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以往的橢偏儀是單點(diǎn)測試，因此要取得整面膜厚均勻性數(shù)據(jù)是需要N個小時的工作,，而且*小的測量分辨率就是激光光斑大小,，也就是說，無法取得微小區(qū)域的膜厚分布數(shù)據(jù),。

ME-210是采用獨(dú)自開發(fā)的微小偏光陣列片來克服上述兩大問題的設(shè)備,。

ME-210能做的就是：

1. 能以快速取得**12inch基板上的膜厚分布

2. 能以高分辨率取得微小區(qū)域的膜厚分布（設(shè)備**分辨率為5.5um*5.5um）

3. 設(shè)備軟件具有模擬功能，因此能比對模擬值與實(shí)際值來評估成膜工藝

4. 透明基板的膜厚測量

技術(shù)參數(shù)：

光源--typ,，636nm,，Class2

設(shè)備**分辨率--5.5*5.5um

入射角--70°

測量再現(xiàn)性--膜厚0.1nm、折射率0.001

設(shè)備*塊測量速度--5,，000個點(diǎn)/min

載物臺--標(biāo)準(zhǔn)φ8inch,、選配φ12inch