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產(chǎn)品概述

MProbe UVVisSR薄膜測厚儀大部分透光或弱吸收的薄膜均可以快速且穩(wěn)定的被測量。比如：氧化物,，氮化物,，光刻膠，高分子聚合物,，半導(dǎo)體(硅,，單晶硅，多晶硅),，半導(dǎo)體化合物(AlGaAs,， InGaAs,，CdTe， CIGS),，硬涂層(碳化硅,，類金剛石炭)，聚合物涂層(聚對二甲苯,，聚甲基丙烯酸甲酯,，聚酰胺)

該機(jī)大部分透光或弱吸收的薄膜均可以快速且穩(wěn)定的被測量。比如：氧化物,，氮化物,，光刻膠，高分子聚合物,，半導(dǎo)體(硅,，單晶硅，多晶硅),，半導(dǎo)體化合物(AlGaAs,， InGaAs，CdTe,， CIGS),，硬涂層(碳化硅，類金剛石炭),，聚合物涂層(聚對二甲苯,，聚甲基丙烯酸甲酯，聚酰胺)

測量范圍: 1 nm -50um

波長范圍: 200 nm -1000 nm

MProbe UVVisSR薄膜測厚儀適用于實(shí)時在線測量,，多層測量，非均勻涂層,， 軟件包含大量材料庫(超過500材料),，新材料可以很容易的添加，支持多重算法：Cauchy,， Tauc-Lorentz,， Cody-Lorentz， EMA等,。

測量指標(biāo)：薄膜厚度,，光學(xué)常數(shù)

界面友好強(qiáng)大: 一鍵式測量和分析。

實(shí)用的工具：曲線擬合和靈敏度分析,，背景和變形校正,，連接層和材料，多樣品測量,，動態(tài)測量和產(chǎn)線批量處理,。

（MProble NIR薄膜測厚儀系統(tǒng)示 ）

案例1,，73nm SiN氮化硅薄膜的測量

硅晶圓反射率，測量時間10ms

使用Tauc-Lorentz模型,，測量SiN薄膜的n和k值