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脈沖等離子PulsPlasma?系統(tǒng)包括真空爐室,，輔助加熱系統(tǒng),，保溫系統(tǒng)，溫度測(cè)量系統(tǒng),，爐室開(kāi)關(guān)系統(tǒng),，工藝氣體循環(huán)系統(tǒng)，冷卻系統(tǒng),，工藝控制系統(tǒng)以及離子發(fā)生器系統(tǒng),。這其中的離子發(fā)生器系統(tǒng)是普發(fā)拓普公司的**設(shè)計(jì)，可以完全避免打弧現(xiàn)象的發(fā)生而且節(jié)能效果明顯。爐體臥式設(shè)計(jì),，適合處理大型零件的處理,。根據(jù)設(shè)備的大小，加熱控制區(qū)至少配有三組獨(dú)立控制升溫和降溫的加熱器,，通過(guò)這些獨(dú)立控制的加熱器獲得**的均溫性,。

工藝特點(diǎn)：

• 通過(guò)熱壁技術(shù)實(shí)現(xiàn)良好的均溫性

• 能源有效利用，工藝氣體消耗少,，無(wú)污染氣體

• 靈活的滲氮溫度,，溫度范圍 300 ℃ - 600 ℃

• 白亮層可控

• 可處理不銹鋼

• 可處理燒結(jié)鋼

• 可處理鈦合金

• 可處理高合金鋼

設(shè)備特點(diǎn)：

• 不產(chǎn)生打弧，工件表面無(wú)破壞

• 全自動(dòng)工藝控制,，工件內(nèi)部測(cè)溫

• 臺(tái)車(chē)式裝載系統(tǒng),，多達(dá)40噸的裝載量

• 獨(dú)特的加熱和控制系統(tǒng)，至少3區(qū)獨(dú)立的加熱和冷卻區(qū)域

• 控制區(qū)溫度均勻分布

• 獨(dú)有的PulsPlasma?電源,，電壓和電流近乎方波,，幾微妙內(nèi)獲得

• 設(shè)定的全部脈沖電流,，主動(dòng)抑制打弧監(jiān)測(cè)（開(kāi)關(guān)時(shí)間< 0.1 μs）

• 電源可升級(jí)至5年質(zhì)保

• 可在低溫下對(duì)工件表面進(jìn)行等離子清洗

• 航天保溫材料,，熱容量低，功率損耗低,，節(jié)省重量