,、  食品工業(yè),、食品添加劑、香精香料,、果汁,、果醬、冰淇淋,、乳制品,、巧克力、植脂末

7,、  涂料油墨,、內(nèi)外墻涂料、乳膠漆,、納米涂料,、建筑膠、光固化涂料,、油墨,、墨水、碳黑,、涂料助劑釉,、膨潤(rùn)土