參考價(jià)格
面議型號(hào)
高性能微孔分析儀UltraSorb X800品牌
金埃譜產(chǎn)地
北京樣本
暫無分散方式:
-測(cè)量時(shí)間:
-測(cè)量范圍:
-誤差率:
-分辨率:
-重現(xiàn)性:
-儀器原理:
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高性能微孔分析儀UltraSorb X800聚焦于微孔材料的表面特性表征,設(shè)備在不銹鋼管路基礎(chǔ)上,,突破性設(shè)計(jì)VCR金屬面密封樣品管,,提升氣體管路流轉(zhuǎn)過程中的整體密封性,具有真空度長(zhǎng)時(shí)間保持性,、超低分壓比,、溫度控制恒定、多通量等優(yōu)勢(shì),。設(shè)備可以廣泛應(yīng)用于環(huán)保,、燃料電池、醫(yī)藥和催化等行業(yè)
1
系統(tǒng)漏氣率低至1x10-11Pa.m3/s,1x10-9極低分壓比準(zhǔn)確測(cè)定,,使極限0.35 nm微孔分析成為可能
2
高集成度模塊化結(jié)構(gòu),,設(shè)備可便捷拓展,支持拓展4站/6站/9站微孔分析
3
金屬密封面接口微孔專用樣品管
4
基體腔采用油浴恒溫系統(tǒng),,消除長(zhǎng)時(shí)間測(cè)試溫度變化帶來的誤差
技術(shù)參數(shù)
測(cè)試數(shù)量:2/3站,,可擴(kuò)展4/6/9站
測(cè)試范圍:比表面積:0.01 m2/g(氮?dú)猓?0.0005 m2/g(氪氣)及以上
孔徑:0.35nm-2nm微孔,2nm-500nm(中孔或大孔)
測(cè)試精度:比表面積重復(fù)精度≤± 1.0 %
*可幾孔徑重復(fù)偏差:≤0.01 nm
分壓范圍:1*10-9~0.998
行業(yè)應(yīng)用
活性炭
由于表面化學(xué)和孔結(jié)構(gòu)的復(fù)雜性,,有必要應(yīng)用多種方法組合來表征活性炭和理解其行為,,并對(duì)多個(gè)吸附等溫線進(jìn)行堆疊分析共同表征活性炭特性,。
分子篩
分子篩可廣泛應(yīng)用于做高效干燥劑、選擇性吸附劑,、催化劑,、離子交換劑等,可以通過氣體吸附方式對(duì)其比表面積,、孔徑和孔容等相關(guān)結(jié)構(gòu)參數(shù)進(jìn)行表征,。
MOFs
金屬有機(jī)框架由于具有比表面積大、孔徑尺寸可調(diào)節(jié)的的特性,,在氣體吸附,、氣體分離、催化和醫(yī)藥行業(yè)有很好的應(yīng)用前景,,應(yīng)用于研究CO2,、H2和CH4等氣體的儲(chǔ)存。
暫無數(shù)據(jù),!
摘要:硬脂酸鎂是制藥界廣泛應(yīng)用的藥物輔料,因?yàn)榫哂辛己玫目拐承?、增流性和?rùn)滑性在制劑生產(chǎn)中具有十分重要的作用,,作為常用的藥用輔料潤(rùn)滑劑,比表面積對(duì)硬脂酸鎂有很大的影響,,硬脂酸鎂的比表面積越大,,其極性越
2022-07-05
陶瓷材料具有高熔點(diǎn)、高硬度,、高耐磨性,、耐氧化等一系列特點(diǎn),被廣泛應(yīng)用于電子工業(yè),、汽車工業(yè),、紡織、化工,、航空航天等國(guó)民經(jīng)濟(jì)的各個(gè)領(lǐng)域,。陶瓷材料的物理性能很大程度上取決于其微觀結(jié)構(gòu),是掃描電鏡重要的應(yīng)用領(lǐng)
2022-09-27
近期,,國(guó)儀量子傳感交付與客戶成功團(tuán)隊(duì)在全國(guó)范圍內(nèi)成功開展了【儀心儀意】客戶服務(wù)季活動(dòng),通過深入多地客戶現(xiàn)場(chǎng),,開展多項(xiàng)專業(yè)服務(wù),,切實(shí)保障客戶儀器穩(wěn)定運(yùn)行,。01安徽大學(xué)在安徽大學(xué),服務(wù)工程師姜旭盟為老師們
在當(dāng)今追求節(jié)能減排與舒適生活環(huán)境的時(shí)代,,智能窗戶作為一種新型節(jié)能設(shè)備成為建筑節(jié)能領(lǐng)域的研究熱點(diǎn)。其中,,熱致變色智能窗戶能依據(jù)外界溫度變化,,自動(dòng)調(diào)節(jié)太陽光透過率,在降低建筑能耗方面潛力巨大,。然而,,現(xiàn)有的
近日,,國(guó)儀量子【鏡心鏡意】用戶關(guān)懷周活動(dòng)走進(jìn)了浙江大學(xué)杭州國(guó)際科創(chuàng)中心。在浙大國(guó)創(chuàng)中心電鏡機(jī)組老師的大力支持下,,為期三天的培訓(xùn)活動(dòng)順利舉行,。本次活動(dòng)聚焦理論學(xué)習(xí)、設(shè)備日常維護(hù)及上機(jī)實(shí)操三部分,,旨在幫助
國(guó)儀量子電鏡在芯片金屬柵極刻蝕殘留檢測(cè)的應(yīng)用報(bào)告一,、背景介紹 在芯片制造工藝中,金屬柵極刻蝕是構(gòu)建晶體管關(guān)鍵結(jié)構(gòu)的重要環(huán)節(jié),。精確的刻蝕工藝能夠確保金屬柵極的尺寸精度和形狀完整性,,對(duì)芯片的性能
國(guó)儀量子電鏡在芯片后道 Al 互連電遷移空洞檢測(cè)的應(yīng)用報(bào)告一、背景介紹 隨著芯片集成度不斷攀升,,芯片后道 Al 互連技術(shù)成為確保信號(hào)傳輸與芯片功能實(shí)現(xiàn)的關(guān)鍵環(huán)節(jié),。在芯片工作時(shí),Al 互連導(dǎo)線
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