參考價格
面議型號
MINI品牌
韞茂科技產(chǎn)地
福建樣本
暫無功率（kw）：
-重量（kg）：
30Kg規(guī)格外形（長*寬*高）：
550*400*400mm看了桌面型原子層沉積系統(tǒng)的用戶又看了
留言詢價
電話詢價
虛擬號將在 180 秒后失效
使用微信掃碼撥號
桌面式平片原子層沉積系統(tǒng)
原子層沉積（Atomic layer deposition)是通過將氣相前驅(qū)體脈沖交替地通入反應(yīng)腔體內(nèi)并在沉積基體上化學(xué)吸附并反應(yīng)而形成沉積膜的一種技術(shù)，具有自限性和自飽和,。原子層沉積技術(shù)主要應(yīng)用是在各種尺寸和形狀的基底上沉積高精度,、無針孔、高保形的納米薄膜,。
產(chǎn)品描述
廈門韞茂科技公司研發(fā)的超小型桌式 ALD 原子層沉積設(shè)備是先進材料研究的有力設(shè)備之一,，它可以在6寸晶元（向下兼容）和微納米粉體上實現(xiàn)均勻可控的原子層沉積，具有廣泛的應(yīng)用領(lǐng)域,，設(shè)各配有獨立控制的300℃完整加熱反應(yīng)腔室系統(tǒng),，保證工藝溫度均勻，該系統(tǒng)具有**粉末樣品桶,、晶元載盤,，全自動溫控制、 ALD 前驅(qū)體源鋼瓶,、自動溫度控制閥,、工業(yè)級安全控制，以及現(xiàn)場 RGA ,、 QCM ,、臭氧發(fā)生器、手套箱等設(shè)計選項,，是先進能源材料,、催化劑材料、新型納米材料研究與應(yīng)用的**研發(fā)工具
主要技術(shù)參數(shù)
| Mini Desktop ALD 技術(shù)參數(shù) Technical Specifications （HfO2, ZnO, Al2O3, TiO2等制備） | |
| 特色 Feature | 結(jié)構(gòu)緊湊,，世界上極小尺寸的桌式ALD World Smallest Footprint Desktop ALD |
| 功能 Function | 高端制造,，功能強大，操作簡易,，維護方便 |
| 樣品**尺寸 | Ф100mm (其他尺寸可定制）硅片或幾克粉末 |
| 樣品反應(yīng)溫度 Heating | RT-450℃ |
| 前驅(qū)體 Max Precursor | **可4組液態(tài)或固態(tài)反應(yīng)前驅(qū)體, Max 4 Liquid/Solid Precursors,，可定制 Can Be Customized |
| 前驅(qū)體加熱**溫度 Max Precursor Heating | RT-200℃ |
| 包覆均一性 Uniformity | <1% (Al2O3) |
| 成膜速率 Deposition Rate | 1A/Cycle (Al2O3) |
| 臭氧發(fā)生器Ozone Generator | 可選配，生產(chǎn)效率15g/h |
| 人機界面 HMI | 全自動化人機操作界面 |
| 安全Safety | 工業(yè)標準安全互鎖Industry Safety Interlock,，報警Alarm,，EMO |
產(chǎn)品詳情：桌面型原子層沉積系統(tǒng) 小巧緊湊，功能強大,，專為科研定制而生,，科研工作者的ALD鍍膜助手。
桌面型原子層沉積系統(tǒng)的工作原理介紹,？桌面型原子層沉積系統(tǒng)的使用方法？桌面型原子層沉積系統(tǒng)多少錢一臺,？桌面型原子層沉積系統(tǒng)使用的注意事項桌面型原子層沉積系統(tǒng)的說明書有嗎,？桌面型原子層沉積系統(tǒng)的操作規(guī)程有嗎？桌面型原子層沉積系統(tǒng)的報價含票含運費嗎,？桌面型原子層沉積系統(tǒng)有現(xiàn)貨嗎,？桌面型原子層沉積系統(tǒng)包安裝嗎？
手機版：
工商已核實
