參考價格
1-5萬元型號
CRF-APS-500W品牌
誠峰智造產(chǎn)地
廣東深圳樣本
暫無功率(kw):
1000W(Max)/13.56MHz重量(kg):
08676規(guī)格外形(長*寬*高):
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硅材料等離子清洗機(jī)設(shè)備:誠峰智造
全自動On-Line式AP等離子處理系統(tǒng)CRF-APS-500W
型號(Model)
CRF-APS-500W
電源(Power supply)
220V/AC,50/60Hz
功率(Power)
1000W(Max)/13.56MHz
有效處理寬幅(Processing width)
120mm-2000mm(Option)
有效處理高度(Processing height)
1mm-3mm(Max)
處理速度(Processing speed)
0-5m/min
工作氣體(Gas)
AR+O2
產(chǎn)品特點:低溫處理過程,,處理溫度可< 35℃以下,;
內(nèi)置式冷卻系統(tǒng),提高和保證設(shè)備的使用壽命和性能,;
靈活On-Line安裝方式,,電子和離子的能量可達(dá)10eV以上,材料批處理的效率可高于低氣壓輝光放電裝置效率10倍以上。
應(yīng)用范圍:應(yīng)用于FPC&PCB表面處理,,復(fù)合型材料,,玻璃,ITO等行業(yè)領(lǐng)域的表面處理,;
大家認(rèn)為等離子清洗機(jī)是什么呢?有說法稱等離子清洗機(jī)是一種工具,,這種說法有沒有道理呢?誠峰智造接下來與你說一說。
等離子清洗機(jī)能夠?qū)Υ蠖鄶?shù)材料進(jìn)行處理,,實現(xiàn)不同的處理目的,,包括但不局限于讓材料表面變得更干凈、更容易粘接,、提高印刷質(zhì)量……那么等離子清洗機(jī)究竟算是什么類別呢?說它是工具有沒有道理呢?
等離子清洗機(jī)大多是在常壓或低壓環(huán)境下,,通過外界施加能量,在電極周邊或真空腔體內(nèi)產(chǎn)生強(qiáng)電磁場,,氣體原子的外層電子得以加速或受到碰撞而成為自由電子,、離子、光子等正負(fù)電荷總量相等的等離子集聚體,,通過等離子體的電化學(xué)特性來實現(xiàn)多種工藝目的,。
稱等離子清洗機(jī)為“工具”,想必大概指大氣常壓射流型等離子清洗機(jī)和小型實驗型真空等離子清洗機(jī),,前者因結(jié)構(gòu)簡單,、易操作、可與生產(chǎn)線結(jié)合等優(yōu)點,,在諸多領(lǐng)域都有廣泛應(yīng)用,,使用起來就仿佛扳手、電筆,、老虎鉗等“工具”一樣簡便;后者主要用于科研或院校單位的實驗測試化使用,,體積也較小且能滿足測試使用要求。因此,,兩者結(jié)合來看,,稱等離子清洗機(jī)為“工具”有一定的道理。
使用等離子清洗設(shè)備對固體類材料進(jìn)行表面處理時,,通常會包含物理和化學(xué)反應(yīng),,而化學(xué)反應(yīng)主要包含4種類型,在昨天的文章中向大家介紹了其中兩種,,那么剩下的兩種化學(xué)反應(yīng)該如何理解?又會有哪些具體的實際應(yīng)用呢?
鑒于化學(xué)反應(yīng)方程式解釋起來較為方便且直觀,,誠峰智造接下來將還會通過等離子清洗設(shè)備表面處理過程的反應(yīng)方程式向大家作一說明。下述的反應(yīng)式中大寫字母A,、B,、C,、D、M分別代表不同的物質(zhì);小寫字母s,、g則分別代表物質(zhì)固體形態(tài)和氣體形態(tài)。
一,、化學(xué)反應(yīng)式為A(g)+B(g)→C(s)+D(g)等離子表面處理過程
等離子清洗機(jī)的這一類型的等離子清洗設(shè)備的化學(xué)反應(yīng),,通常會有兩種以上的反應(yīng)氣體參與,產(chǎn)生的等離子體會與固體材料發(fā)生化學(xué)反應(yīng),,這一類的具體工藝應(yīng)用包括等離子增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積即PECVD,、等離子濺射和等離子體聚合。
1.等離子清洗設(shè)備的PECVD工藝
PECVD等離子增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積通常是將兩種或兩種以上的工藝氣體在等離子體狀態(tài)下反應(yīng),,生成新的固體物質(zhì),,在材料基板上形成一層薄膜物質(zhì),這項工藝目前已在光學(xué)膜的制備等方面都有廣泛應(yīng)用,。
2.等離子清洗設(shè)備的濺射工藝
等離子濺射同樣也是使用兩種及以上的氣體電離成等離子體進(jìn)行反應(yīng),,不同的是,其中一種反應(yīng)物種先借助荷能粒子從靶材上濺射下來,,然后再經(jīng)過反應(yīng)生成薄膜,,屬于濺射制膜的范疇。
3.等離子清洗設(shè)備的等離子聚合工藝
關(guān)于等離子清洗機(jī)的聚合工藝,,其實就是反應(yīng)物為有機(jī)單體所發(fā)生的等離子體反應(yīng),。
二、化學(xué)反應(yīng)式為A(g)+B(g)+M(s)→AB(g)+M的等離子表面處理工藝
這一類型的反應(yīng)工藝表示的是固體材料M的表面主要起催化作用,,能夠促進(jìn)氣體分子的離解和復(fù)合等,。關(guān)于這種等離子體反應(yīng),通常應(yīng)用于特殊氣體制備領(lǐng)域,。
內(nèi)置式冷卻系統(tǒng),,提高和保證設(shè)備的使用壽命和性能;
靈活On-Line安裝方式,,電子和離子的能量可達(dá)10eV以上,,材料批處理的效率可高于低氣壓輝光放電裝置效率10倍以上。
應(yīng)用范圍:應(yīng)用于FPC&PCB表面處理,,復(fù)合型材料,,玻璃,ITO等行業(yè)領(lǐng)域的表面處理,;