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醫(yī)藥結晶體,、化工原料結晶體的粉碎方法及設備

晶體（crystal）是由大量微觀物質單位（　原子　,、　離子　、　分子　等）按一定規(guī)則有序排列的結構,，因此可以從結構單位的大小來研究判斷排列規(guī)則和晶體形態(tài) ,。

實際上是一些用于藥品合成工藝過程中的一些　化工原料　或化工產(chǎn)品。這種化工產(chǎn)品,，不需要藥品的生產(chǎn)許可證,，在普通的化工廠即可生產(chǎn)，只要達到一些的級別,，即可用于藥品的合成

目前許多結晶體一般在40-50UM ,，下游的客戶在處理這些物料有更高的要求　
　
一般需要達到5-10UM　 ，粉碎的方法主要有兩種：1干法氣流粉碎,，2濕法粉碎 ,。

干磨產(chǎn)生大量灰塵，從而需要配備適當?shù)倪^濾系統(tǒng),。當研磨其粉塵與大氣氧氣混合會產(chǎn)生爆炸性混合物的物質時,，這一點尤其重要。達到規(guī)定的安全等級通常需要精心設計的技術解決方案,，如除塵和惰性氣體覆蓋系統(tǒng),。這些過濾系統(tǒng)的成本通常大大超出實際研磨機的成本?！?/span>

　
用轉子-定子裝置濕磨此類物質具有諸多好處：

研磨得到的細顆粒被直接融合到懸浮液中,，因而從開始就避免了灰塵的形成。

與干磨系統(tǒng)不同,，被研磨的物質保持在系統(tǒng)內(nèi),，從而大幅減少了損失。因此,，濕磨非常適合有機化學品,，尤其是優(yōu)質物質,，或者有毒物質的研磨。

相對干磨過程而言,，濕磨的產(chǎn)品進料和計量較容易,。

濕磨被用于醫(yī)藥工業(yè)的許多應用中，并且取得了良好的效果,，因為它非常適用于API（活性藥用成分）,。

粉碎研磨分散的本質是通過能量的輸入使不相溶的兩相或多相達到互相包裹，近似穩(wěn)定均一狀態(tài)的做功過程,。即形成乳液或懸浮液的條件是,，在某一能量水平上，　各種微滴顆粒集聚的速度與分散的速度達到動態(tài)的平衡,。

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