中國粉體網(wǎng)訊 光學(xué)掩模板，又稱光掩模板,、掩模板,、掩膜版、光掩膜,、光刻掩膜版,、光罩等，在薄膜,、塑料或玻璃基體材料上制作各種功能圖形并精確定位,，以便用于光致抗蝕劑涂層選擇性曝光的一種結(jié)構(gòu)，是微電子制造中光刻工藝所使用的圖形母版,。
掩模板：半導(dǎo)體生產(chǎn)制造的關(guān)鍵材料
光掩模板應(yīng)用十分廣泛,，在涉及光刻工藝的領(lǐng)域都需要使用光掩模板，主要用于集成電路,、平板顯示器,、印刷電路板、微機電系統(tǒng)等領(lǐng)域,。近年來,，半導(dǎo)體技術(shù)的集成化發(fā)展迅速，制造半導(dǎo)體器件的光刻法工藝得到提升,，對半導(dǎo)體器件的材料精度要求也越來越高,。光掩模技術(shù)作為半導(dǎo)體技術(shù)中的重要組成部分，其重要性也越發(fā)凸顯,。
按照基板材料分,，光掩模基板可分為透明樹脂基板和透明玻璃基板,，相較而言,，玻璃基板更為常用,，光掩模玻璃基板根據(jù)玻璃組分，分為合成石英掩�,；�,、硼硅玻璃掩模基板和蘇打玻璃（鈉鈣玻璃）掩�,；宓�,。石英掩模基板是以高純石英玻璃為基材,，具有高透過率,、高平坦度、低膨脹系數(shù)等優(yōu)點,，通常應(yīng)用于高精度掩膜版產(chǎn)品,；蘇打掩�,；逡蕴K打玻璃為基材,，相比石英玻璃具有更高的膨脹系數(shù)、更低的平坦度,，通常應(yīng)用于中低精度掩膜版產(chǎn)品,；硼硅玻璃光掩模基板,，是指在硼硅玻璃原片基礎(chǔ)上,，經(jīng)過加工后制作硼硅玻璃空白掩模基板,。
光掩�,；宓墓に嚵鞒讨饕–AM圖檔處理、光阻涂布,、激光光刻,、顯影、蝕刻,、脫膜,、清洗、宏觀檢查,、自動光學(xué)檢查,、精度測量、缺陷處理,、貼光學(xué)膜等環(huán)節(jié),。
掩模板產(chǎn)業(yè)發(fā)展概況
目前，半導(dǎo)體掩膜版圖形尺寸及精度隨著半導(dǎo)體技術(shù)節(jié)點的演化而逐步提升,，掩膜版精度的提升,，主要表現(xiàn)為對基板材料和生產(chǎn)工藝的進一步升級,。在基板材料上，石英基板與蘇打基板相比,，具有高透過率,、高平坦度、低膨脹系數(shù)等優(yōu)點,，通常應(yīng)用于對產(chǎn)品圖形精度要求較高的行業(yè),，因此基板材料逐漸由蘇打基板轉(zhuǎn)為石英基板。生產(chǎn)工藝方面,，隨著集成電路技術(shù)節(jié)點推動,，對于掩膜版CD精度、TP精度,、套合精度控制,、缺陷管控等環(huán)節(jié)提出了更高的要求。
我國半導(dǎo)體制造業(yè)發(fā)展領(lǐng)先全球,，掩模板市場也保持較高的速度增長,。掩模版是我國集成電路等半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈的重要環(huán)節(jié)，在國家產(chǎn)業(yè),、科技,、金融、財稅等政策的支持下,，近幾年我國產(chǎn)業(yè)發(fā)展較快,，但仍有較大的發(fā)展空間。半導(dǎo)體掩膜版技術(shù)壁壘高,，工藝難度大,，長期被福尼克斯等國外龍頭企業(yè)所壟斷。國內(nèi)有數(shù)家企業(yè)有能力生產(chǎn),，但制備技術(shù)和加工技術(shù)方面差距較大,，產(chǎn)品應(yīng)用也多是中低端市場，不能規(guī)�,；�,、持續(xù)穩(wěn)定提供高端產(chǎn)品。
此外,，掩模版制版技術(shù)上的差距主要體現(xiàn)在關(guān)鍵尺寸（CD）,、缺陷控制、光學(xué)鄰近效應(yīng)較正（OPC）,、相位角,、傳輸率等性能參數(shù)上。除制版工藝技術(shù)差距外,，制版所用設(shè)備和原材料也需要大量進口,，除無塵物資以及部分制版用工藝化學(xué)品能夠國產(chǎn)外,，以電子束曝光機為主的制版設(shè)備，以高純石英板和保護膜為主的制版原材料均依賴進口,，裝載盒等包裝材料也依賴進口,。
總之，光刻掩膜技術(shù)是決定半導(dǎo)體產(chǎn)品技術(shù)發(fā)展的主要動力,，我國必須不斷研究高制程掩�,；寮庸ぜ夹g(shù)與裝備，突破技術(shù)門檻,，打破境外廠商對掩膜版的技術(shù)壟斷,，為半導(dǎo)體等行業(yè)帶來關(guān)鍵材料的配套支持。
2025年3月27日,，由中國粉體網(wǎng)主辦的“2025第三屆集成電路及光伏用高純石英材料產(chǎn)業(yè)發(fā)展大會”將在江蘇東海召開,，屆時來自中國科學(xué)院上海光學(xué)精密機械研究所高端光電裝備部的徐學(xué)科部長，將做題為《高制程掩�,；寮庸ぜ夹g(shù)與裝備》的報告,。
參考來源：
劉志海.我國光掩模玻璃基板的發(fā)展現(xiàn)狀及趨勢
曹可慰.掩模版標(biāo)準(zhǔn)現(xiàn)狀與發(fā)展方向
陳婭麗.光掩膜石英玻璃基板的制造工藝概述
路維光電招股說明書
（中國粉體網(wǎng)編輯整理/初末）
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