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【原創(chuàng)】小小耗材成第三代半導(dǎo)體領(lǐng)域新賽道,?


來源:中國粉體網(wǎng)   空青

[導(dǎo)讀]  了解石墨在半導(dǎo)體制造中的應(yīng)用。

中國粉體網(wǎng)訊  近年來,,國內(nèi)外SiC襯底熱場材料項目越來越多,,前有幄肯新材料攜國產(chǎn)SiC長晶高溫?zé)釄霾牧线M軍海外市場,后有新華錦第三代半導(dǎo)體碳材料產(chǎn)業(yè)園項目落地平度備受關(guān)注,。



新華錦集團生產(chǎn)的等靜壓石墨產(chǎn)品


隨著導(dǎo)電型SiC襯底的逐漸量產(chǎn),,對工藝的穩(wěn)定性、可重復(fù)性都提出更高的要求,。后期,,更要面臨“長快、長厚,、長大”的挑戰(zhàn),,除了理論和工程的提高外,還需要更先進的熱場材料作為支撐,。高純石墨具有耐高溫,、良好的導(dǎo)電性、化學(xué)穩(wěn)定性,,成為了半導(dǎo)體領(lǐng)域的關(guān)鍵材料,。雖是關(guān)鍵材料,但仍依賴進口,。


此前金博股份,、東風(fēng)石墨、志橙半導(dǎo)體等企業(yè)也紛紛在半導(dǎo)體領(lǐng)域用石墨部件有動作,,這似乎預(yù)示著國產(chǎn)化的號角已經(jīng)吹響,!


特種石墨部件:第三代半導(dǎo)體領(lǐng)域新賽道


高純石墨撐“場”


目前,國內(nèi)主流商用碳化硅單晶生長均采用PVT法,。該方法使用感應(yīng)線圈進行加熱,,在渦流作用下高密度石墨發(fā)熱體將被加熱。將碳化硅(SiC)粉體填滿石墨坩堝的底部,,碳化硅(SiC)籽晶粘結(jié)在距原料面有一定距離的石墨坩堝蓋內(nèi)部,,然后將石墨坩堝整體置于石墨發(fā)熱體中,,通過調(diào)節(jié)外部石墨氈的溫度,使碳化硅(SiC)的原料置于高溫區(qū),,而碳化硅(SiC)籽晶相應(yīng)的處于低溫區(qū),。



在這個過程中,坩堝及周圍保溫材料組成的區(qū)域是SiC單晶生長最重要的區(qū)域,,稱為熱場區(qū),。目前國際上SiC單晶生長爐均采用中頻加熱技術(shù),其特點在于晶體生長室可以達到很高的溫度(最高大3000℃),,在這種高溫場景下,石墨及其相關(guān)制品可以承受這樣的高溫,,且其在這樣的高溫下不與SiC升華物發(fā)生反應(yīng),。


SiC長晶爐示意圖


因此,生長SiC使用的坩堝和保溫材料都需要使用高純石墨及以碳為基礎(chǔ)材料的制品,。高純度是半導(dǎo)體石墨的關(guān)鍵要求,,尤其是在晶體生長的過程,石墨中的雜質(zhì)更是晶體品質(zhì)優(yōu)劣的關(guān)鍵決定因素,,雜質(zhì)含量應(yīng)保持在百萬分之五以下,。


多孔石墨降缺陷


SiC晶體生長難度大,研發(fā)周期長,,研發(fā)成本高,,如何降低研發(fā)成本、加快研發(fā)進度,、提高晶體質(zhì)量成為行業(yè)發(fā)展的難題,。近年來,多孔石墨(PG)的引入有效改善了晶體生長的質(zhì)量,,在SiC長晶爐增加多孔石墨板是業(yè)界研究的熱點之一,。


(a)傳統(tǒng)長晶爐,(b)多孔石墨板的長晶爐(圖中4)

來源:韓國東義大學(xué)


