中國粉體網(wǎng)訊  鈰基拋光粉被譽(yù)為“拋光粉之王”，具有拋光效率高,、粒度均一,、硬度適中,、拋光質(zhì)量好等優(yōu)點(diǎn),，其拋光能力與氧化鈰的含量,、自身物理化學(xué)性質(zhì)（粘度,、活性）等密切相關(guān),。目前的研究表明采用納米氧化鈰作為CMP磨料，在拋光效率及效果上均優(yōu)于其他產(chǎn)品,。

相對(duì)比其他磨料,，氧化鈰一般不溶于堿，在堿性拋光條件下呈兩性性質(zhì),，能同時(shí)吸附陰,、陽離子，能夠與堿很好配合拋光,。由于CeO₂拋光液拋光效率高,，一般可達(dá)到0.8～1.5μm/min，而且粒子懸浮性好,，拋光后易清理,，因此通用性很強(qiáng)，常用于精密光學(xué)元件,、晶體和藍(lán)寶石等的精密拋光過程,，同時(shí)還可用于多重?cái)U(kuò)散硅片（儲(chǔ)存器硬盤基片）的高精度拋光，還可用于擴(kuò)散片的拋光過程,。

但當(dāng)前技術(shù)下,，工業(yè)生產(chǎn)出的CeO₂磨粒形貌不規(guī)則、粒度分布范圍大,，使得拋光質(zhì)量不穩(wěn)定,。值得注意的是,，當(dāng)采用氧化鈰拋光粉作為磨料制備拋光液，分散懸浮穩(wěn)定性是重中之重,，否則粒子較易團(tuán)聚,，容易導(dǎo)致工件劃傷；同時(shí)由于懸浮清洗性能不好,，拋光液磨料損耗快，容易粘附在工件及機(jī)臺(tái)表面,，使磨料沉底結(jié)塊,，研磨拋光效率降低；另外拋光后工件表面殘留拋光粉多,，難以清洗,，為后段正常生產(chǎn)帶來困難。

針對(duì)這些問題,，有研稀土圍繞CeO₂拋光材料的可控制備開展了系統(tǒng)研究,。采用原位分析、跨尺度表征等多種手段,，明確了CeO₂的形核生長機(jī)理,，開發(fā)出不同形貌、尺寸和表面特性的納米CeO₂的合成方法和可控制備技術(shù),，揭示了CeO₂物相,、結(jié)構(gòu)與形貌的演變規(guī)律，制備出系列易分散的納米氧化鈰粉體和拋光液,，并在多家企業(yè)開展應(yīng)用評(píng)價(jià)和小批量應(yīng)用,，展示出優(yōu)異的應(yīng)用效果和應(yīng)用前景。

2024年7月9日,，中國粉體網(wǎng)將在鄭州舉辦“2024高端研磨拋光材料技術(shù)大會(huì)”,，屆時(shí)，有研稀土新材料股份有限公司高級(jí)研發(fā)主管王寧將帶來《納米鈰基拋光材料及其在半導(dǎo)體領(lǐng)域的應(yīng)用進(jìn)展》的報(bào)告,，報(bào)告將介紹有研稀土在氧化鈰拋光液的相關(guān)研究,，揭示了CeO₂物相、結(jié)構(gòu)與形貌的演變規(guī)律,，制備出系列易分散的納米氧化鈰粉體和拋光液,。

（中國粉體網(wǎng)編輯整理/空青）

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