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CNT高真空CVD系統(tǒng)是一款專業(yè)在沉底材料上生長(zhǎng)高質(zhì)量石墨烯,、碳納米管,、碳化硅的專用設(shè)備，廣泛應(yīng)用于在半導(dǎo)體,、納米材料,、碳纖維、碳化硅,、鍍膜等新材料新工藝領(lǐng)域,。

產(chǎn)品結(jié)構(gòu)

高真空CVD系統(tǒng)主要由高溫腔體、石英管,、石英支架,、氣路系統(tǒng)、分子泵機(jī)組,、自動(dòng)化控制系統(tǒng),、冷卻系統(tǒng)等組成。

1,、沉底材料可采用銅箔,、石墨等;

2、生長(zhǎng)腔體采用進(jìn)口高純石英管,，配石英支架,、為石墨烯等材料的生長(zhǎng)提供潔凈環(huán)境;

3、加熱腔體采用進(jìn)口陶瓷纖維加熱器，均溫區(qū)200mm,、對(duì)開(kāi)式結(jié)構(gòu);

4,、密封法蘭均采用不銹鋼材質(zhì)，配水冷套,，可連續(xù)長(zhǎng)時(shí)間工作;

5,、氣路系統(tǒng)采用三路質(zhì)量流量計(jì)(可拓展多路),配預(yù)混系統(tǒng);

6、真空系統(tǒng)采用分子泵機(jī)組;

7,、控制系統(tǒng)采用10寸觸摸屏加西門(mén)子PLC模塊;

8,、可選配RF射頻電源模塊;

9、氣體種類： He/Ar,、C2H2,、NH3、N2, H2,、PH3,、GeH4、B2H6

10,、溫度,、氣體、真空,、冷卻水等通過(guò)PLC控制,，通過(guò)PC實(shí)時(shí)控制和顯示相關(guān)的實(shí)驗(yàn)參數(shù)，自動(dòng)保存實(shí)驗(yàn)參數(shù),，也可采用手動(dòng)控制.

11,、系統(tǒng)采用集成化設(shè)計(jì)，控制系統(tǒng),、混氣罐,、質(zhì)量流量計(jì)等均內(nèi)置在箱體內(nèi)部，占地面積小,。整體安裝四個(gè)可移動(dòng)輪子,，方便整體移動(dòng)。

技術(shù)參數(shù)