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Si棱鏡
Si棱鏡

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筱曉(上海)光子技術(shù)有限公司

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光學級硅通常規(guī)定為具有540ohm-cm的電阻率,其電阻率比大多數(shù)半導體的都高,。 更高的電阻率材料可客戶定制,,特別是對于TeraHertz應用。通常的材料為CZ,,其在9μm具有Si-O吸收帶,,因此如果在35μm光譜帶中使用該窗口,則此性質(zhì)不重要,。 如果需要FZ,,可以提供沒有這種吸收的浮區(qū)材料。

硅主要用作35um波段的光學窗口并用作光學濾波器的制片基底,。 具有拋光面的大塊硅也用作物理實驗中的中子靶,。

硅通過Czochralski拉伸技術(shù)(CZ)生長并且包含一些導致9um的吸收帶的氧。 為了避免這種情況,,硅可以通過浮區(qū)(FZ)工藝制備,。 光學硅通常輕摻雜(5~40 Ohm cm),以在10um以上的波段**透射,。 硅具有30100um的另一通帶,,其僅在非常高電阻率的未補償材料中有效。 摻雜通常是硼(p型)和磷(n型)。

詳細參數(shù):

透射范圍:1.2?15μm1

折射率: 3.4223 @5μm1)(2

反射損耗: 46.2%(5μm)(2個表面)

吸收系數(shù): 0.01cm -1 at 3μm

吸收峰: n / a

dn / dT160×10-6 /℃(3

dn /dμ= 010.4μm

密度: 2.33g / cc

熔點: 1420

熱導率: 273.3W m-1 K-1

熱膨脹: 2.6×10 -6 /at20

硬度: Knoop 1150

比熱容: 703JKg-1K-1

介電常數(shù): 13 at 10GHz

楊氏模量(E): 131GPa4

剪切模量(G): 79.9GPa4

體積模量(K): 102GPa

彈性系數(shù): C11 = 167; C12 = 65; C44 = 804

表觀彈性極限: 124.1MPa18000 psi

泊松比: 0.2664

溶解性:不溶于水

分子量: 28.09

類別/結(jié)構(gòu): 立方鉆,,Fd3m

折射率:

No = Ordinary Ray

μm

No

μm

No

μm

No

1.357

3.4975

1.367

3.4962

1.395

3.4929

1.5295

3.4795

1.660

3.4696

1.709

3.4664

1.813

3.4608

1.970

3.4537

2.153

3.4476

2.325

3.4430

2.714

3.4358

3.000

3.4320

3.303

3.430

3.500

3.4284

4.000

3.4257

4.258

3.4245

4.500

3.4236

5.000

3.4223

5.500

3.4213

6.000

3.4202

6.500

3.4195

7.000

3.4189

7.500

3.4186

8.000

3.4184

8.500

3.4182

10.00

3.4179

10.50

3.4178

11.04

3.4176

訂購信息:

Product Code: SIFZPRISM25.4-BREW

Product Code SIFZPRISM25.4-BREW

IR Polished Silicon (Si) brewster angle prism

25.4 x 14 x 18mm brewster angle (73.98°) prism.

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