看了英國QUORUM Q150R新型真空磁控離子濺射鍍膜儀的用戶又看了
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Q150R是一款多功能緊湊型機械泵磁控離子真空鍍膜系統(tǒng),對于SEM樣品制備及其它鍍膜應用非常理想,。直徑為165mm/6.5”的腔室可容納多種需要鍍導電膜的樣品 – 尤其用于在SEM應用中提高成像質量,。
Q150R S
機械泵抽真空離子濺射鍍膜儀,適于給樣品鍍制不氧化金屬膜(即貴金屬膜),,如金,、銀、鉑和鈀,。
Q150R E
機械泵抽真空蒸發(fā)鍍碳儀,,使用碳絲或碳繩為SEM樣品鍍膜。
Q150R ES
集Q150R S和Q150R E兩者的功能于一體,,節(jié)省空間,。這個雙重用途,、結構緊湊、機械泵抽真空的鍍膜系統(tǒng)標配有濺射插入頭和碳絲蒸發(fā)插入頭 – 可提供****的多用途鍍膜,。
此外,,輝光放電選項也是可用的(僅Q150R S和Q150R ES版本),它可實現(xiàn)樣品表面改性(如疏水表面改為親水表面),。
快速簡便:快速,、易更換的鍍膜插入頭,能在同一個緊湊設計中實現(xiàn)金屬濺射,、碳蒸鍍和輝光放電三者之間的快速轉換,。
采用全自動觸摸屏控制,可快速輸入數(shù)據,。與鍍膜處理方法及鍍膜材料相適配的鍍膜參數(shù)方案可通過觸摸按鍵實現(xiàn)預設并儲存,。自動放氣控制功能確保了濺射期間**的真空狀態(tài),可提供良好的一致性和可重復性,。
易使用:智能識別系統(tǒng)可自動探測安裝了何種類型的鍍膜插入頭,,以便立即運行相應的鍍膜方案??纱鎯Χ鄠€用戶自定義的鍍膜方案 – 這對于需更改鍍膜參數(shù)實現(xiàn)不同應用的多用戶實驗室非常理想,。多種樣品臺組件適用于各種尺寸和類型的樣品;所有樣品臺都帶有快速,、易更換及落入式設計的特點,。
功能強大、可重復鍍膜及高可靠性:可預編程的鍍膜參數(shù)及方案能確保一致且可重復的結果,。需要沉積厚膜時,,本系統(tǒng)提供長達60分鐘且無需破真空的濺射時間。設計先進的碳蒸鍍插入頭操作簡單,,具有對蒸發(fā)電流參數(shù)的完全控制,,確保了SEM應用中一致的和可重復的碳沉積??蛇x的膜厚監(jiān)控附件用于可重復的膜厚控制,。
適配性強且用途廣:濺射、碳蒸鍍,、輝光放電插入頭及多種可選件,,使Q150R對于多用戶實驗室應用非常理想??蔀R射一系列不氧化金屬,,如金、銀,、鉑和鈀,。碳絲蒸鍍插入頭處理樣品速度非??臁R部蛇x用碳棒蒸發(fā),。還可應用于金屬薄膜研究及電極的應用,。
濺射靶材或碳蒸發(fā)源的選用:
金 – 常規(guī)SEM應用時使用*普遍的靶材;濺射速度快且導電效果**,。
銀 – 高導電性且具有高的二次電子發(fā)射率,。濺射上去的銀易于去除,可使樣品成像后還原到其原來狀態(tài),。
鉑 – 在機械泵抽真空的濺射鍍膜系統(tǒng)中它的顆粒尺寸*小,,且具有優(yōu)良的二次電子發(fā)射能力。
鈀 – 用于x射線能譜分析非常理想,,因其譜線分布沖突相對較低,。
金/鈀合金(80:20%) - 通過限制沉積期間金顆粒的團聚,鈀可提高*終分辨率,。
碳絲蒸鍍 – 碳絲蒸鍍過程的閃蒸特性及快速更換碳絲的能力,,使其處理樣品速度非常快,。
碳棒蒸發(fā) – 用于需要減慢速度但可控性更好的蒸發(fā)過程,,可制備更趨向無定形的碳膜。
暫無數(shù)據,!