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第二代碳化硅晶片腐蝕清洗設(shè)備品牌
杭州晶馳產(chǎn)地
浙江樣本
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設(shè)備采用雙工位設(shè)計(jì),,全封閉工作臺(tái)和強(qiáng)排風(fēng)系統(tǒng)有效防止腐蝕性堿蒸汽對(duì)操作人員的身體傷害,。該系統(tǒng)集SiC晶片熱強(qiáng)堿腐蝕,、快速清洗,再次超聲清洗和晶片烘干為一體,,充分避免了操作人員與腐蝕性強(qiáng)堿溶劑的接觸,。整個(gè)工藝流程全部自動(dòng)化控制,操作人員只需完成取放片操作,,腐蝕效率高,,適合產(chǎn)業(yè)化應(yīng)用,。
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