日韩av在线高清免费毛片日韩欧美一级成人|女人18以后毛片|国产18女人毛多水多毛片|乱系列人妻视频|中文字幕久久熟女人妻av|91麻豆人妻|校花被我玩弄|父女乱荡|高潮videossex潮喷另类|日本在线观看人妻,黑人侵犯日本人妻,色哟哟视频线在线播放欧美,亚洲欧美国产国产一区第二页

手機(jī)版

掃一掃,,手機(jī)訪問(wèn)

關(guān)于我們 加入收藏

復(fù)納科學(xué)儀器(上海)有限公司

5 年金牌會(huì)員

已認(rèn)證

撥打電話
獲取底價(jià)
提交后,,商家將派代表為您專人服務(wù)
立即發(fā)送
點(diǎn)擊提交代表您同意 《用戶服務(wù)協(xié)議》
當(dāng)前位置:
復(fù)納科技 >技術(shù)文章 >

原子層沉積(ALD)工藝揭秘:從效率、溫度到涂層類型的全方位探討

原子層沉積(ALD)工藝揭秘:從效率,、溫度到涂層類型的全方位探討
復(fù)納科技  2024-01-17  |  閱讀:1962

092155_148727_jswz.jpg


在上篇文章中,,我們結(jié)合具體案例為大家介紹了原子層沉積技術(shù)的概念,、原理和特點(diǎn)。


還有很多朋友提問(wèn)化學(xué)氣相沉積(CVD)和原子層沉積(ALD)的區(qū)別,,我們從反應(yīng)效率,、均勻性以反應(yīng)溫度三方面來(lái)進(jìn)行說(shuō)明。


在化學(xué)氣相沉積( CVD) 中,,前驅(qū)體被同時(shí)且連續(xù)地引入反應(yīng)器中,,這些前驅(qū)體在熱基材表面相互反應(yīng)。沉積速度可能比 ALD 更高,,但涂層的粘附性較差,,不夠致密,而且不均勻,。


由于 CVD 缺乏自鈍化作用,,因此也不可能形成均勻的高深寬比涂層。CVD 工藝由于在溝槽或孔內(nèi)前驅(qū)體濃度較低,,導(dǎo)致厚度比基材表面低得多,。CVD 通常還需要較高的襯底溫度。


092233_668179_jswz.png


ALD有更好的臺(tái)階擴(kuò)散性和溝槽涂層均勻性

本篇文章我們將繼續(xù)從效率,、溫度涂層類型全方位揭秘原子層沉積技術(shù),,歡迎對(duì)原子層沉積技術(shù)感興趣的朋友們和我們一起交流探討。


Part1

原子層沉積工藝的效率

眾所周知,,原子層沉積(ALD )工藝的生長(zhǎng)過(guò)程相當(dāng)緩慢,,大約每 cycle 1 個(gè)原子層需要 1s左右。然而,,一些變體要快得多,,特別是快速優(yōu)化的流動(dòng)反應(yīng)器(1-5 nm/秒)和空間 ALD(1-10 nm/秒),。


然而,由于 ALD 工藝固有的自鈍化特性,,可以將數(shù)千個(gè)基材裝入反應(yīng)器中,,從而使每個(gè)零件的涂覆速度極快、均勻且可重復(fù),!或者,,可以使用卷對(duì)卷 ALD,其中當(dāng)使用許多涂布頭時(shí),,卷速可以很高(與空間 ALD 相比),。


但當(dāng) ALD 應(yīng)用于粉末等高比表面積基底時(shí),由于吹掃需要消耗大量時(shí)間,,因此每個(gè) cycle 的生長(zhǎng)時(shí)間會(huì)更長(zhǎng),,甚至長(zhǎng)達(dá) 1 小時(shí)。


Part2

原子層沉積需要的溫度

在 ALD 中,,適合沉積的基板溫度范圍為室溫至 800℃,,但大多數(shù)沉積發(fā)生在 100-200℃ 左右。當(dāng)溫度高于 100°C 時(shí),,通常用作反應(yīng)物之一的水蒸氣會(huì)從基板和壁上快速蒸發(fā),,因此使用高于 100°C 的溫度,前驅(qū)體之間的循環(huán)速度會(huì)更快,。


在高溫下,,某些材料可以實(shí)現(xiàn)外延生長(zhǎng)。若沉積層與基底晶型匹配,,即可形成單晶涂層,,這就是所謂的原子層外延!


Part3

原子層沉積工藝支持的涂層類型

技術(shù)行業(yè)和學(xué)術(shù)界對(duì)可用于 ALD 的材料進(jìn)行了廣泛的研究,,該列表每年都會(huì)不斷更新,。以下是我們?yōu)槟x可使用的材料:


1氧化物:Al2O3、CaO,、CuO,、Er2O3、Ga2O3,、 HfO2,、La2O3、MgO,、Nb2O5,、Sc2O3、SiO2 、Ta2O5,、TiO2,、VXOY、Y2O3,、Yb2O3,、ZnO 等


2氮化物:AlN、GaN,、TaNX、TiAlN,、TiNX 等


3碳化物:TaC,、TiC 等


4金屬:Ir、Pd,、Pt,、Ru 等


5硫化物:ZnS、SrS 等


6氟化物:CaF2,、LaF3,、MgF2、SrF2等


7生物材料:Ca10(PO4)6(OH)2(羥基磷灰石)等


8聚合物:PMDA–DAH,、PMDA–ODA 等


還可以使用 ALD 進(jìn)行摻雜和混合不同的結(jié)構(gòu),,形成金屬有機(jī)雜化物。


092416_022984_jswz.png

ALD 涂層配方(彩色部分為主體元素可形成的化合物)


關(guān)于 Forge Nano 

Forge Nano 專注于粉末原子層沉積技術(shù)(PALD),,憑借其專有的 Atomic Armor? 技術(shù),,能夠使產(chǎn)品開發(fā)人員設(shè)計(jì)任何材料直至單個(gè)原子。Atomic Armor? 工藝生產(chǎn)的卓越表面涂層使合作伙伴能夠釋放材料的最佳性能,,實(shí)現(xiàn)延長(zhǎng)壽命,、提高安全性、降低成本和優(yōu)化產(chǎn)品的功能,。其科學(xué)家團(tuán)隊(duì)與廣泛的商業(yè)合作伙伴合作開發(fā)定制解決方案,,能夠滿足任何規(guī)模的任何需求,包括從小規(guī)模研發(fā),、實(shí)驗(yàn)室級(jí)別到工業(yè)規(guī)模,、大批量生產(chǎn)。

相關(guān)產(chǎn)品

更多

AFM-SEM原子力掃描電鏡一體機(jī)

型號(hào):AFM-in-Phenom XL

面議
Phenom MAPS 大面積圖像拼接

型號(hào):Phenom MAPS

面議
ChemiSEM 彩色成像

型號(hào):ChemiSEM

面議
飛納電鏡全景拼圖【新品】

型號(hào):Automated Image Mapping

面議

虛擬號(hào)將在 秒后失效

使用微信掃碼撥號(hào)

為了保證隱私安全,,平臺(tái)已啟用虛擬電話,請(qǐng)放心撥打(暫不支持短信)
留言咨詢
(我們會(huì)第一時(shí)間聯(lián)系您)
關(guān)閉
留言類型:
     
*姓名:
*電話:
*單位:
Email:
*留言內(nèi)容:
(請(qǐng)留下您的聯(lián)系方式,,以便工作人員及時(shí)與您聯(lián)系?。?/div>