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膠體磨原理結構應用及影響因素

膠體磨原理結構應用及影響因素
IKN  2023-09-05  |  閱讀:3037

                膠體磨原理結構應用及影響因素

膠體磨是由電動機通過皮帶傳動帶動轉齒(或稱為轉子)與相配的定齒(或稱為定子)作相對的高速旋轉,被加工物料通過本身的重量或外部壓力(可由泵產生)加壓產生向下的螺旋沖擊力,,透過膠體磨定,、轉齒之間的間隙(間隙可調)時受到強大的剪切力、摩擦力,、高頻振動等物理作用,,使物料被有效地乳化、分散和粉碎,,達到物料超細粉碎及乳化的效果,。

 

膠體磨1-3個工作腔組成,在馬達的高速驅動下,,物料在轉子與定子之間的狹窄間隙中高速運動,,形成紊流,物料受到更強液力剪切,、離心擠壓,、高速切割、撞擊和研磨等綜合作用,,從而達到分散,、乳化、破碎的效果。被加工物料本身和物理性質和工作腔的數(shù)量以及控制物料在工作腔中停留的時間決定了粒徑分布范圍及均化,、細化的效果和產量的大小,。

膠體磨的細化作用一般來說要弱于均質機,但它對物料的適應能力較強(如高粘度,、大顆粒),,所以在很多場合下,它用于均質機的前道或者用于高粘度的場合,。在固態(tài)物質較多時也常常使用膠體磨進行細化,。 

 CM2000系列是專門為膠體溶液生產所設計,特別是那些需要很好乳化和分散效果的膠體生產,。CM2000的線速度很高,,剪切間隙非常小,這樣當物料經(jīng)過的時候,,形成的摩擦力就比較劇烈,,結果就是通常所說的濕磨。定轉子被制成圓椎形,,具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽,。定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離。在增強的流體湍流下,,凹槽在每級都可以改變方向,。高質量的表面拋光和結構材料,可以滿足不同行業(yè)的多種要求,。 

膠體磨頭.png


影響研磨粉碎結果的因素有以下幾點

 

2 膠體磨磨頭頭的剪切速率  (越大,,效果越好)

3 膠體磨頭的齒形結構(分為初齒,中齒,,細齒,,超細齒,約細齒效果越好)

4  物料在研磨腔體的停留時間,,研磨粉碎時間(可以看作同等的電機,流量越小,,效果越好)

5 循環(huán)次數(shù)(越多,,效果越好,到設備的期限,,就不能再好)

 

線速度的計算

剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對速率,。

剪切速率 (s-1) = v 速率 (m/s)   
               g -轉子 間距 (m)

由上可知,剪切速率取決于以下因素:

轉子的線速率在這種請況下兩表面間的距離為轉子-定子 間距,。
IKN -轉子的間距范圍為 0.2 ~ 0.4 mm  

 

速率V=  3.14 X  D(轉子直徑)X 轉速 RPM  /   60

 

 型號簡介:

1.  CM2000膠體磨

立式分體結構,,單級定轉子,。轉速最高可達9000轉。獨立機械密封冷卻鎖壓系統(tǒng),。

 

三級錯齒結構的研磨轉子,,配合精密的定子腔。此款立式膠體磨比普通的臥式膠體磨的速度達到3倍以上,最小的轉速可以達到14000RPM,。所以可以達到更好的分散濕磨效果,。

 

 

 

 

膠體磨選配容器:本設備適合于各種不同大小的容器

膠體磨

流量*

輸出

線速度

功率

入口/出口連接

類型

l/h

rpm

m/s

kW



700

9,000

23

2.2

DN25/DN15

CM 2000/5

3,000

6,000

23

7.5

DN40/DN32

CM 2000/10

8,000

4,200

23

22

DN50/DN50

CM 2000/20

20,000

2,850

23

37

DN80/DN65

CM 2000/30

40,000

1,420

23

55

DN150/DN125

CM 2000/50

80,000

1,100

23

110

DN200/DN150

*流量取決于設置的間隙和被處理物料的特性,,同時流量可以被調節(jié)到最大允許量的10%,。

1 表中上限處理量是指介質為“水”的測定數(shù)據(jù)。

 

 

 

 

 

2.CMO 高剪剪切膠體磨

CM02000系列錐體磨(膠體磨)

