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0.5微米氮化硼

石墨烯（graphene）和六方氮化硼（h-BN）結(jié)構(gòu)相似但電學(xué)性質(zhì)迥異。由于石墨烯/六方氮化硼平面異質(zhì)結(jié)在基礎(chǔ)研究和器件探索方面具有重要潛力,，因而備受學(xué)術(shù)界關(guān)注,。graphene/h-BN平面異質(zhì)結(jié)的制備一般采用依次沉積石墨烯和h-BN,，或者相反次序來實現(xiàn)，由于后續(xù)薄膜形核控制困難以及生長過程中反應(yīng)氣體很容易對前序薄膜產(chǎn)生破壞,，因而目前文獻(xiàn)報告graphene/h-BN平面異質(zhì)結(jié)的質(zhì)量不盡如人意,。中科院上海微系統(tǒng)所信息功能材料國家重點實驗室的盧光遠(yuǎn),、吳天如等人基于銅鎳合金襯底生長高質(zhì)量h-BN和石墨烯薄膜的研究基礎(chǔ),，通過先沉積h-BN單晶后生長石墨烯，成功制備了高質(zhì)量石墨烯/h-BN平面異質(zhì)結(jié),。

由于銅鎳合金上石墨烯生長速度極快，較短的石墨烯沉積時間減小了對石墨烯薄膜生長過程中對h-BN薄膜的破壞,。同時由于銅鎳合金優(yōu)異的催化能力,，在提高氮化硼單晶結(jié)晶質(zhì)量的同時消除了石墨烯的隨機成核,，使得石墨烯晶疇只在三角狀h-BN單晶疇的頂角處形核并沿著h-BN邊取向生長。課題組與美國萊斯大學(xué)Jun Lou教授等團(tuán)隊合作,，利用合作培養(yǎng)博士研究生計劃，在高質(zhì)量石墨烯/h-BN平面異質(zhì)結(jié)的基礎(chǔ)上,，以石墨烯作為接觸電極,，h-BN作為絕緣襯底,，制備了WSe2/MoS2二維光電探測器，驗證了石墨烯/h-BN平面異質(zhì)結(jié)的質(zhì)量和電學(xué)性能,，為基于該異質(zhì)結(jié)材料平臺開展基礎(chǔ)研究和二維邏輯集成電路應(yīng)用探索提供了基礎(chǔ),。