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磁控濺射系統(tǒng)

設(shè)備特點：

●具有多個濺射靶，可沉積單層,、多層薄膜,、合金薄膜和摻雜薄膜,；

●濺射方式：自下而上濺射,、自上而下濺射可選；

●基片臺可加熱,，可制備單晶薄膜,；

●可選配輔助清洗離子源，有效提高薄膜的附著力,；

技術(shù)指標(biāo)

●靶材數(shù)量：2-4個

●基片尺寸：2-8英寸

●基片臺轉(zhuǎn)速：5-30rpm,，轉(zhuǎn)速連續(xù)可調(diào)

In-line磁控濺射系統(tǒng)

設(shè)備特點

●臥室雙腔結(jié)構(gòu)，工件盤在上料室裝片,，在濺射室進(jìn)行掃描運動濺射成膜,；

●上料室預(yù)抽真空，保證濺射室良好的真空環(huán)境,，實現(xiàn)連續(xù)生產(chǎn),；

●配置基片烘烤、清洗功能,；

●用戶具有多級操作權(quán)限,，具備一鍵式全自動工藝運行，歷史數(shù)據(jù)可查詢,。

●靶材利用率高

技術(shù)指標(biāo)

●基片尺寸：** 400mm × 400mm 

●工件盤掃描速度：50mm/s ～ 200mm/s ,，連續(xù)可調(diào)

應(yīng)用范圍

　　在平面基片表面鍍制各種金屬,、非金屬、化合物等薄膜材料,。如Al,、Cu、Au,、Pt,、Ti、Ni,、W,、NiCr、TiW,、SiO2,、Al2O3、TiO2,、ZnO,、TaN、ITO等薄膜,。