錐體磨(膠體磨)工作原理:錐體磨(膠體磨)是由電動機通過皮帶傳動帶動轉齒(或稱為轉子)與相配的定齒(或稱為定子)作相對的高速旋轉,,被加工物料通過本身的重量或外部壓力(可由泵產生)加壓產生向下的螺旋沖擊力,,透過錐體磨(膠體磨)定、轉齒之間的間隙(間隙可調)時受到強大的剪切力,、摩擦力,、高頻振動等物理作用,使物料被有效地乳化,、分散和粉碎,,達到物料超細粉碎及乳化的效果。
     上海依肯機械設備有限公司另外一項獨特的創(chuàng)新,,就是CMO2000系列錐體磨(膠體磨),,它的設計使其功能在原有的CM2000系列膠體磨的基礎上又進了一步。由于這項創(chuàng)新,,CMO2000系列錐體磨(膠體磨)能夠濕磨和研磨,,產生的顆粒粒徑甚至比膠體磨CM2000還小。錐體磨(膠體磨)的研磨間隙可以無級調節(jié),,從而可以得到精確的研磨參數(shù),。 
      錐體磨(膠體磨)的研磨頭的表面涂上了一層極其堅硬的硬質材料,從而使其表面具有非常粗糙的紋理,。這種硬質材料是由碳化物,、陶瓷等高質量物質構成,如碳化鎢鈷膠體磨,陶瓷膠體磨,氧化鋯陶瓷膠體磨等等特制的膠體磨.并且具有不同的粒徑,。研磨頭處形成了一個具有強烈剪切的區(qū)域,,可以輸送高粘度和低粘度物料,但它的分散效果和最后的粒徑大小都比膠體磨CM的效果更加理想,。

膠體磨(錐體磨)應用領域: 
食品工業(yè):蘆薈,、菠蘿、芝麻,、果茶,、冰淇淋,、月餅餡、奶油,、果醬,、果汁、大豆,、豆醬,、豆沙、花生奶,、蛋白奶,、豆奶、乳制品,,麥乳精,、香精、各種飲料等,。
化學工業(yè):油漆,、顏料、染料,、涂料,、潤滑油、潤滑脂,、柴油,、電池漿料、乳化瀝青,、膠粘劑,、洗滌劑、塑料,、玻璃鋼,、皮革、電子漿料等,。
日用化工:牙膏,、洗滌劑、洗發(fā)精,、鞋油,、高級化妝品、沐浴精,、肥皂,、香脂等。
醫(yī)藥工業(yè):各型糖漿,、營養(yǎng)液,、中成藥,、膏狀藥劑、生物制品,、魚肝油,、花粉、蜂皇漿,、疫苗,、各種藥膏、各種口服液,、針劑,、靜滴液等。
建筑工業(yè):各種涂料,。包括內外墻涂料,、防腐防水涂料,、冷瓷涂料,、多彩涂料、陶瓷釉料等,。

  

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

3 中試型膠

 

CM2000/4 (PP2000/4)功率2.2-4 KW轉速0-14000rpm線速度0-40m/s尺寸(長X寬X高)(450X250X350)mm重量45操作條件0-16bar

  中試型是由電動機通過皮帶傳動帶動轉齒(或稱為轉子)與相配的定齒(或稱為定子)作相對的高速旋轉,,被加工物料通過本身的重量或外部壓力(可由泵產生)加壓產生 向下的螺旋沖擊力,透過中試型膠體磨定,、轉齒之間的間隙(間隙可調)時受到強大的剪切力,、摩擦力、高頻振動等物理作用,,使物料被有效地乳化,、分散和粉碎,達到物料超細粉碎及乳化的效果,。

  中試型膠體磨的細化作用一般來說要弱于均質機,,但它對物料的適應能力較強(如高粘度、大顆粒),,所以在很多場合下,,它用于均質機的前道或者用于高粘度的場合。在固態(tài)物質較多時也常常使用膠體磨進行細化,。物料粘度或固含量高導致不能正常進料和輸送時,,須選用壓力或輸送泵進料或送料,輸送泵的壓力和流量與被選機型相匹配,。 

  CM2000/4中試型膠體磨是專門為膠體溶液生產所設計,,特別是那些需要很好乳化和分散效果的膠體生產。 CM2000/4中試型膠體磨的線速度很高,,剪切間隙非常小,,這樣當物料經(jīng)過的時候,,形成的摩擦力就比較劇烈,結果就是通常所說的濕磨,。 CM2000/4中試型膠體磨的定轉子被制成圓椎形,,具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離,。在增強的流體湍流下,,凹槽在每級都可以改變方向。高質量的表面拋光和結構材料,,可以滿足不同行業(yè)的多種要求,。

