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特點
頭部集成了薄膜厚度測量所需功能
通過顯微光譜法測量高精度**反射率（多層膜厚度,，光學(xué)常數(shù)）
1點1秒高速測量
顯微分光下廣范圍的光學(xué)系統(tǒng)（紫外至近紅外）
區(qū)域傳感器的安全機(jī)制
易于分析向?qū)?，初學(xué)者也能夠進(jìn)行光學(xué)常數(shù)分析
獨立測量頭對應(yīng)各種inline客制化需求
支持各種自定義
| OPTM-A1 | OPTM-A2 | OPTM-A3 | |
|---|---|---|---|
| 波長范圍 | 230 ~ 800 nm | 360 ~ 1100 nm | 900 ~ 1600 nm |
| 膜厚范圍 | 1nm ~ 35μm | 7nm ~ 49μm | 16nm ~ 92μm |
| 測定時間 | 1秒 / 1點 | ||
| 光斑大小 | 10μm (*小約5μm) | ||
| 感光元件 | CCD | InGaAs | |
| 光源規(guī)格 | 氘燈+鹵素?zé)? | 鹵素?zé)?/span> | |
| 電源規(guī)格 | AC100V±10V 750VA（自動樣品臺規(guī)格） | ||
| 尺寸 | 555(W) × 537(D) × 568(H) mm (自動樣品臺規(guī)格之主體部分) | ||
| 重量 | 約 55kg（自動樣品臺規(guī)格之主體部分） | ||
測量項目：
**反射率測量
多層膜解析
光學(xué)常數(shù)分析（n：折射率，k：消光系數(shù)）
測量示例：
SiO 2 SiN [FE-0002]的膜厚測量
半導(dǎo)體晶體管通過控制電流的導(dǎo)通狀態(tài)來發(fā)送信號,，但是為了防止電流泄漏和另一個晶體管的電流流過任意路徑,，有必要隔離晶體管，埋入絕緣膜,。 SiO 2（二氧化硅）或SiN（氮化硅）可用于絕緣膜,。 SiO 2用作絕緣膜，而SiN用作具有比SiO 2更高的介電常數(shù)的絕緣膜,，或是作為通過CMP去除SiO 2的不必要的阻擋層,。之后SiN也被去除。 為了絕緣膜的性能和精確的工藝控制,，有必要測量這些膜厚度,。
彩色抗蝕劑（RGB）的薄膜厚度測量[FE - 0003]
液晶顯示器的結(jié)構(gòu)通常如右圖所示,。 CF在一個像素中具有RGB，并且它是非常精細(xì)的微小圖案,。 在CF膜形成方法中,，主流是采用應(yīng)用在玻璃的整個表面上涂覆基于顏料的彩色抗蝕劑，通過光刻對其進(jìn)行曝光和顯影,，并且在每個RGB處僅留下圖案化的部分的工藝,。 在這種情況下，如果彩色抗蝕劑的厚度不恒定,，將導(dǎo)致圖案變形和作為濾色器導(dǎo)致顏色變化，因此管理膜厚度值很重要,。
硬涂層膜厚度的測量[FE-0004]
近年來,，使用具有各種功能的高性能薄膜的產(chǎn)品被廣泛使用，并且根據(jù)應(yīng)用不同,，還需要提供具有諸如摩擦阻力,，抗沖擊性，耐熱性,，薄膜表面的耐化學(xué)性等性能的保護(hù)薄膜,。通常保護(hù)膜層是使用形成的硬涂層（HC）膜，但是根據(jù)HC膜的厚度不同,，可能出現(xiàn)不起保護(hù)膜的作用,，膜中發(fā)生翹曲，或者外觀不均勻和變形等不良,。 因此,，管理HC層的膜厚值很有必要。
考慮到表面粗糙度測量的膜厚值[FE-0007]
