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研磨：利用剪切力,、摩擦力或沖擊力（將粉體由大顆粒粉碎剝離成小顆粒。

分散：納米粉體被其所添加溶劑,、助劑,、分散劑、樹脂等包覆住,，以便達到顆粒完全被分離、潤濕,分布均勻及穩(wěn)定目的,。

石墨烯墨烯（Graphene）是一種由碳原子以sp2雜化軌道組成六角型呈蜂巢晶格的平面薄膜,，只有一個碳原子厚度的二維材料,。石墨烯目前是世上*薄卻也是*堅硬的納米材料，幾乎完全透明,，只吸收2.3%的光,；導(dǎo)熱系數(shù)高達5300W/m，高于碳納米管和金剛石,，常溫下其電子遷移率超過15000cm2/Vs,，又比納米碳管或硅晶體高，而電阻率只約10-8Ω/m,，比銅或銀更低,，為世上電阻率*小的材料

溶劑剝離法

　　溶劑剝離法的原理是將少量的石墨分散于溶劑中形成低濃度的分散液，利用超聲波的作用破壞石墨層間的范德華力,，溶劑插入石墨層間,，進行層層剝離而制備出石墨烯。此方法不會像氧化-還原法那樣破壞石墨烯的結(jié)構(gòu),，可以制備高質(zhì)量的石墨烯

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 研磨機機 和分散機組合而成的高科技產(chǎn)品,。 

    **級由具有精細度遞升的多級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離,。在增強的流體湍流下,，凹槽在每級都可以改變方向。

    第二級由轉(zhuǎn)定子組成,。分散頭的設(shè)計也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要,。在線式的定子和轉(zhuǎn)子（乳化頭）和批次式機器的工作頭設(shè)計的不同主要是因為在對輸送性的要求方面，特別要引起注意的是：在粗精度,、中等精度,、細精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是指定轉(zhuǎn)子齒的排列，還有一個很重要的區(qū)別是不同工作頭的幾何學(xué)特征不一樣,。狹槽數(shù),、狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例,，依據(jù)以前的經(jīng)驗指定工作頭來滿足一個具體的應(yīng)用,。在大多數(shù)情況下，機器的構(gòu)造是和具體應(yīng)用相匹配的,，因而它對制造出*終產(chǎn)品是很重要,。當不確定一種工作頭的構(gòu)造是否滿足預(yù)期的應(yīng)用。

CMD2000系列的線速度很高,，剪切間隙非常小,，這樣當物料經(jīng)過的時候，形成的摩擦力就比較劇烈,，結(jié)果就是通常所說的濕磨,。定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形,，具有精細度遞升的多級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離,。在增強的流體湍流下,，凹槽在每級都可以改變方向。高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料,，可以滿足不同行業(yè)的多種要求,。 

10,500

41

11

DN40/DN32

CMSD 2000/10

4000

7,200

41

22

DN80/DN65

CMSD 2000/20

10000

4,900

41

45

DN80/DN65

CMSD 2000/30

20000

2,850

41

90

DN150/DN125

CMSD2000/50

60000

1,100

41

160

DN200/DN150

*流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性，同時流量可以被調(diào)節(jié)到**允許量的10%,。

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