韓國東義大學(xué)在論文中提到,,通過SiC源粉上方插入多孔石墨板,,實現(xiàn)了良好的晶體區(qū)域傳質(zhì),可以改善傳統(tǒng)長晶爐所存在的多種技術(shù)難題,。研究發(fā)現(xiàn),,PG的應(yīng)用有助于降低微管和其他缺陷數(shù)量。


此外,,多孔石墨也是解決SiC晶體長厚的核心技術(shù)之一,,因為它能夠平衡氣相組分,隔斷微量雜質(zhì),,調(diào)節(jié)局部溫度,,減少碳包裹等物理性顆粒,,在滿足晶體可用的前提下,晶體厚度能夠大幅增加,。


多孔石墨,,來源:恒普


石墨基座


石墨基座常用于金屬有機物化學(xué)氣相沉積(MOCVD)設(shè)備中支撐和加熱單晶襯底的部件。SiC涂層石墨基座的熱穩(wěn)定性,、熱均勻性等性能參數(shù)對外延材料生長的質(zhì)量起到?jīng)Q定性作用,,因此是MOCVD設(shè)備的核心關(guān)鍵部件。在碳化硅的外延工藝中,,晶片承載在石墨盤上,,有桶式、煎餅式和單晶片石墨盤,。


來源:TOYO TASON


石墨盤一般經(jīng)過SiC涂層,,SiC涂層與石墨部件緊密結(jié)合,延長了石墨部件的使用壽命,,并實現(xiàn)了生產(chǎn)半導(dǎo)體材料所需的高純度表面結(jié)構(gòu),。另外還有TaC涂層,TaC涂層石墨與SiC涂層石墨產(chǎn)品相比,,具有更優(yōu)異的耐熱性,。


離子注入用石墨部件


離子注入是指將硼、磷,、砷等離子束加速到一定能量,,然后注入晶圓材料的表層內(nèi),以改變材料表層物質(zhì)特性的工藝,。組成離子注入裝置部件的材料要求具有出優(yōu)異耐熱性,、導(dǎo)熱性、由離子束引起的腐蝕較少且雜質(zhì)含量低的高純材料,。


來源:寧波弘信新材料科技有限公司


高純石墨滿足應(yīng)用要求,,可用于離子注入設(shè)備的飛行管、各種狹縫,、電極,、電極罩、導(dǎo)管,、束終止器等,。


需求旺盛,國產(chǎn)替代“加速”中


根據(jù)天岳先進公告顯示,,2020 年公司碳粉已100%采購自國內(nèi)供應(yīng)商,,而石墨件、石墨氈向國內(nèi)廠商的采購占比在2020年分別僅為42.5%,、0.83%,。隨著國內(nèi)SiC產(chǎn)業(yè)鏈的快速發(fā)展,,行業(yè)對關(guān)鍵原材料的國產(chǎn)替代需求日益突出。


目前,,碳化硅襯底成本約占整體器件成本的47%,,其中涂層石墨等熱場材料的成本比重較高。


就SiC涂層石墨基座而言,,國際上SiC涂層石墨基座主流供應(yīng)商有荷蘭Xycard,、德國西格里碳素(SGL)、日本東洋碳素,、美國MEMC等企業(yè),,基本占據(jù)了國際市場。


在國內(nèi),,隨著志橙半導(dǎo)體打開了SiC涂層石墨基座國產(chǎn)化的局面,,SiC涂層石墨基座產(chǎn)業(yè)進程加快。


小結(jié)


SiC晶體生長系統(tǒng)主要由石墨坩堝,、籽晶和SiC粉料等組成,其中石墨耗材成本占比非常高,。為確保SiC長晶的成本和產(chǎn)品良品率,,SiC或TaC等新涂層材料需求也增大�,?陀^來講,,國產(chǎn)裝備和耗材的進步空間還很大,但不少企業(yè)也在許多關(guān)鍵瓶頸正過關(guān)邁坎,。


(中國粉體網(wǎng)編輯整理/空青)

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作者:空青

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