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臥式氧化爐品牌
育豪微電子產(chǎn)地
山東樣本
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一,、設(shè)備概述：
臥式氧化爐設(shè)備可應(yīng)用于集成電路,、分立器件,、 POWER、 MEMS等多種領(lǐng)域,，適用于4-8英寸晶圓芯片的氧化、擴散,、GPP、退火,、合金等工藝,。
氧化工藝是將硅片放置于氧氣或水蒸氣的氛圍中進行高溫?zé)崽幚恚诠杵砻嫘纬裳趸さ倪^程,，可作為離子注入的阻擋層及注入穿透層,、表面鈍化、器件結(jié)構(gòu)的介質(zhì)層等
二,、設(shè)備參數(shù)類型：
設(shè)備性能指標 | ||
1 | 操作方式 | 根據(jù)客戶操作可定左/右手操作 |
2 | 管路數(shù) | 1-5管 |
3 | 加工晶圓尺寸 | 4-8寸 |
4 | 適用工藝 | 擴散（磷擴、硼擴）,、氧化（干氧,、合成）,、玻璃鈍化（GPP）,、退火、合金,、鋁預(yù)沉積 |
5 | 工藝指標 | 氧化膜厚均勻性（膜厚5000?） IW≤2%,，W2W≤3%，R2R/D2D≤3% |
6 | 溫度校準功能 | 具有自動校準溫區(qū)功能,，具有預(yù)先寫入偏差值快速拉溫區(qū)功能 |
7 | 控溫模式 | Spike控溫+Profile串級控溫 |
8 | 控制系統(tǒng)結(jié)構(gòu) | 一體工控機+PLC |
9 | 報警保護: | 具有超溫報警，斷偶報警,，氣體互鎖，氣體緩啟動等功能 |
暫無數(shù)據(jù),！
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