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Q150R是一款多功能緊湊型機械泵磁控離子真空鍍膜系統(tǒng)，對于SEM樣品制備及其它鍍膜應用非常理想,。直徑為165mm/6.5”的腔室可容納多種需要鍍導電膜的樣品 – 尤其用于在SEM應用中提高成像質(zhì)量,。

Q150R S

機械泵抽真空離子濺射鍍膜儀,，適于給樣品鍍制不氧化金屬膜（即貴金屬膜）,，如金、銀,、鉑和鈀,。

Q150R E

機械泵抽真空蒸發(fā)鍍碳儀，使用碳絲或碳繩為SEM樣品鍍膜,。

Q150R ES

集Q150R S和Q150R E兩者的功能于一體,，節(jié)省空間。這個雙重用途,、結(jié)構(gòu)緊湊,、機械泵抽真空的鍍膜系統(tǒng)標配有濺射插入頭和碳絲蒸發(fā)插入頭 – 可提供****的多用途鍍膜,。

此外，輝光放電選項也是可用的（僅Q150R S和Q150R ES版本）,，它可實現(xiàn)樣品表面改性（如疏水表面改為親水表面）,。

快速簡便：快速、易更換的鍍膜插入頭,，能在同一個緊湊設(shè)計中實現(xiàn)金屬濺射,、碳蒸鍍和輝光放電三者之間的快速轉(zhuǎn)換。

采用全自動觸摸屏控制,，可快速輸入數(shù)據(jù),。與鍍膜處理方法及鍍膜材料相適配的鍍膜參數(shù)方案可通過觸摸按鍵實現(xiàn)預設(shè)并儲存。自動放氣控制功能確保了濺射期間**的真空狀態(tài),，可提供良好的一致性和可重復性,。

易使用：智能識別系統(tǒng)可自動探測安裝了何種類型的鍍膜插入頭，以便立即運行相應的鍍膜方案,?？纱鎯Χ鄠€用戶自定義的鍍膜方案 – 這對于需更改鍍膜參數(shù)實現(xiàn)不同應用的多用戶實驗室非常理想。多種樣品臺組件適用于各種尺寸和類型的樣品,；所有樣品臺都帶有快速,、易更換及落入式設(shè)計的特點。

功能強大,、可重復鍍膜及高可靠性：可預編程的鍍膜參數(shù)及方案能確保一致且可重復的結(jié)果,。需要沉積厚膜時，本系統(tǒng)提供長達60分鐘且無需破真空的濺射時間,。設(shè)計先進的碳蒸鍍插入頭操作簡單,，具有對蒸發(fā)電流參數(shù)的完全控制，確保了SEM應用中一致的和可重復的碳沉積,?？蛇x的膜厚監(jiān)控附件用于可重復的膜厚控制。

適配性強且用途廣：濺射,、碳蒸鍍,、輝光放電插入頭及多種可選件，使Q150R對于多用戶實驗室應用非常理想,?？蔀R射一系列不氧化金屬，如金,、銀,、鉑和鈀。碳絲蒸鍍插入頭處理樣品速度非?？?。也可選用碳棒蒸發(fā),。還可應用于金屬薄膜研究及電極的應用。

濺射靶材或碳蒸發(fā)源的選用：

金 – 常規(guī)SEM應用時使用*普遍的靶材,；濺射速度快且導電效果**,。

銀 – 高導電性且具有高的二次電子發(fā)射率。濺射上去的銀易于去除,，可使樣品成像后還原到其原來狀態(tài),。

鉑 – 在機械泵抽真空的濺射鍍膜系統(tǒng)中它的顆粒尺寸*小，且具有優(yōu)良的二次電子發(fā)射能力,。

鈀 – 用于x射線能譜分析非常理想,，因其譜線分布沖突相對較低。

金/鈀合金（80:20%） - 通過限制沉積期間金顆粒的團聚,，鈀可提高*終分辨率,。

碳絲蒸鍍 – 碳絲蒸鍍過程的閃蒸特性及快速更換碳絲的能力，使其處理樣品速度非?？?。

碳棒蒸發(fā) – 用于需要減慢速度但可控性更好的蒸發(fā)過程，可制備更趨向無定形的碳膜,。