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鏡面金漿管線式高剪切研磨分散機(jī),，銀漿的制備方法,，高速研磨分散機(jī)，高剪切研磨分散機(jī),，管線式研磨分散機(jī),，德國進(jìn)口研磨分散機(jī)，升級版膠體磨,，改進(jìn)型膠體磨

IKN研磨分散機(jī)設(shè)計獨特,，能夠延長易損件的使用時間，因此尤其適合高硬度和高純度物料的粉碎,?？梢砸粰C(jī)多用，也可以單獨使用,，且粉碎粒度范圍廣,，成品粒徑可以進(jìn)行調(diào)整。

鏡面金漿的制備方法,，包括步驟1,、在一定厚度的PET薄膜上涂布一層干膜厚度不低于1um的離型涂料；步驟2,、通過PVD法或者離子濺射法在薄膜涂層上鍍上一層純度≥99％的銅,，形成鍍銅膜，膜厚在之間,；步驟3,、將鍍銅膜浸入一定質(zhì)量的溶劑中，離型涂層被溶解后,，鍍銅層則從薄膜上脫落下來,，分散在溶劑中；步驟4,、將銅膜懸浮液進(jìn)行濃縮,，得到固含量不低于50％的銅膏。本發(fā)明直接制得金色金屬顏料層,，可以**限度的兼顧色彩和鋁銀漿的光亮度(鏡面效果),，使客戶使用方便，省去調(diào)色環(huán)節(jié),，也可以降低部分成本,，用該工藝制備的鏡面金漿具有明艷的金色效果。

高速研磨分散機(jī),，研磨分散機(jī)是一款集研磨和分散一體化的設(shè)備,，是一項新的技術(shù)革新,。研磨分散機(jī)是將膠體磨（錐體磨）+高剪切分散機(jī)一體化的設(shè)備，先研磨后分散,，物料研磨后又瞬間進(jìn)行分散，避免了物料的二次團(tuán)聚,。

1,、超強(qiáng)的剪切力，CMD2000系列研磨分散機(jī)轉(zhuǎn)速高達(dá)14000rpm,，線速度為44m/s,，是普通設(shè)備的4-5倍。

2,、高精密度的定轉(zhuǎn)子,，超細(xì)研磨分散機(jī)的定轉(zhuǎn)子分為兩級，一級為膠體磨磨頭,，采用三級錯齒結(jié)構(gòu),，磨頭的溝槽的深度角度都符合流體力學(xué)的設(shè)計。第二級是分散頭,，IKN分散頭有六種不同的規(guī)格,，從粗到細(xì)，越來越密,，分散效果佳,。

3、機(jī)械密封,，超細(xì)的效果取決于高的轉(zhuǎn)速,，而轉(zhuǎn)速越高機(jī)械密封的發(fā)熱量就會越大，設(shè)備的機(jī)械密封是否能夠耐的住這么高的轉(zhuǎn)速,，國內(nèi)大多數(shù)廠家的機(jī)械密封是無法做到的,，而IKN研磨分散機(jī)采用德國博格曼雙端面機(jī)械密封，并配有機(jī)封冷卻系統(tǒng),，可以承受超高的轉(zhuǎn)速,，穩(wěn)定性高。

高速研磨分散機(jī)CMD2000系列研磨分散設(shè)備是IKN（上海）公司經(jīng)過研究剛剛研發(fā)出來的一款新型產(chǎn)品,，該機(jī)特別適合于需要研磨分散乳化均質(zhì)一步到位的物料,。我們將三級高剪切均質(zhì)乳化機(jī)進(jìn)行改裝，我們將三級變跟為一級,，然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭,，使物料可以先經(jīng)過膠體磨細(xì)化物料，然后再經(jīng)過乳化機(jī)將物料分散乳化均質(zhì),。膠體磨可根據(jù)物料要求進(jìn)行更換（我們提供了2P,，2G,，4M，6F,，8SF等五種乳化頭供客戶選擇）

研磨分散機(jī)的優(yōu)勢：

更穩(wěn)定 采用優(yōu)化設(shè)計理念,，將先進(jìn)的技術(shù)與創(chuàng)新的思維有效融合，并體現(xiàn)在具體的設(shè)備結(jié)構(gòu)設(shè)計中,，為設(shè)備穩(wěn)定運(yùn)行提供了保證.

新結(jié)構(gòu) 通過梳齒狀定子切割破碎,，縫隙疏密決定細(xì)度大小，超高線速度的吸料式葉輪提供超強(qiáng)切割力

更可靠 采用整體式機(jī)械密封,，**程度上解決了高速運(yùn)轉(zhuǎn)下的物料泄漏以及冷卻介質(zhì)污染等問題,，安裝與更換方便快捷.

新技術(shù) 采用國際先進(jìn)的受控切割技術(shù)，將纖維類物料粉碎細(xì)度控制在設(shè)定范圍之內(nèi),，滿足生產(chǎn)中的粗,、細(xì)及超細(xì)濕法粉碎的要求.

CMD2000系列研磨分散機(jī)設(shè)備選型表
 

流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性，可以被調(diào)節(jié)到**允許量的10%