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NS-90Z 納米粒度及電位分析儀

用途：
NS-90Z 納米粒度及電位分析儀同時(shí)具有Zeta電位及納米粒徑的分析測試功能,，適用于多種不同的納米乳液,、懸浮液膠體,，聚合物，生物顆粒等的尺寸和表面電位測量,，能廣泛應(yīng)用于精細(xì)化工行業(yè)納米材料,、表活、低聚物等的開發(fā)和生產(chǎn)質(zhì)控,，同時(shí)也是油墨,，醫(yī)藥制劑等行業(yè)產(chǎn)品開發(fā)及質(zhì)控的通用測試儀器。

NS-90Z 納米粒度及電位分析儀是珠海歐美克儀器有限公司在2018年成功引進(jìn)和吸收馬爾文帕納科公司（Malvern Panalytical）的納米顆粒表征技術(shù)的NS-90納米粒度分析儀開發(fā)基礎(chǔ)上,，進(jìn)一步將Zeta電位的功能加入其中推出的新一代產(chǎn)品,。NS-90Z同時(shí)具有優(yōu)越的粒徑分析和電位分析功能，滿足廣大納米材料,、制劑的開發(fā)和生產(chǎn)用戶的顆粒尺寸和表面電位的測試需求,。該儀器使用13° 電泳光散射測定zeta電位，13° + 90° 動(dòng)態(tài)光散射技術(shù)測量粒子和分子粒度,，應(yīng)用靜態(tài)光散射技術(shù)測定蛋白質(zhì)與聚合物的分子量的功能,。NS-90Z融合馬爾文帕納科M3-PALS相位分析檢測技術(shù)，和全球化供應(yīng)鏈的優(yōu)質(zhì)光電部件,，例如標(biāo)配的進(jìn)口雪崩式光電二極管（APD）檢測器和He-Ne氣體激光器等,，加上精確的內(nèi)部溫控技術(shù)，密閉光纖光路以及先進(jìn)軟件算法,，保障了數(shù)據(jù)的高重復(fù)性,、準(zhǔn)確性和靈敏度，使得儀器可以分析寬廣的粒徑,、濃度及電位范圍的樣品,。NS-90Z支持SOP標(biāo)準(zhǔn)操作，以及測量數(shù)據(jù)智能評(píng)估,，方便用戶使用,。

光學(xué)系統(tǒng)設(shè)計(jì)圖：

工作原理

NS-90Z 納米粒度及電位分析儀在一種緊湊型儀器中集成了三種技術(shù)：

動(dòng)態(tài)光散射 13° + 90° 散射角來測量粒子和分子粒度。該技術(shù)可測量布朗運(yùn)動(dòng)下移動(dòng)顆粒的擴(kuò)散情況,，并采用斯托克斯-愛因斯坦方程將其轉(zhuǎn)化為粒度與粒度分布,。

液體中的粒子由于周圍的溶劑分子撞擊產(chǎn)生隨機(jī)布朗運(yùn)動(dòng)。小粒子在液體中運(yùn)動(dòng)速度較快,，而大顆粒運(yùn)動(dòng)相對(duì)緩慢,。這種運(yùn)動(dòng)一直都在進(jìn)行，所以如果我們?nèi)∫恍《螘r(shí)間間隔拍攝樣品運(yùn)動(dòng)“圖像”,，我們可以看出粒子移動(dòng)了多少,，并且換算出它有多大。相同時(shí)間內(nèi)，如果位移比較小,，粒子位置接近,，則樣品中粒子較大；相反地,，如果位移較大,，粒子位置變化很大，則樣品中粒子較小,。這種利用擴(kuò)散速度與粒徑之間的關(guān)系測定粒子的大小的方法即為動(dòng)態(tài)光散射（DLS）技術(shù),，也稱為光子相關(guān)光譜（PCS）技術(shù)。

靜態(tài)光散射技術(shù)是測量一段時(shí)間內(nèi)散射光的時(shí)間平均強(qiáng)度,。因這個(gè)時(shí)間平均光強(qiáng)不能反應(yīng)信號(hào)隨時(shí)間的動(dòng)態(tài)變化,，故稱為“靜態(tài)光散射”。靜態(tài)光散射法中,，通過檢測不同濃度下樣品的散射光強(qiáng),，并且繪制德拜圖（Debye Plot）計(jì)算出平均分子量。

粒子產(chǎn)生的散射光強(qiáng)度正比于重均分子量的平方以及粒子濃度,。在此測量方法中,，檢測一系列不同濃度下樣品的散射光強(qiáng)（kC/R），將該數(shù)值與標(biāo)準(zhǔn)物（如甲苯）產(chǎn)生的散射光強(qiáng)進(jìn)行比較,，即可得到德拜圖,。德拜圖中的擬合直線斜率為第二維里系數(shù)（2nd Virial Coefficient, A2），擬合直線外延到零濃度的數(shù)值為平均分子量的倒數(shù)（1/MW）,。分子量單位為 Da（Dalton） 或g/mol,。   

