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CNT高真空CVD系統(tǒng)是一款專業(yè)在沉底材料上生長高質量石墨烯,、碳納米管、碳化硅的專用設備,，廣泛應用于在半導體、納米材料,、碳纖維,、碳化硅、鍍膜等新材料新工藝領域,。

產品結構

高真空CVD系統(tǒng)主要由高溫腔體,、石英管、石英支架,、氣路系統(tǒng),、分子泵機組、自動化控制系統(tǒng),、冷卻系統(tǒng)等組成,。

1、沉底材料可采用銅箔,、石墨等;

2,、生長腔體采用進口高純石英管，配石英支架,、為石墨烯等材料的生長提供潔凈環(huán)境;

3,、加熱腔體采用進口陶瓷纖維加熱器，均溫區(qū)200mm,、對開式結構;

4,、密封法蘭均采用不銹鋼材質，配水冷套，可連續(xù)長時間工作;

5,、氣路系統(tǒng)采用三路質量流量計(可拓展多路),配預混系統(tǒng);

6,、真空系統(tǒng)采用分子泵機組;

7、控制系統(tǒng)采用10寸觸摸屏加西門子PLC模塊;

8,、可選配RF射頻電源模塊;

9,、氣體種類： He/Ar、C2H2,、NH3,、N2, H2、PH3,、GeH4,、B2H6

10、溫度,、氣體,、真空、冷卻水等通過PLC控制,，通過PC實時控制和顯示相關的實驗參數,，自動保存實驗參數，也可采用手動控制.

11,、系統(tǒng)采用集成化設計,，控制系統(tǒng)、混氣罐,、質量流量計等均內置在箱體內部,，占地面積小。整體安裝四個可移動輪子,，方便整體移動,。

技術參數