參考價(jià)格
面議型號(hào)
ZTA 12品牌
NanoE產(chǎn)地
法國(guó)樣本
暫無(wú)制作方法:
-主成分含量:
12%氧化鋯,,88%氧化鋁存儲(chǔ)條件:
-密度:
>4.12純度:
-莫氏硬度:
>19顏色:
白色目數(shù):
-品級(jí):
-虛擬號(hào)將在 180 秒后失效
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氧化氧化鋯增韌氧化鋁12是一種由88%氧化鋁和12%氧化釔穩(wěn)定氧化鋯混合而成的材料。該復(fù)合材料是我們研發(fā)部門(mén)多年研究所得的杰出成果,,確保硬度,、電阻率和抗熱老化等特性達(dá)到**效果。此外,,氧化鋯增韌氧化鋁12和氧化鋯增韌氧化鋁25一樣擁有很強(qiáng)的耐磨性,。
氧化鋯增韌氧化鋁12材料可用于制造易磨損工件,延長(zhǎng)其使用壽命,,從而減少維護(hù)和更換成本,。該材料用于多個(gè)工業(yè)領(lǐng)域:半導(dǎo)體、耐磨件,、流體處理……
暫無(wú)數(shù)據(jù),!
半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)是關(guān)乎國(guó)家經(jīng)濟(jì),,政治和國(guó)防安全的戰(zhàn)略產(chǎn)業(yè)。在半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)中,,先進(jìn)陶瓷的研發(fā)與生產(chǎn)水平直接影響我國(guó)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的發(fā)展,。因此,無(wú)論從經(jīng)濟(jì)安全角度還是產(chǎn)業(yè)成本考慮,,要突破我國(guó)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)面臨“卡脖子”的
等離子刻蝕技術(shù)是在涂膠的晶圓上高效地復(fù)制掩膜圖形,,通過(guò)化學(xué)和物理過(guò)程選擇性地從晶圓表面去除不需要的材料的一個(gè)重要工藝過(guò)程,是現(xiàn)代集成電路制造領(lǐng)域不可缺少的工藝步驟,??涛g機(jī),來(lái)源:中微半導(dǎo)體隨著集成電路
法國(guó)NANOE針對(duì)半導(dǎo)體領(lǐng)域的高純度納米粉體應(yīng)用:plasma echting等離子刻蝕:高純度納米氧化釔和氧化鋁wire bonding陶瓷劈刀:zta 12以及含鉻zta為全球知名半導(dǎo)體領(lǐng)域廠商長(zhǎng)