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四方光電（武漢）儀器有限公司
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四方光電（武漢）儀器有限公司
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產(chǎn)品名稱：原位激光過程氣體分析儀（對(duì)射式）
產(chǎn)品型號(hào)：GasTDL-3100
原位激光過程氣體分析儀（對(duì)射式）產(chǎn)品概述
GasTDL-3100原位激光過程氣體分析儀是基于可調(diào)諧半導(dǎo)體激光吸收光譜技術(shù)（TDLAS）的高性能光學(xué)分析儀器,，采用對(duì)射式設(shè)計(jì)，可用于工業(yè)過程氣體控制,；其響應(yīng)時(shí)間快速,，在原位式測量中一般以秒計(jì)算，避免采樣式測量帶來的時(shí)間延遲,，可在線及時(shí)的反應(yīng)被測氣體濃度,。
原位激光過程氣體分析儀（對(duì)射式）產(chǎn)品特性
采用TDLAS技術(shù)，被測氣體不受背景氣體交叉干擾
原位安裝,，無需采樣預(yù)處理系統(tǒng)
響應(yīng)快速（T90≤1s）,，可實(shí)時(shí)反應(yīng)氣體濃度
實(shí)時(shí)在線測量，氣體濃度不易失真,，測量精度高
在高溫,、高粉塵、高水分,、高腐蝕性,、高流速等惡劣測量環(huán)境下具有良好的適應(yīng)性
隔爆防爆設(shè)計(jì),，安全系數(shù)高
構(gòu)造簡潔，無可動(dòng)元件,，無損耗元件,，免維護(hù)
原位激光過程氣體分析儀（對(duì)射式）技術(shù)參數(shù)
| 性能參數(shù) | |
| 測量組分 | H2S、O2,、CO,、CO2、CH4* |
| 測量原理 | TDLAS |
| 測試范圍 | H2S：0 ~ 100ppm,，0 ~ 5000ppm O2：（0 ～ 5）%VOL （可定制100%） CO：（0 ～ 100）%VOLCO2：（0 ～ 100）%VOL CH4：（0 ～ 20）%VOL |
| 精度 | ≤±1%F.S. |
| 重復(fù)性 | ≤±1% |
| 量程漂移 | ≤±1%F.S. |
| 分辨率 | 0.01%VOL |
| 響應(yīng)時(shí)間 | T90≤1s |
| 工作參數(shù) | |
| 防爆等級(jí) | Ex db IIC T6 Gb / Ex tb IIIC T80℃ Db |
| 安裝方式 | 原位安裝 |
| 環(huán)境溫度 | （-20～ +60）℃ |
| 工作電源 | 24V DC,，24W |
| 吹掃氣體 | （0.3～ 0.8）MPa工業(yè)氮?dú)?/td> |
| 接口信號(hào) | |
| 通訊 | RS485、RS232 |
| 輸出模式 | 2路4-20mA輸出 3路繼電器輸出 |
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有限責(zé)任公司（自然人投資或控股的法人獨(dú)資）信用代碼
914201005519974097法人代表
熊友輝注冊地址
武漢東湖新技術(shù)開發(fā)區(qū)關(guān)東街道鳳凰園一路5號(hào)科夢除氨產(chǎn)業(yè)基地1棟1-5層成立日期
2010-04-19復(fù)制注冊資本
3000萬元人民幣有效期限
2010-04-19 至 2030-04-19經(jīng)營范圍
一般項(xiàng)目 : 技術(shù)服務(wù)、技術(shù)開發(fā),、技術(shù)咨詢,、技術(shù)交流、技術(shù)轉(zhuǎn)讓,、技術(shù)推廣;軟件開發(fā);信息系統(tǒng)集成服務(wù);碳減排,、碳轉(zhuǎn)化、碳捕捉,、碳封存技術(shù)研發(fā);石油天然氣技術(shù)服務(wù);物聯(lián)網(wǎng)技術(shù)研發(fā);機(jī)械設(shè)備研發(fā);儀器儀表制造;儀器儀表銷售;大氣污染監(jiān)測及檢測儀器儀表制造;大氣污染監(jiān)測及檢測儀器儀表銷售;環(huán)境監(jiān)測專用儀器儀表制造;環(huán)境監(jiān)測專用儀器儀表銷售;環(huán)境保護(hù)監(jiān)測;電子產(chǎn)品銷售;電子元器件批發(fā);非居住房地產(chǎn)租賃;貨物進(jìn)出口;技術(shù)進(jìn)出口;進(jìn)出口代理,。（除許可業(yè)務(wù)外，可自主依法經(jīng)營法律法規(guī)非禁止或限制的項(xiàng)目）
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