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HORIBA 射頻輝光放電光譜儀GD Profiler 2
HORIBA 射頻輝光放電光譜儀GD Profiler 2

參考價(jià)格

面議

型號(hào)

GD Profiler

品牌

HORIBA

產(chǎn)地

法國(guó)

樣本

暫無(wú)
HORIBA科學(xué)儀器事業(yè)部

白金會(huì)員

|

第18年

|

代表處

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核心參數(shù)
  • 誤差率:

    -
  • 分辨率:

    -
  • 重現(xiàn)性:

    -
  • 儀器原理:

    其他
  • 分散方式:

    -
  • 測(cè)量時(shí)間:

    -
  • 測(cè)量范圍:

    -
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光放電光譜儀是解密鍍層工藝,、解析鍍層結(jié)構(gòu)的強(qiáng)有力手段,可以通過(guò)元素變化獲得鍍層結(jié)構(gòu),、層間擴(kuò)散,、元素富集、表面處理,、鍍層均一性等信息,,從而改善工藝條件等。主要應(yīng)用行業(yè)有金屬冶金,、半導(dǎo)體器件,、LED芯片、薄膜太陽(yáng)能電池,、鋰電池陰陽(yáng),、光學(xué)玻璃、核材料等,。

GD-Profiler 2 作為超快鍍層分析的理想工具,,非常適合于導(dǎo)體和非導(dǎo)體復(fù)合鍍層的分析,操作簡(jiǎn)單,、便于維護(hù),,是鍍層材料研發(fā)、質(zhì)控的理想工具,。

· 使用脈沖式射頻輝光源,,可有效分析熱導(dǎo)性能差以及熱敏感的樣品。

·  采用多項(xiàng)技術(shù),,如高動(dòng)態(tài)檢測(cè)器(HDD),,可測(cè)試ppm-100%的濃度范圍,Polyscan多道掃描的光譜分辨率為18pm~25pm等,。

·  分析速度快(2-10nm/s)

技術(shù)參數(shù):

1,、射頻發(fā)生器-標(biāo)準(zhǔn)配置、復(fù)合D級(jí)標(biāo)準(zhǔn),、穩(wěn)定性高,、濺射束斑為平坦、等離子體穩(wěn)定時(shí)間短,,表面信息無(wú)任何失真,。

2、脈沖工作模式既可以分析常規(guī)的涂/鍍層和薄膜,,也可以很好地分析熱導(dǎo)性能差和熱易碎的涂/鍍層和薄膜,。

3,、Polyscan多道(同時(shí))光譜儀可全譜覆蓋,光譜范圍從110nm-800nm,,可測(cè)試遠(yuǎn)紫外元素C,、H、O,、N和Cl,。

4、HORIBA的原版離子刻蝕全息光柵保證了儀器擁有大的光通量,,因而擁有**的光效率和靈敏度,。

5、高動(dòng)態(tài)檢測(cè)器(HDD)可快速,、高靈敏的檢測(cè)ppm-100%含量的元素,。動(dòng)態(tài)范圍為5×1010

6,、寬大的樣品室方便各類樣品的加載,。

7、功能強(qiáng)大的Quantum軟件可以靈活方便的輸出各種格式的檢測(cè)報(bào)告,。

8,、HORIBA獨(dú)有的單色儀(選配)可大地提高儀器靈活性,可實(shí)現(xiàn)固定通道外任意一個(gè)元素的同步測(cè)試,,稱為n+1,。

9、適用于ISO14707和16962標(biāo)準(zhǔn),。

儀器原理:

輝光放電腔室內(nèi)充滿低壓氬氣,,當(dāng)施加在放電兩的電壓達(dá)到一定值,超過(guò)激發(fā)氬氣所需的能量即可形成輝光放電,,放電氣體離解為正電荷離子和自由電子,。在電場(chǎng)的作用下,正電荷離子加速轟擊到(陰)樣品表面,,產(chǎn)生陰濺射,。在放電區(qū)域內(nèi),濺射的元素原子與電子相互碰撞被激化而發(fā)光,。




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產(chǎn)品質(zhì)量

10分

售后服務(wù)

10分

易用性

10分

性價(jià)比

10分
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