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動(dòng)態(tài)二次離子質(zhì)譜儀
動(dòng)態(tài)二次離子質(zhì)譜儀

參考價(jià)格

面議

型號(hào)

PHI ADEPT 1010

品牌

高德英特

產(chǎn)地

北京

樣本

暫無(wú)
高德英特(北京)科技有限公司

會(huì)員

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第3年

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PHI ADEPT 1010

簡(jiǎn)介

動(dòng)態(tài)二次離子質(zhì)譜儀(D-SIMS)是使用一次離子束(通常是Cs源)轟擊樣品表面,而產(chǎn)生二次離子,,然后用質(zhì)譜分析儀分析二次離子的質(zhì)荷比(m/q),,從而得知元素在樣品中的深度分布,是分析半導(dǎo)體摻雜和離子注入的強(qiáng)有力的工具,。

 

543.png


優(yōu)勢(shì)

ULVAC-PHI **設(shè)計(jì)的四極桿-二次離子質(zhì)譜儀ADPT1010,,在原有的PHI6300和PHI6600的基礎(chǔ)上,改善了離子光學(xué)系統(tǒng),,是在一次離子能量低至250eV時(shí),,仍保持有效的濺射束流的動(dòng)態(tài)二次離子質(zhì)譜系統(tǒng)(D-SIMS)。

 

特點(diǎn)

  1. 大束流低能量離子槍設(shè)計(jì),,極大的提高了深度分辨率

  2. 高性能離子光學(xué)系統(tǒng),,改善了二次離子傳輸效率,在提高分析效率的同時(shí)又提高了檢測(cè)靈敏度

  3. 高精度全自動(dòng)5軸樣品操控臺(tái)

  4. 不同方向進(jìn)入檢測(cè)器的二次離子,,均可被高靈敏地收集檢測(cè)

 

應(yīng)用實(shí)例分析

采用一次離子源Cs在加速5kV束流為100nA的條件下,,分析GaAs中注入的H,C,,O元素,。可以看到H檢測(cè)限值7.1X1016 atm/cm3O檢測(cè)限值4.4X1015 atm/cm3,,C檢測(cè)限值2.0X1015 atm/cm3,。

 

553300.png


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