當(dāng)樣品表面存在粗糙度（粗糙度）時,，將表面粗糙度和空氣（air）及膜厚材料以1：1的比例混合,模擬為“粗糙層”,，可以分析粗糙度和膜厚度。此處示例了測量表面粗糙度為幾nm的SiN（氮化硅）的情況,。
使用超晶格模型測量干涉濾波器[FE-0009]
當(dāng)樣品表面存在粗糙度（粗糙度）時,，將表面粗糙度和空氣（air）及膜厚材料以1：1的比例混合,模擬為“粗糙層”，可以分析粗糙度和膜厚度,。此處示例了測量表面粗糙度為幾nm的SiN（氮化硅）的情況,。
使用非干涉層模型測量封裝的有機(jī)EL材料[FE - 0010]
有機(jī)EL材料易受氧氣和水分的影響，并且在正常大氣條件下它們可能會發(fā)生變質(zhì)和損壞,。 因此,，在成膜后需立即用玻璃密封。 此處展示了密封狀態(tài)下通過玻璃測量膜厚度的情況,。玻璃和中間空氣層使用非干涉層模型,。
使用多點相同分析測量未知的超薄nk [FE-0013]
為了通過擬合*小二乘法來分析膜厚度值（d）需要材料nk。 如果nk未知，則d和nk都被分析為可變參數(shù),。 然而,，在d為100nm或更小的超薄膜的情況下，d和nk是無法分離的,，因此精度將降低并且將無法求出精確的d,。 在這種情況下，測量不同d的多個樣本,，假設(shè)nk是相同的,，并進(jìn)行同時分析（多點相同分析）， 則可以高精度,、精確地求出nk和d,。
用界面系數(shù)測量基板的薄膜厚度[FE-0015]
如果基板表面非鏡面且粗糙度大，則由于散射,，測量光降低且測量的反射率低于實際值,。而通過使用界面系數(shù)，因為考慮到了基板表面上的反射率的降低,，可以測量出基板上薄膜的膜厚度值,。 作為示例，展示測量發(fā)絲成品鋁基板上的樹脂膜的膜厚度的例子,。
各種用途的DLC涂層厚度的測量
DLC（類金剛石碳）是無定形碳基材料,。 由于其高硬度、低摩擦系數(shù),、耐磨性,、電絕緣性、高阻隔性,、表面改性以及與其他材料的親和性等特征,，被廣泛用于各種用途。 近年來,，根據(jù)各種不同的應(yīng)用,，膜厚度測量的需求也在增加。
一般做法是通過使用電子顯微鏡觀察準(zhǔn)備的監(jiān)測樣品橫截面來進(jìn)行破壞性的DLC厚度測量,。而大塚電子采用的光干涉型膜厚計,，則可以非破壞性地和高速地進(jìn)行測量。通過改變測量波長范圍,，還可以測量從極薄膜到超厚膜的廣范圍的膜厚度,。
通過采用我們自己的顯微鏡光學(xué)系統(tǒng)，不僅可以測量監(jiān)測樣品,，還可以測量有形狀的樣品,。 此外,，監(jiān)視器一邊確認(rèn)檢查測量位置一邊進(jìn)行測量的方式，還可以用于分析異常原因,。
支持定制的傾斜/旋轉(zhuǎn)平臺,，可對應(yīng)各種形狀?？梢詼y量實際樣本的任意多處位置,。
光學(xué)干涉膜厚度系統(tǒng)的薄弱點是在不知道材料的光學(xué)常數(shù)（nk）的情況下，無法進(jìn)行精確的膜厚度測量,，對此大塚電子通過使用獨特的分析方法來確認(rèn)：多點分析,。通過同時分析事先準(zhǔn)備的厚度不同的樣品即可測量。與傳統(tǒng)測量方法相比,，可以獲得極高精度的nk,。
通過NIST（美國國家標(biāo)準(zhǔn)與技術(shù)研究院）認(rèn)證的標(biāo)準(zhǔn)樣品進(jìn)行校準(zhǔn)，保證了可追溯性,。
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