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納米粉體的分散是基礎(chǔ)研究領(lǐng)域和工業(yè)技術(shù)部門普遍遇到的課題,，其應(yīng)用日益廣泛,，如化工、醫(yī)藥,、涂料,、材料、食品等,。分散技術(shù)不僅是提高產(chǎn)品質(zhì)量和性能及提高工藝效率不可缺少,，而且是十分重要的技術(shù)手段。

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但是由于納米粉體粒度小，極易產(chǎn)生自發(fā)凝并,，表現(xiàn)出強(qiáng)烈的聚團(tuán)特性,，不論在空氣中還是在液相中均易生成粒徑較大的二次粉體，聚團(tuán)的結(jié)果導(dǎo)致納米粉體材料性能的嚴(yán)重劣化,。另一方面,，在復(fù)合材料的制備過程中，由于納米粉體的這種強(qiáng)烈團(tuán)聚特性和它與復(fù)合基體材料的極性差異,，納米粉體很難均勻地分散在基體材料中形成均質(zhì)復(fù)合材料,，是復(fù)合材料的性能難以達(dá)到人們預(yù)期的效果,。

              

所以為了解決這一問題，各種類型的分散設(shè)備應(yīng)運(yùn)而生,，粉體的分散,、混合與均化在粉體技術(shù)中有三個目的。其一是使團(tuán)聚粉體的碎解和分散,，盡力使團(tuán)聚粉體達(dá)到單粉體分散,；其二是在粉體制備過程中由于各部分或前后生產(chǎn)的產(chǎn)品的成分或粒度不均勻，而在使用時需要性能均一的粉體材料,，為了消除各部分性能上的差異,，需要對粉體材料進(jìn)行分散、混合與均化處理,；其三是,，有些粉體材料需要進(jìn)行改性處理，為了保證改性處理的均一性,，也需要進(jìn)行分散,、混合與均化處理。

目前對于納米粉體的分散,，一般采用以下幾種設(shè)備：

一,、超聲分散機(jī)，超聲方式分散,，對于小批量的物料還行,，但無法放大生產(chǎn)。
二,、機(jī)械攪拌分散機(jī),，這種在工業(yè)化分散中比較常見，但是由于自身的結(jié)構(gòu),，轉(zhuǎn)速低,，分散有死角，導(dǎo)致*終分散效果差,，并且分散的效率很低,。
三、混合分散機(jī),，這種分散機(jī)適合高粘度的物料的分散,，電機(jī)功率大，但是也存在和機(jī)械攪拌分散機(jī)一樣的問題,，分散效率低,，效果差。

隨著納米粉體分散的進(jìn)一步發(fā)展，上海IKN研發(fā)出**的分散設(shè)備-研磨分散機(jī),。結(jié)構(gòu)為膠體磨頭+分散頭定轉(zhuǎn)子,，先研磨打開團(tuán)聚體，在瞬時通過分散工作組進(jìn)行分散,，分散效率快,，分散效果好。

IKN研磨分散機(jī)在納米粉體的分散中有著突出的應(yīng)用和優(yōu)勢,，如納米氫氧化鎂,、納米氫氧化鋁、石墨烯,、碳納米管,、二氧化硅、納米樹脂,、納米涂料,、醫(yī)藥納米混懸液等都有著成功的經(jīng)驗(yàn)和案例。更多信息請聯(lián)系包經(jīng)理18018542795,。

IKN研磨分散機(jī)的研發(fā)初衷就是為了解決納米物料分散，解決粉體分散到液體中,，二次團(tuán)聚的問題,。CMD2000系列研磨分散設(shè)備是IKN（上海）公司經(jīng)過研究剛剛研發(fā)出來的一款新型產(chǎn)品，該機(jī)特別適合于需要研磨分散乳化均質(zhì)一步到位的物料,。我們將三層高剪切均質(zhì)乳化機(jī)進(jìn)行改裝,，我們將三層變更為一級，然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭,，使物料可以先經(jīng)過膠體磨細(xì)化物料,，然后再經(jīng)過乳化機(jī)將物料分散乳化均質(zhì)。膠體磨可根據(jù)物料要求進(jìn)行更換（我們提供了2P,，2G,，4M，6F,，8SF等五種乳化頭供客戶選擇） 

  

CMD2000系列納米粉體研磨分散機(jī)的結(jié)構(gòu)：

研磨式分散機(jī)是由錐體磨,分散機(jī)組合而成的高科技產(chǎn)品,。

**級由具有精細(xì)度遞升的三層鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離,。在增強(qiáng)的流體湍流下,，凹槽在每級都可以改變方向。

第二級由轉(zhuǎn)定子組成,。分散頭的設(shè)計(jì)也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要,。在線式的定子和轉(zhuǎn)子（乳化頭）和批次式機(jī)器的工作頭設(shè)計(jì)的不同主要是因?yàn)?在對輸送性的要求方面，特別要引起注意的是：在粗精度、中等精度,、細(xì)精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是指定轉(zhuǎn)子齒的排列,，還有一個很重要的區(qū)別是 不同工作頭的幾何學(xué)特征不一樣。狹槽數(shù),、狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能,。根據(jù)以往的慣例，依據(jù)以前的經(jīng)驗(yàn)指定工作頭來滿 足一個具體的應(yīng)用,。在大多數(shù)情況下,，機(jī)器的構(gòu)造是和具體應(yīng)用相匹配的，因而它對制造出*終產(chǎn)品是很重要,。當(dāng)不確定一種工作頭的構(gòu)造是否滿足預(yù)期的應(yīng)用,。

CMD2000系列納米粉體研磨分散機(jī)的特點(diǎn)：

① 線速度很高，剪切間隙非常小,，當(dāng)物料經(jīng)過的時候,，形成的摩擦力就比較劇烈，結(jié)果就是通常所說的濕磨

② 定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形,，具有精細(xì)度遞升的三層鋸齒突起和凹槽,。

③ 定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離

④ 在增強(qiáng)的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向,。

⑤ 高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料,，可以滿足不同行業(yè)的多種要求。

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