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該Linseis L75/HP 高壓熱膨脹儀大大拓展了熱分析的應(yīng)用范圍,。該系統(tǒng)可以在溫度從室溫到1100/1400/1800 ℃，并在該壓力達(dá)到100/150 bar的環(huán)境中測(cè)量的材料的膨脹（長(zhǎng)度的改變）,。此設(shè)備是高壓膨脹儀,。可選用水蒸氣發(fā)生裝置和多氣體控制系統(tǒng),。
為了測(cè)量數(shù)據(jù)和拓寬測(cè)量范圍,，可以使用QMS和FTIR對(duì)逸出的氣體進(jìn)行分析。耦合后的功能超過(guò)單獨(dú)部件的總和,。用戶(hù)通過(guò)LINSEIS耦合技術(shù)和綜合硬件和軟件,，采用不同數(shù)據(jù)庫(kù)對(duì)數(shù)據(jù)進(jìn)行分析以得到結(jié)果。
| 型號(hào) | DIL L75 HP / 1 | DIL L75 HP/2 |
| 溫度范圍* | RT -- 1100°C | RT -- 1400/1800°C |
| 壓力 | ≤150 bar | ≤100 bar |
| 真空 | 10E-4 mbar | 10E-4 mbar |
| 樣品支架 | 熔融石英 < 1100°C | 熔融石英 < 1100°C |
| Al2O3< 1750°C | Al2O3< 1750°C | |
| 樣品長(zhǎng)度 | ≤50 mm | ≤50 mm |
| 樣品直徑 | 7/12/20 mm | 7/12/20 mm |
| 可調(diào)樣品壓力 | ≤ 1000 mN | ≤ 1000 mN |
| 測(cè)量范圍 | 500 / 5000 μm | 500 / 5000 μm |
| 分辨率 | 0.125 nm | 0.125 nm |
| 可選裝置 | 壓力可控混氣系統(tǒng) (MFC′s) | 壓力可控混氣系統(tǒng) (MFC′s) |
| 氣氛 | 惰性， 氧化性**,， 還原性,， 真空 | 惰性， 氧化性**,， 還原性,， 真空 |
* 取決于不同爐體
** 不適用于石墨加熱爐
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