激光多普勒微量電泳法可用于測量zeta電位。分子和顆粒在施加的電場作用下做電泳運(yùn)動(dòng),，其運(yùn)動(dòng)速度和zeta電位直接相關(guān),。使用激光相干技術(shù) M3-PALS （相位分析光散射法）檢測其速率。 這樣可以計(jì)算電泳遷移率,，并由此利用Herry方程計(jì)算zeta電位，精確測量多種樣品類型和分散介質(zhì),，包括高濃度鹽和非水性分散劑,。M3-PALS 技術(shù)的應(yīng)用，成功解決了毛細(xì)管電滲對(duì)測試的影響,，并且在一次測試過程中同時(shí)得到zeta電位平均值和分布曲線,。

分散介質(zhì)中顆粒、分子或者蛋白質(zhì)獲得的電荷由其表面電荷,、周圍溶液離子濃度及離職類型決定,，表面電荷代表了分散體系或者溶液的穩(wěn)定性。這就意味著，穩(wěn)定性可以通過改變pH值,、離子濃度,、離子類型并使用諸如表面活性劑及聚合物電解質(zhì)等添加劑進(jìn)行改良。

適用體系：水相或有機(jī)相中穩(wěn)定存在,，或做緩慢沉降運(yùn)動(dòng)的顆粒,。典型體系包括：金屬、有機(jī)顆粒,、蛋白質(zhì),、聚電解質(zhì)、無機(jī)氧化物,、乳液,、漿料、煤黑,、油墨及炭黑等等,。

儀器特點(diǎn)：

【先進(jìn)的光學(xué)系統(tǒng)設(shè)計(jì)】

單模式和多模式光纖的結(jié)合應(yīng)用，盡可能減少雜散光,，提高信噪比,。結(jié)合不同的測試模式，大大提高了低電泳遷移率的帶電粒子zeta電位檢測的準(zhǔn)確性和可重復(fù)性,。

M3-PALS技術(shù),，有效檢測散射光的相位變化。

能夠有效檢測高鹽濃度環(huán)境和有機(jī)相中顆粒電泳運(yùn)動(dòng),。

分辨不同種類顆粒的電泳遷移,，完全消除電滲的影響。

同時(shí)提供zeta電位平均值和zeta電位分布,。

90°和13°相結(jié)合的雙角度測量模式,。

經(jīng)典的90°光散射，符號(hào)ISO 13321,，配合高靈敏度APD檢測器及混合模式光纖技術(shù),，能測量粒徑小于1nm的樣品，如蔗糖,。

13°下檢測,，能分辨微量穩(wěn)定存在的大顆粒。

雙角度同時(shí)檢測,，獲得團(tuán)聚度參數(shù),。

【功能豐富的軟件優(yōu)化用戶體驗(yàn)】

 提供標(biāo)準(zhǔn)操作程序（SOP）簡化常規(guī)測量；自動(dòng)調(diào)節(jié)各種樣品的優(yōu)良設(shè)置,；操作簡單,，無須準(zhǔn)直,、校正或保養(yǎng)；智能化,，可自動(dòng)判斷數(shù)據(jù)報(bào)告的質(zhì)量,。

【高性能檢測器】

  使效率高的雪崩式光電二極管（APD）檢測器，靈敏度遠(yuǎn)高于光電倍增管（PMT）,。成本高但保障優(yōu)的測試性能,。

【研究級(jí)數(shù)字相關(guān)器】

 使用高速數(shù)字相關(guān)器，4000通道,，采樣時(shí)間低至25ns,。

【穩(wěn)定的激光光源和光路系統(tǒng)】

 采用高穩(wěn)定He-Ne 氣體激光器確保數(shù)據(jù)的重復(fù)性，波長633nm,，功率 4mW,。可在300000:1的動(dòng)態(tài)范圍內(nèi)自動(dòng)調(diào)節(jié)激光衰減器,。

【精確的內(nèi)部控溫系統(tǒng)】

獨(dú)立的循環(huán)溫控槽可在0℃ – 90℃ 范圍內(nèi)任意設(shè)定,，其控制精度達(dá)0.1℃，保障高重現(xiàn)性,。亦可選裝120℃ 溫控槽,。

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軟件功能：

1. 使用先進(jìn)軟件技術(shù)和界面，操作簡單,。

2. 全自動(dòng)設(shè)置和測量：只需簡單的培訓(xùn)即可設(shè)置儀器,，包括樣品池位置、數(shù)據(jù)記錄,、分析和結(jié)果顯示,。

3. 支持SOP標(biāo)準(zhǔn)操作程序，確保操作的一致性和數(shù)據(jù)重復(fù)性,。

4. 測量數(shù)據(jù)的完全評(píng)估：儀器軟件可根據(jù)測試條件自動(dòng)判斷數(shù)據(jù)報(bào)告的質(zhì)量,。

5. 打印或屏幕顯示報(bào)告使用簡單；含報(bào)表設(shè)計(jì)器,，只需在指定的位置選擇圖形和輸入?yún)?shù),，就可根據(jù)不同的需要定制不同的報(bào)告。

6. 樣品數(shù)據(jù)和結(jié)果存儲(chǔ)在測量文件中,，方便進(jìn)行數(shù)據(jù)的比較,。

7. 數(shù)據(jù)分析：數(shù)據(jù)以圖形或表格的形式給出，分布算法適合各種樣品包括單分散樣品,，寬分布樣品以及多種模式樣品。

技術(shù)參數(shù)：