中國粉體網(wǎng)訊 近日,國家知識產(chǎn)權(quán)局信息顯示,,西安奕斯偉材料科技股份有限公司取得一項名為“用于最終拋光工藝的處理方法及拋光晶圓”的專利,,可以在對晶圓表面進(jìn)行前序工藝損傷去除和鏡面化修復(fù)的同時減少微分干涉對比缺陷的形成。來源:國[更多]
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