  公司另外一項獨特的創(chuàng)新,就是CMO2000系列,,它的設計使其功能在原有的CM2000的基礎上又進了一步,。由于這項創(chuàng)新,CMO2000能夠濕磨和研磨,,產生的顆粒粒徑甚至比膠體磨CM2000還小,。研磨間隙可以無級調節(jié),從而可以得到精確的研磨參數(shù),。 研磨頭的表面涂上了一層極其堅硬的硬質材料,,從而使其表面具有非常粗糙的紋理。這種硬質材料是由碳化物,、陶瓷等高質量物質構成,,并且具有不同的粒徑。研磨頭處形成了一個具有強烈剪切的區(qū)域,,可以輸送高粘度和低粘度物料,,但它的分散效果和最后的粒徑大小都比膠體磨CM的效果更加理想。

它們的主要區(qū)別

 

  CM2000/4(LP系列)為實驗室膠體磨的技術參數(shù):功率1.5-2.2KW,轉速0-14000rpm,線速度 0-40m/s,電壓380V,機器產量為 0– 700 /小時(水),,重量35KG,尺寸 (長寬高)(450X250X350)MM,,LP使用軸封(PTFE 環(huán)),在正常的情況下,,一般軸封可以使用3000-4000次,。LP不能24小時連續(xù)使用,一般最多可以使用連續(xù)半個小時,,這要依據(jù)料液的溫度和轉速而定,。LP也可以通過變換模塊,可以實現(xiàn)多功能多用途,。是實驗室生產的最佳選擇,。

   CM2000/4PP系列)為中試型膠體磨的技術參數(shù):功率2.2-4KW,轉速0-14000rpm,線速度 0-40m/s,電壓380V,機器產量為 0– 700 /小時(水),,重量45KG, 尺寸 (長寬高)((450X250X350)MM,,PP使用雙機械密封,,可24小時不停機連續(xù)生產,并通冷媒對密封部分進行冷卻,。通過變換模塊,,可以實現(xiàn)多功能多用途。此款中試型膠體磨比普通的膠體磨的速度達到4-5倍以上,,研磨效果非常好,,最高轉速可以達到14000RPM。機械密封和機械設計符合3A健康標準,,是中試和小批量生產的最佳選擇,。

 


 

4.CMS2000系列高速膠體磨

 

  

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

高速膠體磨工作原理:超高膠體磨是由電動機通過皮帶傳動帶動轉齒(或稱為轉子)與相配的定齒(或稱為定子)作相對的高速旋轉,被加工物料通過本身的重量或外部壓力(可由泵產生)加壓產生向下的螺旋沖擊力,,透過膠體磨定,、轉齒之間的間隙(間隙可調)時受到強大的剪切力、摩擦力,、高頻振動等物理作用,,使物料被有效地乳化、分散和粉碎,,達到物料超細粉碎及乳化的效果,。
        

  根據(jù)一些行業(yè)的特殊要求, IKN 在CM2000系列膠體磨的基礎上又開發(fā)了一款CMS2000高速膠體磨,轉子的線速度可以達到40M/S,。研磨分散效果更好,研磨粒徑分布更小,。

  超高速膠體磨的細化作用一般來說要強于均質機,,但它對物料的適應能力較強(如高粘度、大顆粒),,所以在很多場合下,,它用于高粘度的場合。在固態(tài)物質較多時也常常使用膠體磨進行細化,。 

    CMS2000的線速度很高,,剪切間隙非常小,這樣當物料經(jīng)過的時候,,形成的摩擦力就比較劇烈,,結果就是通常所說的濕磨。定轉子被制成圓椎形,,具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽,。定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離。在增強的流體湍流下,,凹槽在每級都可以改變方向,。高質量的表面拋光和結構材料,,可以滿足不同行業(yè)的多種要求。

  三級錯齒結構的研磨轉子,,配合精密的定子腔,。此款高速膠體磨比普通的臥式膠體磨的速度達到3倍以上,最小的轉速可以達到14000RPM。所以可以達到更好的分散濕磨效果,。

 

 

   

 

設備等級:化工級,、衛(wèi)生I級、衛(wèi)生II級,、無菌級
電機形式:普通馬達,、變頻調速馬達、防爆馬達,、變頻防爆馬達,、
電源選擇: 380V/50HZ、220V/60HZ,、440V/50HZ
電機選配件: PTC 熱保護,、降噪型
超高速膠體磨材質:SUS304 、SUS316L ,、SUS316Ti
超高速膠體磨選配:儲液罐,、排污閥、變頻器,、電控箱,、移動小車
超高速膠體磨表面處理:拋光、耐磨處理
進出口聯(lián)結形式:法蘭,、螺口,、夾箍
膠體磨選配容器:本設備適合于各種不同大小的容器

