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研磨：利用剪切力（shear force）、摩擦力或沖擊力（impactforce）將粉體由大顆粒粉碎剝離成小顆粒,。

分散：納米粉體被其所添加溶劑,、助劑、分散劑,、樹脂等包覆住,，以便達到顆粒完全被分離（separating）、潤濕（wetting）,、分布（distributing）均勻及穩(wěn)定（stabilization）目的,。

在做納米粉體分散或研磨時，因為粉體尺度由大變小的過程中,，范德華力及布朗運動現(xiàn)象逐漸明顯且重要。選擇適當助劑以避免粉體再次凝聚及選擇適當?shù)难心C來控制研磨漿料溫度以降低或避免布朗運動影響,，是濕法研磨分散方法能否成功地得到納米級粉體研磨及分散關(guān)鍵技術(shù),。

石墨烯剝離    溶劑剝離法的原理是將少量的石墨分散于溶劑中形成低濃度的分散液，利用玻璃的作用破壞石墨層間的范德華力,，溶劑插入石墨層間,，進行層層剝離而制備出石墨烯。此方法不會像氧化-還原法那樣破壞石墨烯的結(jié)構(gòu),，可以制備高質(zhì)量的石墨烯,。

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   研磨機機 和分散機組合而成的高科技產(chǎn)品,。 

    **級由具有精細度遞升的多級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離,。在增強的流體湍流下,，凹槽在每級都可以改變方向。

    第二級由轉(zhuǎn)定子組成,。分散頭的設(shè)計也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要,。在線式的定子和轉(zhuǎn)子（乳化頭）和批次式機器的工作頭設(shè)計的不同主要是因為在對輸送性的要求方面，特別要引起注意的是：在粗精度,、中等精度,、細精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是指定轉(zhuǎn)子齒的排列，還有一個很重要的區(qū)別是不同工作頭的幾何學(xué)特征不一樣,。狹槽數(shù),、狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例,，依據(jù)以前的經(jīng)驗指定工作頭來滿足一個具體的應(yīng)用,。在大多數(shù)情況下，機器的構(gòu)造是和具體應(yīng)用相匹配的,，因而它對制造出*終產(chǎn)品是很重要,。當不確定一種工作頭的構(gòu)造是否滿足預(yù)期的應(yīng)用。

CMD2000系列的線速度很高,，剪切間隙非常小,，這樣當物料經(jīng)過的時候，形成的摩擦力就比較劇烈,，結(jié)果就是通常所說的濕磨,。定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形，具有精細度遞升的多級鋸齒突起和凹槽,。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離,。在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向,。高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料,，可以滿足不同行業(yè)的多種要求。

IKN石墨烯研磨設(shè)備采用德國先進的高速研磨分散技術(shù),，通過超高
轉(zhuǎn)速（**可達14000rpm）帶動超高精密的磨頭定轉(zhuǎn)子（通常配CM+8SF,，定轉(zhuǎn)子間隙在0.2-0.3之間）使石墨烯漿料在設(shè)備的高線速度下形成湍流，在定轉(zhuǎn)子間隙里不斷的撞擊,、破碎,、研磨、分散、均質(zhì),，從而得出超細的顆粒（當然也需要合適的分散劑做助劑）,。綜合以上幾點可以得出理想的導(dǎo)電石墨烯漿料。

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石墨烯 分散技術(shù)三要素

二、分散劑用量推薦

三,、石墨烯 分散劑概述

四,、超聲波分散設(shè)備使用建議及分散實例

五、研磨分散設(shè)備使用建議

石墨烯 分散技術(shù)三要素：分散介質(zhì),、分散劑和分散設(shè)備

分散設(shè)備

（1）超聲波分散設(shè)備：非常適合實驗室規(guī)模,、低粘度介質(zhì)分散石墨烯，用于中,、高粘度介質(zhì)時會受到限制

（2）研磨分散設(shè)備：適合大規(guī)模地分散石墨烯,中粘度介質(zhì)分散石墨烯

（3）采用“先研磨分散,、后超聲波分散”組合方法，可以高效,、穩(wěn)定地分散石墨烯 

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