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在近代科學(xué)技術(shù)的許多領(lǐng)域中對各種薄膜的研究和應(yīng)用日益廣泛,。因此,，更加精確和迅速的測定給定薄膜的光學(xué)參數(shù)已變得更加迫切和重要。在實際工作中可以利用各種傳統(tǒng)的方法測定光學(xué)參數(shù),，如：布儒斯特角法測介質(zhì)膜的折射率,，干涉法測膜厚，其它測膜厚的方法還有稱重法,、X射線法,、電容法、橢偏法等,。由于橢圓偏振法具有靈敏度高,、精度高、非破壞性測量等優(yōu)點,，因而,，橢圓偏振法測量已在光學(xué)、半導(dǎo)體,、生物,、醫(yī)學(xué)等諸多領(lǐng)域得到廣泛應(yīng)用,。
技術(shù)參數(shù)：
規(guī)格與主要技術(shù)指標(biāo)：
測量范圍：薄膜厚度范圍：1nm-300nm； 折射率范圍：1-10
測量*小示值：≤1nm 入射光波長：632.8nm
光學(xué)中心高：80mm 允許樣品尺寸：φ10-φ140mm,，厚度≤16mm
偏振器方位角范圍：0°- 180°讀取分辨率為0.05°
測量膜厚和折射率重復(fù)性精度分別為：±1nm和±0.01
主機重量：25kg 入射角連續(xù)調(diào)節(jié)范圍：20°- 90°精度為0.05°
主要特點：
儀器采用消光法自動測量薄膜厚度和折射率,，具有精度高、靈敏度高以及方便測量等特點,；
光源采用氦氖激光器,，功率穩(wěn)定、波長精度高,；
儀器配有生成表,、查表以及精確計算等軟件，方便用戶使用,。
暫無數(shù)據(jù),！
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