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邊緣濕法刻蝕設(shè)備
邊緣濕法刻蝕設(shè)備

參考價(jià)格

面議

型號

邊緣濕法刻蝕設(shè)備

品牌

盛美半導(dǎo)體

產(chǎn)地

美國

樣本

暫無
盛美半導(dǎo)體設(shè)備(上海)股份有限公司

會員

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第2年

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主要優(yōu)勢

用于晶圓邊緣多種不同疊加薄膜層的刻蝕清洗,提高先進(jìn)工藝的晶圓邊緣良率

高刻蝕精度,,刻蝕寬度大小可調(diào)

自主**技術(shù)可做到更精準(zhǔn)高效的晶圓對準(zhǔn),,控制精度高、均勻性高,,可實(shí)現(xiàn)精準(zhǔn)邊緣刻蝕

高產(chǎn)能,,低化學(xué)品消耗

設(shè)備和工藝可擴(kuò)展至10nm以下工藝技術(shù)節(jié)點(diǎn)

對下層材料刻蝕具有高選擇比,對晶圓無損傷的特點(diǎn)

出色的晶圓邊緣清洗能力,,更好的顆??刂?/p>

可靈活應(yīng)用于多種襯底材料,包括重?fù)诫s片,、Bonding 片,、超薄片等


特性和規(guī)格

適用于12寸晶圓邊緣清洗

*多可配置4個(gè)Lord Port

可配置12個(gè)工藝腔體

真空夾盤對晶圓進(jìn)行夾持

可對晶圓正背面邊緣進(jìn)行清洗,*多可配備5種藥液進(jìn)行清洗工藝

每個(gè)腔體均配置高精度的晶圓對中單元

可配置高精度的晶圓邊緣檢測單元


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10分

售后服務(wù)

10分

易用性

10分

性價(jià)比

10分
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