TDF系列X射線晶體分析儀

TDF系列X射線晶體分析儀是研究物質(zhì)內(nèi)部微觀結(jié)構(gòu)的一種大型分析儀器,，主要應(yīng)用于單晶定向,、檢驗缺陷、測定點陣參數(shù),、測定殘余應(yīng)力,、研究板材、棒材的結(jié)構(gòu)、研究未知物質(zhì)的結(jié)構(gòu)和單晶位錯等,。

特點

TDF系列X射線晶體分析儀采用立式管套,，四個窗口可以同時使用。

TDF系列X射線晶體分析儀采用進口PLC控制技術(shù),，控制精度高,、抗干擾性好，可實現(xiàn)本系統(tǒng)可靠地工作,，PLC控制高壓的開關(guān),、升降、具有自動訓(xùn)練X光管的功能,，有效的延長X射線管及儀器的使用壽命,。

高壓發(fā)生器

管電壓：10-60KV；

管電流：2-80mA,；

管電壓,、管電流穩(wěn)定度0.3；

額定輸出功率：5KW,。

X射線管

額定功率：2.4KW,；

焦點尺寸（mm2）：點焦點（1×1）線焦點（1×10）；

靶材：Cu,、Co,、Fe、Cr,、Mo,、W等。
 

高壓電纜   

介電電壓≥100KV,；

長度：2M,。
 

X射線防護罩

采用高密度、高透光性道德鉛玻璃作為X射線防護罩,，外射線量不大于0.1μ Sv/h
 

X射線照相機

勞厄相機（大小粉末）

平板相機

三維樣品臺

美國Multiwire相機