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藥用輔料硬脂酸鎂分散機(jī)，硬脂酸鎂研磨分散機(jī),，水溶性淀粉研磨分散機(jī),，硬脂酸鎂高速分散機(jī)，硬脂酸鎂高剪切研磨分散機(jī),，硬脂酸鎂管線式分散機(jī),，硬脂酸鎂進(jìn)口研磨分散機(jī)，硬脂酸鎂衛(wèi)生級(jí)研磨分散機(jī),，硬脂酸鎂在線式研磨分散機(jī)

IKN研磨分散機(jī)設(shè)計(jì)獨(dú)特,，能夠延長(zhǎng)易損件的使用時(shí)間，因此尤其適合高硬度和高純度物料的粉碎,?？梢砸粰C(jī)多用，也可以單獨(dú)使用,，且粉碎粒度范圍廣,，成品粒徑可以進(jìn)行調(diào)整。

硬脂酸鎂為白色輕松無(wú)砂性的細(xì)粉,；微有特臭,；與皮膚接觸有滑膩感。本品在水,、乙醇或乙醚中不溶,，主要用作潤(rùn)滑劑、抗粘劑,、助流劑,。特別適宜油類、浸膏類藥物的制粒,，制成的顆粒具有很好的流動(dòng)性和可壓性,。在直接壓片中用作助流劑。還可作為助濾劑,、澄清劑和滴泡劑,，以及液體制劑的助懸劑、增稠劑,。

上海依肯的研磨分散機(jī)特別適合于需要研磨分散均質(zhì)一步到位的物料,。研磨分散機(jī)為立式分體結(jié)構(gòu),，精密的零部件配合運(yùn)轉(zhuǎn)平穩(wěn)，運(yùn)行噪音在73DB以下,。同時(shí)采用德國(guó)博格曼雙端面機(jī)械密封,，并通冷媒對(duì)密封部分進(jìn)行冷卻，把泄露概率降到低,，保證機(jī)器連續(xù)24小時(shí)不停機(jī)運(yùn)行,。簡(jiǎn)單的說(shuō)就是將IKN/依肯膠體磨進(jìn)行進(jìn)一步的改良，將單一的膠體磨磨頭模塊,，改良成兩級(jí)模塊,，加入了一級(jí)分散盤?？筛鶕?jù)物料要求進(jìn)行更換（我們提供了2P,，2G，4M,，6F,，8SF等五種乳化頭供客戶選擇） IKN研磨分散機(jī)可以高速研磨，分散,，乳化,，均質(zhì)等功能，設(shè)備轉(zhuǎn)速可達(dá)14000rpm,，是目前國(guó)產(chǎn)設(shè)備轉(zhuǎn)速的4-5倍,。

CMD2000模塊主要由兩層分散頭構(gòu)成，工作時(shí),，物料通過(guò)投料口進(jìn)入分散腔,，首先到達(dá)層分散頭進(jìn)行處理，由于馬達(dá)帶動(dòng)轉(zhuǎn)子齒列高速運(yùn)轉(zhuǎn),，產(chǎn)生渦流和離心力效應(yīng)使得物料軸向吸入分散頭,，然后沿著定-轉(zhuǎn)子之間的縫隙被高速壓出完成次剪切作用，之后在轉(zhuǎn)子齒列與定子齒列的強(qiáng)力剪切間隙中物料被強(qiáng)烈撕裂后從定子齒列縫隙中流出時(shí)完成第二次剪切,，接著流出的物料進(jìn)入第二層分散頭腔體,，對(duì)處理過(guò)的物料再次進(jìn)行剪切（原理同上），從而確?；旌戏稚@得很窄的粒徑分布，獲得更小的液滴和顆粒,，生成的混合液穩(wěn)定性更好,，滿足疫苗生產(chǎn)對(duì)于粒徑的要求。

CMD2000系列研磨分散機(jī)的結(jié)構(gòu)：研磨式分散機(jī)是由錐體磨,分散機(jī)組合而成的高科技產(chǎn)品,。

**級(jí)由具有精細(xì)度遞升的三級(jí)鋸齒突起和凹槽,。定子可以無(wú)限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離,。在增強(qiáng)的流體湍流下，凹槽在每級(jí)都可以改變方向,。

第二級(jí)由轉(zhuǎn)定子組成,。分散頭的設(shè)計(jì)也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子（乳化頭）和批次式機(jī)器的工作頭設(shè)計(jì)的不同主要是因?yàn)?/span> 在對(duì)輸送性的要求方面,，特別要引起注意的是：在粗精度,、中等精度、細(xì)精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是指定轉(zhuǎn)子齒的排列,，還有一個(gè)很重要的區(qū)別是 不同工作頭的幾何學(xué)特征不一樣,。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能,。根據(jù)以往的慣例,，依據(jù)以前的經(jīng)驗(yàn)指定工作頭來(lái)滿 足一個(gè)具體的應(yīng)用。在大多數(shù)情況下,，機(jī)器的構(gòu)造是和具體應(yīng)用相匹配的,，因而它對(duì)制造出zui終產(chǎn)品是很重要。當(dāng)不確定一種工作頭的構(gòu)造是否滿足預(yù)期的應(yīng)用,。

CMD2000研磨分散機(jī)為立式分體結(jié)構(gòu),有一定輸送能力,，可以處理高固含量有一定粘稠度物料，CM2000設(shè)計(jì)了符合漿液流體特性的特殊轉(zhuǎn)子,，進(jìn)行物料的推動(dòng)輸送,；所有與物料接觸部位均為316L不銹鋼，機(jī)座采用304不銹鋼,；特殊要求如：硬度較大物料,，對(duì)鐵雜質(zhì)要求嚴(yán)苛的物料，管道有一定壓力并且需不間斷運(yùn)轉(zhuǎn)的工況,，可選磨頭噴涂碳化物或陶瓷,；CMD2000改良型膠體磨腔體外有夾套設(shè)計(jì)，可通冷卻或者升溫介質(zhì),。

CMD2000系列研磨分散機(jī)設(shè)備選型表
 

流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性,，可以被調(diào)節(jié)到**允許量的10%