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SELA是一家半導(dǎo)體行業(yè)*前沿的產(chǎn)品表征和失效分析設(shè)備的 制造商，隆重推出了提供優(yōu)異樣品質(zhì)量,、可以大幅度降低周轉(zhuǎn)時(shí) 間和提高生產(chǎn)率的Xact技術(shù),，是一個(gè)使用全新的AIM技術(shù)的TEM樣 品制備系統(tǒng)。SELA 公司**的自適應(yīng)離子研磨技術(shù)比傳統(tǒng)的聚焦離子束（FIB）技術(shù)更優(yōu)越,， AIM 可以將大面積材料制作的樣品寬度降 低到 50nm以下,，精確度高，免人工且產(chǎn)量較高,。SELA的**系統(tǒng) -Xact,，推出了一種獨(dú)特的雙束技術(shù)，可以 獲得更清晰的無偽影樣品圖像和更精確的終點(diǎn)探測(cè),。 Xact 結(jié)合 SELA 的掃描電鏡定向的微劈尖方法 ,，可以滿足半導(dǎo)體行業(yè)和納 米技術(shù)領(lǐng)域中高質(zhì)量標(biāo)準(zhǔn)、自動(dòng)化表征以及失效分析的要求,。Xact和SELA**的獨(dú)立的預(yù)減薄系統(tǒng)（EM3）為 TEM和SEM提 供了一個(gè)綜合的,，高性價(jià)比的樣品制備方法，預(yù)減薄和*終減薄 是兩個(gè)獨(dú)立且優(yōu)化的設(shè)備,，可以同時(shí)進(jìn)行兩個(gè)過程,，從而提高整 體的生產(chǎn)率。這也會(huì)降低單個(gè)樣品的制作成本,，進(jìn)而提高具有高 質(zhì)量,、大面積和終點(diǎn)探測(cè)的樣品制備工作的成功率,。產(chǎn)品優(yōu)勢(shì)

※ 無可匹敵的質(zhì)量，免人工

※ 高精度的特定區(qū)域研磨

※ 常規(guī)薄片減薄到30nm以下,，覆蓋大面積相關(guān)區(qū)域

※ 各方向薄區(qū)硬度均可滿足要求

※ 高效生產(chǎn),，帶有突破性終點(diǎn)探測(cè)

※ 采用獨(dú)特的動(dòng)態(tài)氙離子束減薄的AIM技術(shù)

自適應(yīng)性離子減薄（AIM技術(shù)）

·入射角：0～30°

·全球定位：0～360°

※ 能量變化：1～10keV※ 精拋：1000～1600eV※ 點(diǎn)輪廓：圓形或者橢圓※ 點(diǎn)尺寸：10～1000μm※ **電流：20μA

·掃描范圍：200μm

·研磨速度：粗拋 0.5～2μm/min

精拋 5～20nm/min SEM/STEM※ SEM/STEM實(shí)時(shí)圖像監(jiān)控※ STEM基于實(shí)時(shí)厚度監(jiān)控※ SEM采用鎢或者LaB6燈絲※ 三點(diǎn)的暗場(chǎng)/明場(chǎng)的熱電探測(cè)器加工參數(shù)

·自動(dòng)光束校正的光學(xué)部件

·厚度測(cè)量范圍5～2000nm

·非晶態(tài)1～2nm

※ 進(jìn)程中的厚度變化控制※ 進(jìn)程中的表面質(zhì)量控制※ 研磨質(zhì)量控制※ 基于厚度測(cè)量反饋進(jìn)行樣品剖面優(yōu)化※ 感興趣區(qū)域/厚度：10μm/＜30nm40μm/＜100nm操控器

·反轉(zhuǎn)傾斜-360°

※ 五軸快速樣品觸發(fā)器※ 通過擴(kuò)展X軸載入樣品※ 自動(dòng)樣品準(zhǔn)直和定位