高速膠體磨

流量*

輸出

線速度

功率

入口/出口連接

類型

l/h

rpm

m/s

kW



700

14000

40

2.2

DN25/DN15

CMS 2000/5

5,000

10,500

40

7.5

DN40/DN32

CMS 2000/10

10,000

7,300

40

22

DN50/DN50

CMS 2000/20

30,000

4,900

40

37

DN80/DN65

CMS 2000/30

60,000

2,850

40

75

DN150/DN125

CMS 2000/50

100000

2,000

40

160

DN200/DN150

*流量取決于設置的間隙和被處理物料的特性,同時流量可以被調節(jié)到最大允許量的10%,。

1 表中上限處理量是指介質為“水”的測定數(shù)據(jù),。

2 處理量取決于物料的粘度,稠度和最終產品的要求,。

3 如高溫,,高壓,易燃易爆,,腐蝕性等工況,,必須提供準確的參數(shù),以便選型和定制,。

 

5.CMC2000系列陶瓷膠體磨

  陶瓷膠體磨由電動機通過皮帶傳動帶動轉齒(或稱為轉子)與相配的定齒(或稱為定子)作相對的高速旋轉,,被加工物料通過本身的重量或外部壓力加壓產生向下的螺旋沖擊力,透過陶瓷膠體磨定、轉齒之間的間隙(間隙可調)時受到強大的剪切力,、摩擦力,、高頻振動等物理作用,使物料被有效地乳化,、分散和粉碎,,達到物料超細粉碎及乳化的效果。
    

  上海依肯機械設備有限公司另外一項獨特的創(chuàng)新,,就是CMC2000系列陶瓷膠體磨,它的設計使其功能在原有的CMC2000系列膠體磨的基礎上又進了一步,。由于這項CMC2000系列陶瓷膠體磨能夠濕磨和研磨,產生的顆粒粒徑甚至比膠體磨CM2000還小,。高速陶瓷膠體磨的研磨間隙可以無級調節(jié),,從而可以得到精確的研磨參數(shù)。 
       

陶瓷膠體磨是由二組陶瓷轉子,,二組陶瓷定子組成,,在陶瓷膠體磨泵腔內部轉子高速旋轉,使陶瓷轉子甩出,,緊貼陶瓷定子,,產生強勁的動能能快速地將粉體分散到液體中,高效,、快速,、均勻地將一個相或多個相分布到另一個連續(xù)的相中,通常物料中的各個相是互不相溶的,。陶瓷膠體磨使物料在定轉子之間微小的空隙中受到剪切,、離心擠壓、撞擊,、研磨,、高頻振蕩等綜合作用,使物料經(jīng)過研磨后細度大大提高,,再通過適量的添加劑共同作用,使產品快速,、均勻,、分散、乳化,,研磨,,避免了原金屬膠體磨磨損后效果差缺點,效能比原來有膠體磨提高3倍以上,,陶瓷膠體磨特別是對金屬污染要求特別高的企業(yè),,如電子和電池行業(yè),可以達到更高品質產品。

陶瓷膠體磨的工藝應用

 

鋰電池正負極漿料的超細分散  

電路板基材漿料粉液超細分散

高粘度物料粉液超細混合分散    

納米材料團聚物超細解聚分散


陶瓷膠體磨應用領域:

電子電池:鋰電池正極漿料,、鋰電池負極漿料,、電路板基材漿料

納米材料:超細碳酸鈣、白炭黑等納米材料解聚,、納米粉體應用固-液分散

精細化工:熱熔膠,、密封膠、膠水,、絮凝劑,、表面活性劑

生物醫(yī)藥:藥膏、軟膏,、霜劑,、注射劑、微膠囊乳劑,、填充劑分散

 

                        

 

                                                               

 

 

 

 

 

 

 

陶瓷膠體磨

流量

輸出

線速度

功率

入口/輸出連接

類型

l/h

rpm

m/s

kW



50

9,000

23

2.2

DN25/DN15

 CMC 2000/5

200

6,000

23

7.5

DN40/DN32

 CMC 2000/10

500

4,200

23

22

DN50/DN50

 CMC 2000/20

1500

2,850

23

37

DN80/DN65

 CMC 2000/30

3000

1,420

23

55

DN150/DN125

 CMC 2000/50

6000

1,100

23

110

DN200/DN150

流量取決于設置的間隙和被處理物料的特性,,可以被調節(jié)到最大允許量的10%。

1 表中上限處理量是指介質為“水”的測定數(shù)據(jù),。

2 處理量取決于物料的粘度,,稠度和最終產品的要求。

3 如高溫,,高壓,,易燃易爆,腐蝕性等工況,,必須提供準確的參數(shù),,以便選型和定制。

 

 

 

 

 


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