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上海依肯的研磨分散機特別適合于需要研磨分散均質(zhì)一步到位的物料,。研磨分散機為立式分體結(jié)構(gòu),，精密的零部件配合運轉(zhuǎn)平穩(wěn)，運行噪音在73DB以下,。同時采用德國博格曼雙端面機械密封,，并通冷媒對密封部分進行冷卻，把泄露概率降到低,，保證機器連續(xù)24小時不停機運行,。簡單的說就是將IKN/依肯膠體磨進行進一步的改良，將單一的膠體磨磨頭模塊,，改良成兩級模塊,，加入了一級分散盤,?？筛鶕?jù)物料要求進行更換（我們提供了2P,，2G，4M,，6F,，8SF等五種乳化頭供客戶選擇） IKN研磨分散機可以高速研磨，分散,，乳化,，均質(zhì)等功能，設(shè)備轉(zhuǎn)速可達14000rpm,，是目前國產(chǎn)設(shè)備轉(zhuǎn)速的4-5倍,。

蠕蟲狀膨脹石墨遇高溫可瞬間體積膨脹150~300倍,由片狀變?yōu)槿湎x狀,從而結(jié)構(gòu)松散,多孔而彎曲,表面積擴大,表面能提高,吸附鱗片石墨力增強,蠕蟲狀石墨之間可自行嵌合,這樣增加了它的柔軟性,回彈性和可塑性。 

蠕蟲狀膨脹石墨磨分散設(shè)備后續(xù)的應(yīng)用

在石墨烯應(yīng)用的研究中,一個重要的問題就是如何實現(xiàn)其可控功能化,。結(jié)構(gòu)完整的石墨烯是由不含任何不穩(wěn)定鍵的碳六元環(huán)組合而成,化學(xué)穩(wěn)定性高,其表面呈惰性狀態(tài),與其他介質(zhì)(如溶劑等)的相互作用較弱,并且石墨烯片與片之間有較強范德華力,。 容易產(chǎn)生聚集,使其難溶于水及常用的有機溶劑,這給石墨烯的進一步研究和應(yīng)用造成了極大的困難。為了充分發(fā)揮其優(yōu)良性質(zhì),并改善其成型加工性(如提高溶解性,在基體中的分散性等),必須對石墨烯進行有效的功能化,。 通過引入特定的官能團,還可以賦予石墨烯新的性質(zhì),進一步拓展其應(yīng)用領(lǐng)域,。功能化是實現(xiàn)石墨烯分散,溶解和成型加工的*重要手段。 如果說石墨烯二維晶體的發(fā)現(xiàn)為凝聚態(tài)物理研究開啟了激動人心的一頁, 那么功能化石墨烯及其應(yīng)用將為化學(xué)和材料領(lǐng)域提供新的橋梁和手段,。

CMD2000系列研磨分散機的結(jié)構(gòu)：研磨式分散機是由錐體磨,分散機組合而成的高科技產(chǎn)品,。

**級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離,。在增強的流體湍流下,，凹槽在每級都可以改變方向。

第二級由轉(zhuǎn)定子組成,。分散頭的設(shè)計也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要,。在線式的定子和轉(zhuǎn)子（乳化頭）和批次式機器的工作頭設(shè)計的不同主要是因為 在對輸送性的要求方面，特別要引起注意的是：在粗精度,、中等精度,、細精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是指定轉(zhuǎn)子齒的排列，還有一個很重要的區(qū)別是 不同工作頭的幾何學(xué)特征不一樣,。狹槽數(shù),、狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例,，依據(jù)以前的經(jīng)驗指定工作頭來滿 足一個具體的應(yīng)用,。在大多數(shù)情況下，機器的構(gòu)造是和具體應(yīng)用相匹配的,，因而它對制造出zui終產(chǎn)品是很重要,。當不確定一種工作頭的構(gòu)造是否滿足預(yù)期的應(yīng)用。

CMD2000研磨分散機為立式分體結(jié)構(gòu),有一定輸送能力，可以處理高固含量有一定粘稠度物料,，CM2000設(shè)計了符合漿液流體特性的特殊轉(zhuǎn)子,，進行物料的推動輸送；所有與物料接觸部位均為316L不銹鋼,，機座采用304不銹鋼,；特殊要求如：硬度較大物料，對鐵雜質(zhì)要求嚴苛的物料,，管道有一定壓力并且需不間斷運轉(zhuǎn)的工況,，可選磨頭噴涂碳化物或陶瓷；CMD2000改良型膠體磨腔體外有夾套設(shè)計,，可通冷卻或者升溫介質(zhì),。

研磨分散機的特點：

1、 線速度很高,，剪切間隙非常小,，當物料經(jīng)過的時候，形成的摩擦力就比較劇烈,，結(jié)果就是通常所說的濕磨

2,、 定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形，具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽,。

3,、 定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離

4、 在增強的流體湍流下,，凹槽在每級都可以改變方向,。

5、 高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料,，可以滿足不同行業(yè)的多種要求,。

設(shè)備其它參數(shù):

設(shè)備等級：化工級、衛(wèi)生I級,、衛(wèi)生II級,、無菌級
電機形式：普通馬達、變頻調(diào)速馬達,、防爆馬達,、變頻防爆馬達、
電源選擇： 380V/50HZ,、220V/60HZ,、440V/50HZ
電機選配件： PTC 熱保護、降噪型
研磨分散機材質(zhì)：SUS304 ,、SUS316L ,、SUS316Ti,氧化鋯陶瓷
研磨分散機選配：儲液罐,、排污閥、變頻器,、電控箱,、移動小車
研磨分散機表面處理：拋光、耐磨處理
進出口聯(lián)結(jié)形式：法蘭,、螺口,、夾箍
研磨分散機選配容器：本設(shè)備適合于各種不同大小的容器

從設(shè)備角度來分析,，影響研磨分散機效果因素有以下幾點：

1.研磨頭的形式（批次式和連續(xù)式）（連續(xù)式比批次式要好）

2.研磨頭的剪切速率,，（越大效果越好）

3.研磨的齒形結(jié)構(gòu)（分為初齒、中齒,、細齒,、超細齒、越細齒效果越好）

4.物料在分散墻體的停留時間,、研磨分散時間（可以看作同等電機,，流量越小效果越好）

5.循環(huán)次數(shù)（越多效果越好，到設(shè)備的期限就不能再好了,。）

線速度的計算：

剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對速率,。

剪切速率 (s-1) =      v  速率 (m/s)   
               g 定-轉(zhuǎn)子 間距 (m)

由上可知，剪切速率取決于以下因素：

轉(zhuǎn)子的線速率

在這種請況下兩表面間的距離為轉(zhuǎn)子-定子 間距,。 
IKN 定-轉(zhuǎn)子的間距范圍為 0.2 ~ 0.4 mm  

速率V=  3.14 X  D（轉(zhuǎn)子直徑）X 轉(zhuǎn)速 RPM  /   60

 所以轉(zhuǎn)速和分散頭結(jié)構(gòu)是影響分散的一個zui重要因素,，超高速分散均質(zhì)分散機的高轉(zhuǎn)速和剪切率對于獲得超細微懸浮液是zui重要的

CMD2000系列研磨分散機設(shè)備選型表
 

流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性，可以被調(diào)節(jié)到**允許量的10%