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1. 技術先進,、設計優(yōu)化,，性價比高,，性能穩(wěn)定,，使用維護成本低。

2.大面積,，復合型,，批量制備，潔凈真空不同功能復合涂層制備,，可獲得更高電池轉(zhuǎn)換效率,。

3.廣泛用于鈣鈦礦太陽能電池及復合功能薄膜材料制備等應用。

設備名稱：鈣鈦礦大面積蒸發(fā)設備

設備型號：ZDF3200（單片/多片）

鍍膜方式：線源蒸發(fā)

真空腔室結(jié)構：臥式方箱結(jié)構

真空腔室尺寸：L810mm×W700mm×H670mm（鍍膜室）

極限真空：優(yōu)于5.0x10-?Pa

基片臺尺寸：330mm×420mm

基片溫度：80℃以下

膜厚不均勻性：≤±5.0%（330mmx420mm范圍內(nèi)）

蒸發(fā)源：高低溫線性蒸發(fā)源

膜厚監(jiān)控系統(tǒng)：國產(chǎn)或進口多探頭（可選）

控制方式：PLC + 觸摸屏控制

占地面積：L3200mm×W2000mm×H1800mm

總功率：≥40KW