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該設(shè)備用于去除附著在 MOCVD 托盤和零部件上的沉積物（GaN、AlN 等）,。采用潔凈氣體的干式清洗法,，因此不需要濕法后道處理， 可減少托盤和零部件的損傷,。
產(chǎn)品詳情：
●該設(shè)備用于去除附著在 MOCVD 托盤和零部件上的沉積物（GaN,、AlN 等）。采用潔凈氣體的干式清洗法,，因此不需要濕法后道處理,， 可減少托盤和零部件的損傷。
●利用潔凈氣體進(jìn)行干式清洗，減少對(duì)托盤造成的損傷,，可有效去除沉積物的同時(shí),，相較于其他清洗方法損傷減少。
●無需后道處理工序,，無需處理廢液可提高生產(chǎn)效率并降低運(yùn)行成本,。
●全自動(dòng)清洗系統(tǒng)將托盤或零部件放入清洗爐后，只需一次開關(guān)操作即可開始清洗,。
●可對(duì)應(yīng)外徑為 φ800mm 的大型托盤,，可同時(shí)清洗6個(gè)。
●采用箱形腔體,，節(jié)省空間,、節(jié)能。
清洗原理：
通過高溫下GaN,、AlN等沉積物與H2,、CL2等潔凈氣體的反應(yīng)，使得沉積物氣化,，從 而*終達(dá)到去除目的,。
設(shè)備優(yōu)勢：
① 利用潔凈氣體進(jìn)行干式清洗，減少對(duì)托盤造成的損傷,，可有效去除沉積物的同時(shí)，相較于其他清洗方法損傷減少,。
② 無需后道處理工序,，無需處理廢液?？商岣呱a(chǎn)效率并降低運(yùn)行成本,。
③ 全自動(dòng)清洗系統(tǒng)，將托盤或零部件放入清洗爐后,，只需一次開關(guān)操作即可開始清洗,。
④ 可對(duì)應(yīng)大型托盤，可對(duì)應(yīng)外徑為 φ800mm 的托盤,，可同時(shí)清洗6個(gè),。
⑤ 節(jié)省空間的設(shè)計(jì)，采用箱形腔體,，節(jié)省空間,、節(jié)能。
⑥ 全球范圍的清潔劑,，具有多種工藝氣體,，如Cl2、HCl、H2,、N2
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