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產(chǎn)品概述
MProbe Vis薄膜測厚儀大部分透光或弱吸收的薄膜均可以快速且穩(wěn)定的被測量。比如：氧化物,，氮化物,，光刻膠，高分子聚合物,，半導(dǎo)體(硅,，單晶硅，多晶硅),，半導(dǎo)體化合物(AlGaAs,， InGaAs，CdTe,， CIGS),，硬涂層(碳化硅，類金剛石炭),，聚合物涂層(聚對二甲苯,，聚甲基丙烯酸甲酯，聚酰胺
大部分透光或弱吸收的薄膜均可以快速且穩(wěn)定的被MProbe Vis測厚儀測量,。比如：氧化物,，氮化物，光刻膠,，高分子聚合物,，半導(dǎo)體(硅，單晶硅,，多晶硅)，半導(dǎo)體化合物(AlGaAs,， InGaAs,，CdTe， CIGS),，硬涂層(碳化硅,，類金剛石炭),，聚合物涂層(聚對二甲苯，聚甲基丙烯酸甲酯,，聚酰胺),。
測量范圍: 15 nm -50um
波長范圍: 400 nm -1100 nm
MProbe Vis薄膜測厚儀適用于實時在線測量，多層測量,，非均勻涂層,， 軟件包含大量材料庫(超過500材料)，新材料可以很容易的添加,，支持多重算法：Cauchy,， Tauc-Lorentz， Cody-Lorentz,， EMA等。
測量指標(biāo)：薄膜厚度,，光學(xué)常數(shù)
界面友好: 一鍵式測量和分析,。
MProbe Vis薄膜測厚儀實用的工具：曲線擬合和靈敏度分析，背景和變形校正,，連接層和材料,，多樣品測量，動態(tài)測量和產(chǎn)線批量處理,。
案例1,，300nm二氧化硅薄膜的測量：
硅晶圓反射率，測量時間10ms：
案例2,，測量500nm氮化鋁,，測量參數(shù)：厚度和表面粗糙度
暫無數(shù)據(jù)！
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