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第二代碳化硅晶片腐蝕清洗設(shè)備品牌
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設(shè)備采用雙工位設(shè)計,，全封閉工作臺和強排風系統(tǒng)有效防止腐蝕性堿蒸汽對操作人員的身體傷害,。該系統(tǒng)集SiC晶片熱強堿腐蝕、快速清洗,，再次超聲清洗和晶片烘干為一體,，充分避免了操作人員與腐蝕性強堿溶劑的接觸。整個工藝流程全部自動化控制,，操作人員只需完成取放片操作,，腐蝕效率高，適合產(chǎn)業(yè)化應(yīng)用,。
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