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氮化硅片
可提供各種規(guī)格高質量氮化硅片,，及氮化硅片加工定制服務,。
尺寸：2,3,4,5,6,8,12英寸；定制尺寸,；
晶向：<100>,、<111>、<110,；
氮化層SiO2膜厚,；厚度：5nm-10um，常規(guī)：100-500nm,；
表面：單面氧化,、雙面氧化；
加工方法：氧化爐/PECVD等,；
類型：N型,、P型,、非摻雜高阻；
電阻率：重摻雜<0.001ω.cm,輕摻雜1~100ω.cm,非摻>1000~>20000Ω.cm,；
氮化硅片
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氮化層SiO2膜厚；厚度：5nm-10um,，常規(guī)：100-500nm；
表面：單面氧化,、雙面氧化,；
加工方法：氧化爐/PECVD等；
類型：N型,、P型,、非摻雜高阻；
電阻率：重摻雜<0.001Ω.cm,輕摻雜1~100Ω.cm,非摻>1000~>20000Ω.cm,；
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