參考價(jià)格
面議型號(hào)
MINI品牌
韞茂科技產(chǎn)地
福建樣本
暫無功率(kw):
-重量(kg):
30Kg規(guī)格外形(長(zhǎng)*寬*高):
550*400*400mm看了桌面型原子層沉積系統(tǒng)的用戶又看了
虛擬號(hào)將在 180 秒后失效
使用微信掃碼撥號(hào)
桌面式平片原子層沉積系統(tǒng)
原子層沉積(Atomic layer deposition)是通過將氣相前驅(qū)體脈沖交替地通入反應(yīng)腔體內(nèi)并在沉積基體上化學(xué)吸附并反應(yīng)而形成沉積膜的一種技術(shù),具有自限性和自飽和,。原子層沉積技術(shù)主要應(yīng)用是在各種尺寸和形狀的基底上沉積高精度,、無針孔,、高保形的納米薄膜。
產(chǎn)品描述
廈門韞茂科技公司研發(fā)的超小型桌式 ALD 原子層沉積設(shè)備是先進(jìn)材料研究的有力設(shè)備之一,,它可以在6寸晶元(向下兼容)和微納米粉體上實(shí)現(xiàn)均勻可控的原子層沉積,,具有廣泛的應(yīng)用領(lǐng)域,設(shè)各配有獨(dú)立控制的300℃完整加熱反應(yīng)腔室系統(tǒng),,保證工藝溫度均勻,,該系統(tǒng)具有**粉末樣品桶、晶元載盤,,全自動(dòng)溫控制,、 ALD 前驅(qū)體源鋼瓶、自動(dòng)溫度控制閥,、工業(yè)級(jí)安全控制,,以及現(xiàn)場(chǎng) RGA 、 QCM ,、臭氧發(fā)生器,、手套箱等設(shè)計(jì)選項(xiàng),是先進(jìn)能源材料,、催化劑材料,、新型納米材料研究與應(yīng)用的**研發(fā)工具
主要技術(shù)參數(shù)
Mini Desktop ALD 技術(shù)參數(shù) Technical Specifications (HfO2, ZnO, Al2O3, TiO2等制備) | |
特色 Feature | 結(jié)構(gòu)緊湊,世界上極小尺寸的桌式ALD World Smallest Footprint Desktop ALD |
功能 Function | 高端制造,,功能強(qiáng)大,,操作簡(jiǎn)易,維護(hù)方便 |
樣品**尺寸 | Ф100mm (其他尺寸可定制)硅片或幾克粉末 |
樣品反應(yīng)溫度 Heating | RT-450℃ |
前驅(qū)體 Max Precursor | **可4組液態(tài)或固態(tài)反應(yīng)前驅(qū)體, Max 4 Liquid/Solid Precursors,,可定制 Can Be Customized |
前驅(qū)體加熱**溫度 Max Precursor Heating | RT-200℃ |
包覆均一性 Uniformity | <1% (Al2O3) |
成膜速率 Deposition Rate | 1A/Cycle (Al2O3) |
臭氧發(fā)生器Ozone Generator | 可選配,,生產(chǎn)效率15g/h |
人機(jī)界面 HMI | 全自動(dòng)化人機(jī)操作界面 |
安全Safety | 工業(yè)標(biāo)準(zhǔn)安全互鎖Industry Safety Interlock,,報(bào)警Alarm,,EMO |
產(chǎn)品詳情:桌面型原子層沉積系統(tǒng) 小巧緊湊,功能強(qiáng)大,,專為科研定制而生,,科研工作者的ALD鍍膜助手。