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真空提純爐可用于碳納米管料的連續(xù)式高溫石墨化提純,，并可實現(xiàn)高溫法與化學法相結合的提純處理,。適用于新能源汽車、半導體,、新材料等等多種領域,。
真空提純爐的用途：
適用于電池負極材料、電子陶瓷,、玻璃,、晶體、粉末冶金,、納米材料,、金屬零件、電子元器件,、石墨烯,、新型材料及粉體材料的真空氣氛處理，材料在惰性氣氛環(huán)境下進行燒結,。
真空提純爐的特點：
可用于石墨粉料的連續(xù)式高溫石墨化提純,，并可實現(xiàn)高溫法與化學法相結合的提純處理。
可實現(xiàn)高溫下連續(xù)式進料和出料,，減少了能源消耗，縮短生產(chǎn)周期,；
采用電阻或感應加熱,，溫度可達2850℃以上；
采用高溫法和化學法相結合的提純方式,，可滿足高純度處理要求,；
采用高效的過濾系統(tǒng)，能有效捕集提純過程中產(chǎn)生的粉塵、腐蝕性氣體等,；
可實現(xiàn)高溫下連續(xù)式進料和出料,，減少了能源消耗，縮短生產(chǎn)周期,。
真空提純爐的技術參數(shù)：
暫無數(shù)據(jù),！
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