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核糖核酸膠體磨,豬胰膠體磨,核酸膠體磨,核糖膠體磨,豬胰高速勻漿機,豬胰組織勻漿機,德國高速膠體磨是透過膠體磨定,、轉齒之間的間隙(間隙可調)時受到強大的剪切力,、摩擦力、高頻振動等物理作用,,使物料被有效地乳化,、分散和粉碎,達到物料超細粉碎及乳化的效果,。
核糖核酸膠體磨,豬胰膠體磨,核酸膠體磨,的工藝
糖核酸的制備方法,,包括如下步驟:
1)提取原液的制備將動物胰腺小塊絞碎后移入膠體磨,加入提取緩沖液進行研磨,得到提取原液,;所述提取緩沖液為0.01~0.10mol/LTris-乙酸緩沖液,,pH4~8;
2)核糖核酸的提取提取原液加入0.2~10倍體積飽和酚液體的上層水相,,和0.2~10倍體積的飽和酚液體的下層酚相,,加熱到40~80℃,恒溫30~180分鐘,;然后,,在4~10℃下離心,收集上清液,;所述飽和酚液體是將苯酚融化后,,
加入等體積的步驟1)所述提取緩沖液,攪拌均勻后得到的,;上清液加入0.5~2倍體積的氯仿-異戊醇溶液,,搖勻5~30分鐘,在4~10℃下離心,,收集上清液,;上清液加入0.2~2倍體積氯仿-異戊醇,搖勻后在4~10℃離心,,收集含核糖核酸的上層上清液,,所述氯仿-異戊醇溶液中氯仿與異戊醇的體積比為10~50∶1;上清液加入0.1~1體積助沉淀緩沖液,,再加入2~6倍體積95%乙醇,,搖勻,4℃放置過夜,,在4~10℃下離心,,收集得到核糖核酸沉淀;助沉淀緩沖液為1-5mol/L乙酸鈉溶液,,pH為3-6,。
核糖核酸膠體磨,豬胰膠體磨,核酸膠體磨,核糖膠體磨,豬胰高速勻漿機,豬胰組織勻漿機,德國高速膠體磨的提取率影響因素
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影響研磨粉碎結果的因素有以下幾點
2 膠體磨磨頭頭的剪切速率 (越大,效果越好)
3 膠體磨頭的齒形結構(分為初齒,,中齒,,細齒,超細齒,,約細齒效果越好)
4 物料在研磨腔體的停留時間,,研磨粉碎時間(可以看作同等的電機,,流量越小,效果越好)
5 循環(huán)次數(越多,,效果越好,,到設備的期限,就不能再好)
線速度的計算
剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對速率,。
剪切速率 (s-1) = v 速率 (m/s)
g 定-轉子 間距 (m)
由上可知,剪切速率取決于以下因素:
轉子的線速率
在這種請況下兩表面間的距離為轉子-定子 間距,。
IKN 定-轉子的間距范圍為 0.2 ~ 0.4 mm
速率V= 3.14 X D(轉子直徑)X 轉速 RPM / 60
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粉碎研磨分散的本質是通過能量的輸入使不相溶的兩相或多相達到互相包裹,,近似穩(wěn)定均一狀態(tài)的做功過程。即形成乳液或懸浮液的條件是,,在某一能量水平上,, 各種微滴顆粒集聚的速度與分散的速度達到動態(tài)的平衡。
IKN膠體磨由電動機通過皮帶傳動帶動轉齒(或稱為轉子)與相配的定齒(或稱為定子)作相對的高速旋轉,,被加工物料通過本身的重量或外部壓力(可由泵產生)加壓產生向下的螺旋沖擊力,,透過定、轉齒之間的間隙(間隙可調)時受到強大的剪切力,、摩擦力,、高頻振動等物理作用,使物料被有效地乳化,、分散和粉碎,,達到物料超細粉碎及乳化的效果
為了達到巨大的能量輸入,IKN采用提高定轉子轉速的方法,。在電機固定三千轉的前提下,,我們采用立式的結構通過皮帶加速達到15000轉。這很容易做到,,但重要的是其它的部件能否能在高轉速下保持穩(wěn)定——軸承的強度夠不夠?機械密封會不會因為產生大量的熱而損毀泄露,?主軸會不會偏振的很厲害,定轉子是否會發(fā)生摩擦?這些是IKN的關注點,,也應該是廣大客戶在選型時應該重視的幾個方面,。
核糖核酸膠體磨,豬胰膠體磨,核酸膠體磨,核糖膠體磨,豬胰高速勻漿機由膠體磨,分散機組合而成的高科技產品。
