中國粉體網(wǎng)訊 光學(xué)掩模板,又稱光掩模板,、掩模板,、掩膜版、光掩膜,、光刻掩膜版,、光罩等,在薄膜,、塑料或玻璃基體材料上制作各種功能圖形并精確定位,,以便用于光致抗蝕劑涂層選擇性曝光的一種結(jié)構(gòu),是微電子制造中光刻工藝所使用的圖形母版,。[更多]
用微信掃碼二維碼分享至好友和朋友圈