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硅氧與硅碳負(fù)極材料:技術(shù)路線深度對(duì)比與解析

硅氧與硅碳負(fù)極材料:技術(shù)路線深度對(duì)比與解析
Boyee博億  2024-12-20  |  閱讀:4329

隨著鋰離子電池技術(shù)的不斷進(jìn)步,,硅基負(fù)極材料作為提升電池能量密度的關(guān)鍵材料,,正受到越來(lái)越多的關(guān)注,。


目前,,硅基負(fù)極材料主要分為硅氧負(fù)極和硅碳負(fù)極兩大技術(shù)路線。本文將詳細(xì)介紹這兩種技術(shù)路線及其特點(diǎn),。


01.

硅氧負(fù)極技術(shù)路線

硅氧負(fù)極材料主要由氧化亞硅(SiOx)與碳材料復(fù)合而成。根據(jù)制備工藝的不同,,硅氧負(fù)極主要分為三代: 


第一代硅氧負(fù)極:采用氧化亞硅與石墨材料復(fù)合,。氧化亞硅在鋰嵌入過(guò)程中發(fā)生的體積膨脹較小,,相較于純硅負(fù)極,,其循環(huán)穩(wěn)定性得到改善。


然而,,氧化亞硅在充放電過(guò)程中會(huì)生成Li2O等非活性物質(zhì),,導(dǎo)致首次效率較低(約70%) 


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第二代預(yù)鎂硅氧負(fù)極:通過(guò)在制備過(guò)程中添加鎂元素,阻止SEI膜合成,,將首次效率提升至80%左右,。


但預(yù)鎂化產(chǎn)品普遍克容量不高,且預(yù)鎂工藝會(huì)增加材料成本,,對(duì)電芯廠來(lái)說(shuō)性價(jià)比較低,。 


第三代預(yù)鋰硅氧負(fù)極:在第二代基礎(chǔ)上進(jìn)一步提升首次效率(ICE提升至86%-92%)


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然而,目前能夠兼顧安全穩(wěn)定,、成本較低,、可大規(guī)模生產(chǎn)的預(yù)鋰化技術(shù)還不夠成熟。 


硅氧負(fù)極材料的常用量產(chǎn)制備工藝包括高溫爐熱處理,、冷凝,、粗碎、粉碎,、CVD爐炭包覆等步驟,。


其核心在于通過(guò)氧化亞硅與碳材料的復(fù)合,以及包覆層的形成,,提高材料的循環(huán)穩(wěn)定性和導(dǎo)電性能,。


02.

硅碳負(fù)極技術(shù)路線

硅碳負(fù)極材料由納米級(jí)的硅顆粒和碳基材料(如石墨、碳納米管,、石墨烯等)復(fù)合而成,。根據(jù)制備工藝的不同,硅碳負(fù)極主要分為兩種技術(shù)路線: 


砂磨納米硅:通過(guò)攪拌罐將硅粉和適量的溶劑混合,,形成初步的漿料,,通過(guò)隔膜泵輸送至砂磨機(jī)中。


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轉(zhuǎn)子結(jié)構(gòu)與研磨介質(zhì)的高速旋轉(zhuǎn),,對(duì)漿料中的硅碳顆粒進(jìn)行剪切,、碰撞和摩擦作用,從而實(shí)現(xiàn)顆粒的細(xì)化和分散,。 


研磨結(jié)束后,,通過(guò)過(guò)濾,、離心等方式將研磨介質(zhì)與物料分離,得到細(xì)化的硅碳負(fù)極漿料,。


CVD法:通過(guò)氣相沉積技術(shù)將納米硅沉積到多孔碳骨架上,。


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CVD法硅碳負(fù)極在克容量、首效,、循環(huán)次數(shù),、倍率等多個(gè)維度性能表現(xiàn)優(yōu)異,其膨脹問(wèn)題較傳統(tǒng)濕法研磨取得較大改善,,穩(wěn)定性大幅提升,。


CVD工藝被當(dāng)前視為最具發(fā)展?jié)摿Γ彩潜姸喙杌?fù)極廠商的最新布局方向,。


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CVD法硅碳負(fù)極的制備工藝包括前驅(qū)氣體的選擇與供應(yīng),、基底準(zhǔn)備、反應(yīng)環(huán)境設(shè)置,、高溫?zé)峤?、冷卻與后處理等步驟。


其核心在于通過(guò)氣相沉積技術(shù)形成均勻的納米硅碳復(fù)合材料,,并通過(guò)多孔碳骨架來(lái)緩沖硅嵌鋰過(guò)程中的體積膨脹,。


03.

對(duì)比分析

硅氧負(fù)極和硅碳負(fù)極各有千秋。硅氧負(fù)極在循環(huán)穩(wěn)定性和倍率性能方面表現(xiàn)優(yōu)異,,但首次效率較低,,且制備工藝較為復(fù)雜、成本較高,。


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圖為:博億硅碳負(fù)極CVD法解決方案


硅碳負(fù)極則具有較高的克容量和首效,,但循環(huán)次數(shù)和膨脹率等性能相對(duì)較差。


然而,,隨著CVD法技術(shù)的發(fā)展,,硅碳負(fù)極的性能有望得到進(jìn)一步提升。

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