**級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽,。定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離,。在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向,。
第二級由轉定子組成,。分散頭的設計也很好地滿足不同粘度的物質以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉子(乳化頭)和批次式機器的工作頭設計的不同主要是因為在對輸送性的要求方面,,特別要引起注意的是:在粗精度,、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是指定轉子齒的排列,還有一個很重要的區(qū)別是不同工作頭的幾何學特征不一樣,。狹槽數,、狹槽寬度以及其他幾何學特征都能改變定子和轉子工作頭的不同功能。根據以往的慣例,,依據以前的經驗指定工作頭來滿足一個具體的應用,。在大多數情況下,機器的構造是和具體應用相匹配的,,因而它對制造出*終產品是很重要,。當不確定一種工作頭的構造是否滿足預期的應用。
CMD2000系列的線速度很高,,剪切間隙非常小,,這樣當物料經過的時候,形成的摩擦力就比較劇烈,,結果就是通常所說的濕磨,。定轉子被制成圓椎形,具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽,。定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離,。在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向,。高質量的表面拋光和結構材料,,可以滿足不同行業(yè)的多種要求。
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研磨分散機應用領域: 化學工業(yè):油漆,、顏料,、染料、涂料,、潤滑油,、潤滑脂、柴油,、石油催化劑,、乳化瀝青、膠粘劑,、洗滌劑,、塑料、玻璃鋼,、皮革,、白炭黑,二氧化硅,鈦白粉,炭黑,纖維素,,石墨烯,碳納米管,,富勒烯,,電池漿,壓裂液料,纖維,芳綸,氯綸,晴綸等。 食品工業(yè):蘆薈,、菠蘿,、芝麻、果茶,、冰淇淋,、月餅餡、奶油,、果醬,、果汁,、大豆,、豆醬、豆沙,、花生奶,、蛋白奶、豆奶,、杏仁露,、核桃露、乳制品,,麥乳精,、香精、各種飲料 花生醬,、豆瓣醬,、香菇醬、辣醬,、醬蝦醬,,食用菌絲,蛋白粉 ,,豆粕酶解等
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設備等級:化工級,、衛(wèi)生I級、衛(wèi)生II級,、無菌級
電機形式:普通馬達,、變頻調速馬達、防爆馬達,、變頻防爆馬達,、
電源選擇: 380V/50HZ、220V/60HZ,、440V/50HZ
電機選配件: PTC 熱保護,、降噪型
研磨分散機材質:SUS304 ,、SUS316L 、SUS316Ti,氧化鋯陶瓷
研磨分散機選配:儲液罐,、排污閥,、變頻器、電控箱,、移動小車
研磨分散機表面處理:拋光,、耐磨處理
進出口聯(lián)結形式:法蘭、螺口,、夾箍
研磨分散機選配容器:本設備適合于各種不同大小的容器
研磨分散機 | 流量* | 輸出 | 線速度 | 功率 | 入口/出口連接 |
類型 | l/h | rpm | m/s | kW | |
CMSD 2000/4 | 400 | 14,000 | 41 | 4 | DN25/DN15 |
CMSD 2000/5 | 1500 | 10,500 | 41 | 11 | DN40/DN32 |
CMSD 2000/10 | 4000 | 7,200 | 41 | 22 | DN80/DN65 |
CMSD 2000/20 | 10000 | 4,900 | 41 | 45 | DN80/DN65 |
CMSD 2000/30 | 20000 | 2,850 | 41 | 90 | DN150/DN125 |
CMSD2000/50 | 60000 | 1,100 | 41 | 160 | DN200/DN150 |
*流量取決于設置的間隙和被處理物料的特性,,同時流量可以被調節(jié)到**允許量的10%。 |
1 表中上限處理量是指介質為“水”的測定數據,。
2 處理量取決于物料的粘度,,稠度和*終產品的要求。
3 如高溫,,高壓,,易燃易爆,腐蝕性等工況,,必須提供準確的參數,,以便選型和定制,。
4 本表的數據因技術改動,,定制而不符,正確的參數以提供的實物為準,。
核糖核酸膠體磨,豬胰膠體磨,核酸膠體磨,核糖膠體磨,豬胰高速勻漿機,豬胰組織勻漿機,德國高速膠體磨
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曹小勇注冊地址
上海市松江區(qū)九新公路865號2幢101室-1成立日期
2009-6-9注冊資本
100萬有效期限
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