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凹坑儀設(shè)備建立了TEM樣品制備機械預(yù)減薄的標(biāo)準(zhǔn)。其凹坑方法已經(jīng)成功運用于許多不同的材料，如硅,、鎵砷化合物,、鍺、藍(lán)寶石,、氧化物、碳化物,、硼化物,、硅化物、玻璃,、多相材料,、Ⅲ-Ⅴ半導(dǎo)體、鋁合金,、陶瓷,、碳和碳復(fù)合物。

規(guī)格：

- 大小

長 27" (68.6 cm) 寬 14" (35.6 cm)

高 13" (33.0 cm) 重 70 磅 (32 kg)

- 公差

電子：

Z 偏移量：精確1μm

范圍：2000 μm

工具速度：100 to 600 RPM,， 恒速

樣品壓盤轉(zhuǎn)速：10 RPM,， 恒速

1 把樣品臺放到加熱臺上，加熱5分鐘后加少許石蠟,，粘上樣品,；

2 使用Gatan623手動研磨盤，在1000號的砂紙上,，將樣品研磨至80μm左右,；

3 將粘有樣品的圓柱臺放在凹坑儀上，啟動TABLE馬達(dá),，在顯微鏡下調(diào)整樣品臺位置,，對樣品定位對中；

4 加20 g的配重載荷,，選擇中等打磨速度,，裝上研磨輪，并小心地把磨輪降到樣品臺沒有樣品的地方,，逆時針旋轉(zhuǎn)微米進程驅(qū)動器,，使刻度盤指示器的指針轉(zhuǎn)滿一 整圈后剛好停在零點位置；按下ZERO,，設(shè)置零點,；

5 旋轉(zhuǎn)升降凸輪，把研磨輪放到樣品表面上：刻度盤指示器顯示樣品材料和固定蠟的總厚度,；

6 用竹簽放入少量6μm金剛石研磨膏到銅研磨輪和樣品上,，加蒸餾水潤滑；同時開啟兩個馬達(dá)開始研磨，研磨過程需隨時加蒸餾水潤滑,；

7 研磨完畢后,，在輪軸上換上3μm拋光輪，徹底清除掉樣品上殘留的研磨膏,， 把樣品臺放回磁轉(zhuǎn)盤上,，用顯微鏡對中；調(diào)節(jié)載荷和轉(zhuǎn)速,，降下拋光輪對樣品 進行粗拋光,；

8 取下樣品臺，把粗拋光過程中殘留的拋光膏完全沖掉,；換上新的拋光輪,， 使用粒度為0.05μm的氧化鋁拋光膏繼續(xù)拋光，需隨時觀察,、加蒸餾水潤滑,；

9 拋光完畢后，沖洗拋光輪,，擦拭輪軸,；用棉簽清潔、沖洗樣品,；

10 將樣品連同樣品臺同時放入丙酮溶液中,，待樣品自行脫落后取出樣品。