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氣相沉積爐品牌
辰星真空產(chǎn)地
湖南樣本
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產(chǎn)品概述：
氣相沉積爐可用于在特定壓力下將金屬鹵化物,、金屬有機物、碳氫化合物等反應(yīng)源加熱氣化后在目標材料表面反應(yīng)生成固態(tài)沉積物的設(shè)備,。也用于以碳氫氣體（如C3H8等）為碳源的復合材料的化學氣相沉積,，如C/C復合材料,、SiC復合材料等的CVD、CVI處理,。
產(chǎn)品特點：
1）在中溫或高溫下,，通過氣態(tài)的初始化合物之間的氣相化學反應(yīng)而形成固體物質(zhì)沉積在基體上,。
2）可以在常壓或者真空條件下(負壓“進行沉積、通常真空沉積膜層質(zhì)量較好）,。
3）采用等離子和激光輔助技術(shù)可以顯著地促進化學反應(yīng),，使沉積可在較低的溫度下進行,。
4）涂層的化學成分可以隨氣相組成的改變而變化,，從而獲得梯度沉積物或者得到混合鍍層,。
5）可以控制涂層的密度和涂層純度。
6）繞鍍件好,?？稍趶碗s形狀的基體上以及顆粒材料上鍍膜。適合涂覆各種復雜形狀的工件,。由于它的繞鍍性能好,，所以可涂覆帶有槽、溝,、孔,，甚至是盲孔的工件。
7）沉積層通常具有柱狀晶體結(jié)構(gòu),，不耐彎曲,，但可通過各種技術(shù)對化學反應(yīng)進行氣相擾動，以改善其結(jié)構(gòu),。
8）可以通過各種反應(yīng)形成多種金屬,、合金、陶瓷和化合物涂層,。
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