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前道涂膠顯影設備
前道涂膠顯影設備

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型號

前道涂膠顯影設備

品牌

盛美半導體

產(chǎn)地

美國

樣本

暫無
盛美半導體設備(上海)股份有限公司

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主要優(yōu)勢

自主**保護立體交叉結(jié)構(gòu)(**號:202211541793.9),提高設備產(chǎn)出率WPH

采用自主**設計,,優(yōu)化整機內(nèi)部氣流分布,減少顆粒污染

精準控制涂膠量,,減少光刻膠的消耗

具備多次回吸功能,,能夠有效防止噴嘴口結(jié)晶

腔體配備獨立排氣裝置,,能夠提高光刻膠膜厚的均一性,減少Wet-Particle

配備自主研發(fā)的多分區(qū)控制的高精度熱板

自主研發(fā)的控制軟件,,可優(yōu)化晶圓傳輸路徑,,縮短傳輸時間

搭載缺陷檢測功能,,可及時發(fā)現(xiàn)問題

搭載機械手工位auto-teaching功能,,提高效率

支持主流光刻機接口


特性和規(guī)格

可適用于300mm晶圓清洗

可配置4個Loadport,多至8個涂膠腔體和8個顯影腔體

可拓展支持12個涂膠腔體及12個顯影腔體,,每小時晶圓產(chǎn)能可達300片;

腔體溫度:23°C ±0.1°C ,,烘烤范圍為50°C至250°C


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