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光放電光譜儀是解密鍍層工藝,、解析鍍層結(jié)構(gòu)的強(qiáng)有力手段，可以通過元素變化獲得鍍層結(jié)構(gòu),、層間擴(kuò)散,、元素富集、表面處理,、鍍層均一性等信息,，從而改善工藝條件等。主要應(yīng)用行業(yè)有金屬冶金,、半導(dǎo)體器件,、LED芯片、薄膜太陽能電池,、鋰電池陰陽,、光學(xué)玻璃、核材料等,。

GD-Profiler 2 作為超快鍍層分析的理想工具,，非常適合于導(dǎo)體和非導(dǎo)體復(fù)合鍍層的分析，操作簡單,、便于維護(hù),，是鍍層材料研發(fā)、質(zhì)控的理想工具,。

· 使用脈沖式射頻輝光源,，可有效分析熱導(dǎo)性能差以及熱敏感的樣品。

·  采用多項(xiàng)技術(shù),，如高動態(tài)檢測器（HDD）,，可測試ppm-100%的濃度范圍,，Polyscan多道掃描的光譜分辨率為18pm~25pm等。

·  分析速度快（2-10nm/s）

技術(shù)參數(shù)：

1,、射頻發(fā)生器-標(biāo)準(zhǔn)配置,、復(fù)合D級標(biāo)準(zhǔn)、穩(wěn)定性高,、濺射束斑為平坦,、等離子體穩(wěn)定時間短，表面信息無任何失真,。

2,、脈沖工作模式既可以分析常規(guī)的涂/鍍層和薄膜，也可以很好地分析熱導(dǎo)性能差和熱易碎的涂/鍍層和薄膜,。

3、Polyscan多道（同時）光譜儀可全譜覆蓋,，光譜范圍從110nm-800nm,，可測試遠(yuǎn)紫外元素C、H,、O,、N和Cl。

4,、HORIBA的原版離子刻蝕全息光柵保證了儀器擁有大的光通量,，因而擁有**的光效率和靈敏度。

5,、高動態(tài)檢測器（HDD）可快速,、高靈敏的檢測ppm-100%含量的元素。動態(tài)范圍為5×10¹⁰,。

6、寬大的樣品室方便各類樣品的加載,。

7,、功能強(qiáng)大的Quantum軟件可以靈活方便的輸出各種格式的檢測報(bào)告。

8,、HORIBA獨(dú)有的單色儀（選配）可大地提高儀器靈活性，可實(shí)現(xiàn)固定通道外任意一個元素的同步測試,，稱為n+1,。

9,、適用于ISO14707和16962標(biāo)準(zhǔn),。