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產(chǎn)品概述
MProbe UVVisSR薄膜測(cè)厚儀大部分透光或弱吸收的薄膜均可以快速且穩(wěn)定的被測(cè)量,。比如：氧化物,，氮化物，光刻膠,，高分子聚合物,，半導(dǎo)體(硅，單晶硅,，多晶硅),，半導(dǎo)體化合物(AlGaAs， InGaAs,，CdTe,， CIGS)，硬涂層(碳化硅,，類金剛石炭),，聚合物涂層(聚對(duì)二甲苯，聚甲基丙烯酸甲酯,，聚酰胺)
該機(jī)大部分透光或弱吸收的薄膜均可以快速且穩(wěn)定的被測(cè)量,。比如：氧化物，氮化物,，光刻膠,，高分子聚合物，半導(dǎo)體(硅,，單晶硅,，多晶硅)，半導(dǎo)體化合物(AlGaAs,， InGaAs,，CdTe， CIGS),，硬涂層(碳化硅,，類金剛石炭)，聚合物涂層(聚對(duì)二甲苯,，聚甲基丙烯酸甲酯,，聚酰胺)
測(cè)量范圍: 1 nm -50um
波長(zhǎng)范圍: 200 nm -1000 nm
MProbe UVVisSR薄膜測(cè)厚儀適用于實(shí)時(shí)在線測(cè)量，多層測(cè)量,，非均勻涂層,， 軟件包含大量材料庫(kù)(超過(guò)500材料)，新材料可以很容易的添加,，支持多重算法：Cauchy,， Tauc-Lorentz,， Cody-Lorentz， EMA等,。
測(cè)量指標(biāo)：薄膜厚度,，光學(xué)常數(shù)
界面友好強(qiáng)大: 一鍵式測(cè)量和分析。
實(shí)用的工具：曲線擬合和靈敏度分析,，背景和變形校正,，連接層和材料，多樣品測(cè)量,，動(dòng)態(tài)測(cè)量和產(chǎn)線批量處理,。
（MProble NIR薄膜測(cè)厚儀系統(tǒng)示 ）
案例1，73nm SiN氮化硅薄膜的測(cè)量
硅晶圓反射率,，測(cè)量時(shí)間10ms
使用Tauc-Lorentz模型,，測(cè)量SiN薄膜的n和k值
暫無(wú)數(shù)據(jù)！
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